CN103065699A - 放射屏蔽组件和方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及放射性物质的操作。例如，本发明的放射屏蔽罩可包括主体，该主体在其内具有用于容纳放射性物质的空腔。到该空腔的开口可限定在该主体中。基座可松开地结合到该主体（通常朝向开口），以至少部分地密封在该空腔内的放射性物质。在放射屏蔽罩包括多个可互换基座的情况中，基座中的一个可具有比另外的基座较短的长度和较轻的重量中的至少一个。该基座可被设计以密封在腔内的多于一个的尺寸和/或形状的容器。该基座可包括手柄，以便于手抓紧放射屏蔽罩。该基座可包括保护部，以减少暴露于来自手工操作放射屏蔽罩的放射线。

Description

放射屏蔽组件和方法

本申请为国际申请日为2006年7月26日、申请号为200680027711.1、发明名称为“放射屏蔽组件和方法”的在先申请的分案申请。

技术领域

本发明一般涉及放射屏蔽系统，更具体地涉及在用于核医学的放射性同位素的生产中使用的放射屏蔽系统。

背景技术

核医学是医学的分支，其使用放射性物质（如放射性同位素）用于各种研究、诊断和治疗应用。放射性药物学生产各种放射性药物，其通过使一个或多个放射性物质和其它物质结合以适合用在特定医疗程序中的放射性物质。

例如，放射性同位素发生器可被用于获得包括来自母体放射性同位素（如钼-99）的子代放射性同位素（如锝-99m）的溶液，其通过放射性衰变产生子代放射性同位素。放射性同位素发生器可包括柱状物，其包括吸收在载体介质上的母体放射性同位素。载体介质（如氧化铝）对母体放射性同位素具有比对子代放射性同位素相对较高的亲和力。由于母体放射性同位素衰变，产生一定量的需要的子代放射性同位素。为了获得需要的子代放射性同位素，合适的洗提液（如消毒盐溶液）可被穿过柱状物以从载体洗提子代放射性同位素。得到的洗出液包括子代放射性同位素（如以溶解的盐的形式），其使得洗出液对于准备放射性药物是有用物质。例如，该洗出液可被用作溶液中的放射性同位素源，适用于静脉注射到病人，用于各种诊断和/或治疗程序。

在获得来自发生器的一定量的洗出液的方法中，排空的容器（如洗提瓶）可被连接到发生器的释放点（tapping point）。例如，发生器上的空心针可被用于刺穿排空的容器的隔膜，以建立容器和发生器柱状物之间的流体相通。容器的部分真空可把洗提液从洗提液储液器中穿过柱状物抽出，且进入瓶内，由此从柱状物洗提子代放射性同位素。容器可被容纳在洗提外壳内，其为用于把工人从加载在容器后的洗出液发出的放射线屏蔽开的放射屏蔽装置。

在洗提完成后，洗出液可被分析。例如，洗出液的放射性可通过传送容器到校准系统而被校准。校准可包括从屏蔽组件去除容器和将其放置在校准系统内，以测量洗出液发出的放射性的量。穿透测试可被进行以确定洗出液内的母体放射性同位素的量没有超过可接受的容许水平。该穿透测试可包括传送容器到薄屏蔽杯内（如有效屏蔽子代同位素发出的放射线但不能屏蔽母体同位素发出的更高能量的放射线的杯）和测量穿过杯的屏蔽的放射线的量。

