CN103083172A - 远红外浴盆足疗机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种浴盆足疗王在泡脚的同时还可以按摩足上的全部穴位,是亚健康人群使用的保健品。本发明的原理及特征是:采用了足疗机安装在浴盆中央,根据足部反射医学原理,我设计了足下、足上、足左、足右、足前、足后都设计上了按摩轮,五脏六腑的穴位对号入座没问题,相克食物吃到肚,吃到肚内生毒素,足部按摩气血通畅能排毒,腹内毒素全排除,排除毒素不生病,健康长寿有保证。优点是:设计先进科学实用,一户一台足疗机,未病先知能先防,全家老少保健康,天天坚持按摩脚,小小病毒无处藏,健康身体无病咬,要想健康身体好,劝君天天按摩脚,如果真正能做到,幸福一生乐逍遥。
Description
技术领域
本发明设计了一种浴盆中央安装足疗机,在泡脚的同时,还可以按摩足上的全部穴位,是亚健康人群使用的保健品。
背景技术
目前市场上有我设计的足疗机,专利号为(ZL 200730149872.5),(ZL 200620012103.0),
市场上的浴盆只能泡脚或足下有两个小轮,技术不足,这次设计的新工艺、新材料填补了技术不足的空白。
发明内容
本发明解决的技术问题是:提供一种我设计的足疗机,安放在我设计的浴盆中央,浴盆与足疗机设计在一起,体现了多功能,也可以说多功能浴盆足疗王。
为解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:一种浴盆足疗王,采用了优质无毒塑料加工浴盆和足疗机所需要的各种零件,如:大板、足下按摩轮、足上按摩轮足左侧按摩轮、足右侧按摩轮、三通、上盖、采购压力弹簧,不锈钢螺丝、螺母、用4块大板2根螺杆组成双足各自安装按摩轮用的支架,把足疗机所需要的零件安装在4块大板组成的支架上,把足疗机安装在浴盆中央,浴盆里设计上了电热板,把水烧热并设计温度计,了解水温,在水热后断电,保证安全。
说明书附图
图1:是大板,图2:是足下按摩轮,图3:是足上按摩轮,图4:是足左侧、足右侧按摩轮,图5:是三通,图6:是用硅胶制成的轴承,图7:是轴杆,图8:是长螺丝杆,图9:是带帽螺丝杆,图10:是弹簧,图11:是上盖,图12:是电热板,图13:是导线,图14:是温度表,图15:是足疗机,图16:是浴盆,图17:是多功能远红外浴盆足疗王。
具体实施方式
本发明是这样实施的。采用了优质塑料和远红外粉混合在一起加工浴盆,加工按摩轮,如说明书附图,图1是板,用4块板与图8.长杆螺丝连接组成4块板2根杆组成安装按摩轮用的支架,图2.是足下按摩轮,两端安装在图9.用硅胶制成的轴承,图4.是足左侧,足右侧按摩轮安装在图1.大板一端圆轴上,用图10.上盖安装在大板圆轴上的小孔里,挡住足侧轮,图9.是带帽螺丝穿过图10.弹簧安装在大板一端圆管中央,螺帽被弹簧下端挡住,弹簧上端被大板圆管上端小孔挡住,螺杆穿过圆管上端小孔与上面图5.三通连接,三通的另一端与图3.足上按摩轮连接,在按摩时,双脚伸进足上与足下按摩轮中间来回滚动,弹簧产生压力,达到了足上按摩轮的按摩功能,图12.是电热板与图13.导线连接,图13.导线的另一端与图14.温度表连接,图15.足疗机安装在图16.浴盆中央,组成了一台多功能远红外浴盆足疗王。
优点是:设计先进科学实用,远红外浴盆泡脚能杀菌消炎,足疗机设计是根据足部反射医学五脏六腑反射脚,穴位分布足上找,这次设计的新工艺,足下、足上、足左、足右、足前、足后都设计上了按摩轮,足疗机按摩五脏六腑能排毒,腹内毒素全排除,排除毒素不生病,一户一台足疗机,未病先知能先防,全家老少保健康,天天坚持按摩脚,小小病毒无处藏,健康身体无病咬,要想自己身体好,劝君天天按摩脚,如果真正能做到,幸福一生乐逍遥。
Claims (2)
1.一种足部反射医学,浴盆里设计上了足疗机,其特征在于:把优质无毒塑料和远红外份混合在一起加工浴盆和用4块板2根杆组成双足各自安装按摩轮用的支架,把足疗机的各部件安装在支架上,在把足疗机安装在浴盆中央。
2.根据权利要求1所述的一种足疗机,其特征还是在于:一种板的一端圆管型杆是用来安装足侧轮用的,圆管型轴杆上有小孔,上盖下端的圆杆扎在小孔里挡住了足侧轮,板的另一端圆管是装弹簧用的,弹簧中间螺杆贯穿,螺帽在弹簧下端挡住,弹簧上端被圆管小孔挡住螺杆贯穿小孔与三通连接,三通的另一端与足上按摩轮两端轴杆连接,足上按摩轮在按摩时上下行动,弹簧产生压力,达到足上按摩轮的按摩功能,按摩轮两端镶轴承,轴杆贯穿按摩轮两端伸出来的轴杆安装在支架上,用4块板2根杆组成双足各自安装按摩轮用的支架,分别把足上、足下、足左、足右按摩轮安装在支架上,在把足疗机安装在浴盆中央,这样连接组成了一台远红外浴盆足疗王。
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Citations (5)
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2012
- 2012-12-13 CN CN2012105360979A patent/CN103083172A/zh active Pending
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C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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Application publication date: 20130508 |