在校准和穿透测试后，容器可被传送到分配屏蔽罩。该分配屏蔽罩把工人从容器内的洗出液发出的放射线屏蔽开，同时该洗出液被从容器传送到一个或多个其它容器（如注射器），其可被用于准备、传送和/或注射放射性药物。典型地，分配过程包括连续地传送洗出液到很多不同的容器内（如，断断续续贯穿工作日的过程）。与用于洗提相比，使用不同屏蔽装置用于分配的实践起源于下面惯常的工业实践，即在分配洗出液到一个容器和另一个之间的空转期间，在工作面（如桌面）上颠倒放置屏蔽容器。现有技术的用作分配屏蔽罩的洗提屏蔽罩不是导电的，其中的一个原因是它们在颠倒时是不稳定的。例如，一些洗提屏蔽罩具有较重的基座，当洗提屏蔽罩颠倒时其导致相对较高的重心。另外，一些洗提屏蔽罩具有的上表面不适于放置在平坦工作面上（如具有凸起的上表面，其使得如果洗提屏蔽罩被颠倒放置在平坦表面上时不稳定）。放射性药物学已通过维持洗提屏蔽罩的供应和另外的分配屏蔽罩的供应来解决该问题。

在柱状物内的放射性同位素耗尽前，相同的发生器可被用于填充许多洗提容器。在任意时刻需要的洗出液的体积可变化，这依赖于需要被放射性药物填充的规定的数量和/或发生器柱状物内的放射性同位素的剩余浓度。改变从柱状物内抽出的洗出液的量的一个方式是改变用于接收该洗出液的排空容器的体积。例如，容器体积从约5ml变化到30ml是普遍的，且具有5ml、10ml或20ml容积的标准容器在工业中被普遍地使用。具有要求的体积的容器可被选择，以便于从发生器装状物中分配相应数量的洗出液。

不幸地，容器的多个不同尺寸的使用具有相当的缺点。例如，放射性药物学试图使用常规的屏蔽装置，使得其可以与不同尺寸的容器一起使用。已被实践的一个方案是在手头保持多种不同的隔离物，其可被插入屏蔽装置内，以在使用较小的容器时临时地占据放射屏蔽装置内的额外的空间。不幸地，这增加了复杂性且增加混淆的危险，因为该隔离物可能混淆、丢失、破损或用于错误的容器，且可能对于使用是相当不方便。例如，一些传统隔离物环绕屏蔽装置内的容器的壁，其为标签可被贴到该容器上的地方。相应地，隔离物可损坏标签和/或接触用于把标签贴附到容器的粘合剂，结果导致该隔离物粘到容器的壁上或以别的方式弄坏放射屏蔽装置。

传统放射屏蔽装置的另一问题是操作分配屏蔽罩可能稍微不方便。然而，洗提屏蔽在典型工作日内可被操作一次到十次，其限制洗提屏蔽罩的人机工程学的重要性，分配屏蔽罩在典型工作日内可被操作数百次。这使得分配屏蔽罩的人机工程学重要。现有技术的分配屏蔽罩可相对地较重（如3-5磅）且具有功利主义的设计，其集中在放射屏蔽和功能上而非操作的容易性。例如，分配屏蔽罩可以是圆柱形、具有尖锐的边缘、且缺乏用于加紧他们的明显的位置。由于工人对分配屏蔽罩的重复操作，前述不方便的累计可造成不舒服、伤害、或其它问题。

此外，每次工人举起分配屏蔽罩以从放置在其中的容器传送洗出液到其它容器时，工人暴露于穿过用于进出容器的开口从放射屏蔽罩逸出的放射线。通过在离开口相对较远而不是离开口相对较近的位置夹紧分配屏蔽罩，工人在分配过程中可大大减少暴露于放射线。不幸地，现有技术的分配屏蔽罩几乎不阻止靠近开口夹紧分配屏蔽罩的实践，把责任留给单个工人在操作分配屏蔽罩时留心手的位置。

因此，需要改进的放射屏蔽系统和操作容纳一种或多种放射性同位素的容器的方法，其有助于安全、更方便、和/或更可靠地操作放射性物质。

发明内容

本发明的一个方面涉及放射屏蔽系统，其被设计以便于通过灵活地和方便地在防护放射屏蔽罩中封闭放射性物质的方式，安全操作放射性物质。该系统包括在其中具有用于接收放射性物质的空腔的结构（宽泛地称为主体）。到该空腔的两个开口被设置在该主体内，其中的第一开口的尺寸小于第二开口。该系统还包括一对基座结构，用来可松开地结合到主体的大致第二（较大的）开口处。基座中的一个长度比另一个短和/或重量轻。

本发明的另一方面涉及操作在放射屏蔽主体内的空腔内形成的放射性同位素的方法。有两个进入该空腔的开口，其中的一个的尺寸小于另一个。容器穿过较大的开口插入空腔，且装填基座被可松开地结合到主体的通常较大的开口处，以至少部分地将容器密封在空腔内。装填基座被构造，以限制放射线穿过两个开口中的较大的开口从空腔逸出。放射性同位素穿过两个开口的较小的开口装入空腔中的容器，同时装填基座附着于主体。装填基座从主体分离。分配基座可松开地结合到主体的两个开口中通常较大的开口处，以至少部分地把容器封闭在空腔内。分配基座被构造，以限制放射线穿过较大的开口从空腔逸出。分配基座具有比装填基座较短的长度和较轻的重量中的至少一个。至少一些放射性同位素穿过到空腔的第一开口从容器去除，而不从空腔去除容器，且同时分配基座结合到主体。

本发明的又一方面涉及放射屏蔽组件，其用于方便地和安全地分配放射性物质。该系统包括放射屏蔽主体，其内具有用来接收放射性物质的空腔。存在穿过主体进入该空腔的开口。手柄结合到主体，且被构造以便于在其运动期间抓紧和握住主体。该手柄具有抓紧面和位于抓紧面与到空腔的开口之间的护指部，其一方面被称为用来阻止靠近开口抓紧该组件。

在再一方面，本发明涉及放射屏蔽组件，其提供了使该组件适于不同形状和/或尺寸的封闭容器的灵活性。该组件具有主体，其至少部分限定用于保持放射性物质的空腔。存在穿过主体进入空腔的开口。主体被构造，以限制放射线穿过主体从空腔逸出。该组件还包括基座，用来可松开地结合到主体的通常开口处。该基座被构造，当该基座被沿相对于主体的第一方位结合到主体和当该基座被沿相对于主体的不同的第二方位结合到主体时，该基座用来限制放射线穿过开口从空腔逸出。该基座被构造，当该基座沿第一方位结合到主体时，定位第一容器在空腔内的预定位置，和当该基座沿第二方位结合到主体时，定位第二容器在空腔内的预定位置。第一和第二容器的高度和/或直径彼此不同。

本发明的再一方面涉及操作放射性物质的方法。该方法包括放置第一容器在放射屏蔽主体内的空腔内。存在到主体内的空腔的开口。第一容器具有第一尺寸和第一形状。基座可松开地结合到主体通常开口处，同时该基座处于相对于主体的第一方位。该基座配置成当基座沿第一方位结合到主体时，把第一容器定位在空腔内的预定位置。基座从主体分离且第一容器被从空腔去除。第二容器具有不同于放置在空腔内的第一容器的形状和/或尺寸。基座被可松开地结合到主体通常开口处，同时该基座处于相对于主体的不同于第一方位的第二方位。该基座配置成当该基座沿第二方位结合到主体时，把第二容器定位在空腔内的预定位置。

本发明的再一方面涉及使用放射屏蔽组件的方法，例如此处描述的放射屏蔽组件中的一个。关于该方法，放射屏蔽组件的第一元件可松开地结合到放射屏蔽组件的第二元件，同时第一元件处于第一方位（相对于第二元件），以限定第一尺寸和第一形状的空腔。此外，第一元件可松开地结合到第二元件，同时第一元件处于不同于第一方位的第二方位（相对于第二元件），以限定空腔，其第二尺寸和第二形状中的至少一个分别不同于第一尺寸和第一形状。

对于本发明的上述方面存在各种改进的特征。其它特征也可合并在本发明的上述方面中。这些改进和附加特征可单独存在或存在于任意组合中。例如，下面讨论的关于本发明的图示的任意实施例的各种特征可合并到本发明的任意方面。

附图说明

图1是本发明的放射屏蔽系统的透视图；

图2是图1的系统的各种元件的透视图；

图3是设置用于形成洗提屏蔽罩的图1的系统的横截面视图；

图4是类似于图3的横截面，但是具有设置用来形成分配屏蔽罩的系统；

图5是类似于图3的横截面，其具有设置用来形成洗提屏蔽罩和配置用来屏蔽较小容器的系统；

图6是类似于图4的横截面，其具有配置用来形成分配屏蔽罩和另外配置用来屏蔽较小容器的系统；

图7是本发明的放射屏蔽系统的第二实施例的透视图；

图8是图7的系统的各种元件的透视图，其具有配置用来形成分配屏蔽罩的元件；

图9是图7的系统的各种元件的横截面，其具有配置用来形成洗提屏蔽罩的元件；

图10是图8所示的分配屏蔽罩的横截面；

图11是人在分配过程中用屏蔽罩的手柄抓紧图8所示的分配屏蔽罩的透视图；和

图12A-12E显示了类似于图7中所示的系统的分配屏蔽罩的各种分配基座，每个具有不同的夹紧增强结构。

对应的参考标号在整个附图中表示对应的零件。

具体实施方式

参考附图，首先特别是图1-6，本发明的放射屏蔽系统的一个实施例，通常用101表示，被示出为后装填洗提和分配屏蔽罩的组合。系统101可包括容器（如洗提和/或分配瓶），其包括放射性同位素（如锝-99m），该同位素在系统内的放射屏蔽腔内放出放射线，由此限制放射性同位素放出的放射线从系统逸出。因此，系统101可被用于限制操作者暴露于一种或多种放射性同位素或其它放射性物质的辐射。例如，系统101的零件可被装配，以形成洗提屏蔽罩103，且系统的其它零件可被装配以形成分配屏蔽罩105，如后面详细讨论。

放射屏蔽系统101包括主体111，其具有至少部分定义在其中用于接收放射性物质的空腔113。附图中所示的实施例还包括帽115和一对可互换基座117、119。主体111、帽115和基座117、119可用于基本上封闭空腔113中的容器C1（在图3和4中用虚线表示）。

主体111可包括环绕的侧壁121，其至少部分限定空腔113。图示的主体111的侧壁121基本上是管状，但该侧壁可具有其它形状（如多边形、锥形等）。侧壁121可适用于限制放射线从空腔113穿过侧壁逸出。例如，在一些实施例中，侧壁121可包括（如构成）一种或多种放射屏蔽材料（如，铅、钨、贫铀和/或其它物质）。放射屏蔽材料可以是以一个或多个层的形式（未示出）。一些或所有的放射屏蔽材料可以是充满一种或多种放射屏蔽材料（如可模压的注满塑料的钨）的基底的形式。根据料想的在空腔113内放出的放射线的种类和数量，以及对于放射线暴露的容忍度，本领域技术人员知道如何设计主体111，来包括足够量的一种或多种选择的放射屏蔽材料，以限制穿过侧壁121逸出的放射线的量到要求的水平。

主体111的一端可具有到空腔113的第一开口，且主体的第二端可具有到空腔的第二开口129，如图3-6所示。第二开口129的尺寸可大于第一开口127。例如，第一开口127的尺寸可防止一个或多个容器（如容器C1（图3和4）和C2（图5和6））通过，同时允许针尖（未示出）的通过，例如该针可以是放射性同位素发生器的释放点上的针。作为例子，图示的主体111包括环状凸缘131，其从靠近侧壁顶部的侧部121径向向内延伸。（此处使用的“顶部”和“底部”是用于指图3中的系统101的方位，而不是要求系统或其元件的任一特定方位）。

第一开口127，其在图示的实施例中是大致的圆形开口，其可被凸缘131的内边缘限定。凸缘131可在开口127具有室133，以便于把针尖引导向接收在空腔内的容器的可刺穿隔膜（未示出）。靠近凸缘131的主体139的内表面可以为台阶状、锥形或其组合，以有助于当容器被装进空腔113内时对齐第一开口127和容器的顶部。凸缘131可以与侧壁121整体成形或分开制造并安装到那里。凸缘131可包括放射屏蔽材料，如上所述，以限制从空腔逸出的放射线。然而，凸缘131可以是对于放射线是相当可透过的，这没脱离本发明的范围。第二开口129的尺寸允许一个或多个容器（如C1和C2）通过，以把容器装进空腔113或从中取出。例如，第二开口129可具有大约与环绕的侧壁121的内部相同的尺寸、形状和横截面积。

帽115可被构造用于与主体111可松开地结合，盖住其开口127。例如，帽115可被构造用于可松开地结合到主体111，或者其可被设计用来设置与主体接触而没有与其的任何连接。帽115可以很多不同的方式构造。作为合适的帽结构的一个例子，图3和5所示的帽115包括磁性部分141，当该帽被放置在主体的端部上以盖住第一开口127时，该磁性部分吸住主体111（如凸缘131），由此阻止帽离开主体的运动。在一些实施例中，主体111可由被帽115的磁性部分141吸引的材料构成。在其它实施例中，主体111可包括：具有对于帽的磁性部分141相对较弱的吸引性或没有吸引性的材料；和吸引元件，其具有对磁性部分相对较强的吸引性的材料（如铁等）制成，该元件模制到或以其它方式固定到主体，使得帽115的磁性部分能吸引主体。此外，帽和/或主体可装备有棘爪，螺纹卡扣和/或摩擦固定元件或其它固定件，其可被操作以可松开地结合帽到主体，而不使用磁力，这不脱离本发明的范围。如图2中所示，帽可从主体去除，以暴露第一开口127，且允许穿过第一开口进入空腔113内的容器。

帽115可被构造，以在帽放置在主体111上时限制在空腔113内放出的放射线穿过第一开口127逸出。例如，帽115可包括一种或多种放射性吸收材料，如上所述，以达到对放射线的要求的水平的防护。为了减少成本，放射性吸收材料可仅设置在帽的中心部分（如当帽与主体结合时与第一开口对齐的部分），同时环绕放射性吸收中心部分的环形外部可由较便宜的和/或重量较轻的非放射性吸收材料制成，但这不是本发明的实践所要求的。

参考图3，第一基座117可被构造用来可松开地结合到主体111（例如作为第二开口129的闭合物），以在处理过程（例如洗提过程）中封闭空腔113中的容器C1，其中放射性物质被装进该容器。因此，第一基座可被称为“装填基座”，尽管该术语的使用不意味着当第一基座结合到主体时，该系统限制于使用在洗提或其它处理中。类似地，通过结合装填基座117到主体形成的组件103可被称为“洗提屏蔽罩”，尽管该术语的使用不限制该组件使用在洗提或其它装填处理中。

如图3-6中所示，图示的装填基座117包括延伸元件151，其具有设置在其相对端部的有放射屏蔽罩153、155。放射屏蔽罩153、155可被永久地结合到延伸元件151，如图所示，或可松开地结合到延伸元件（如通过螺纹或其它合适的可松开连接）。图示的延伸元件151是一般的管状结构，且可由一个或多个相对便宜、重量轻、耐久的材料构成，例如耐冲击聚碳酸酯材料（如Lexan）、尼龙和/或其它。装填基座117、或其部分（如延伸元件151）可被覆盖有夹紧增强覆层（未示出）。例如，装填基座117可覆盖有热塑性弹性体（如Santoprene其为Advanved Elastomer Systens，LP of Akron，Ohio的商品），以便于手工抓紧装填基座。延伸元件可具有其它形状（如多边形、锥形等）而不脱离本发明的范围。同样，延伸元件可由其它材料制成而不脱离本发明的范围。

装填基座117可被构造用于沿第一方位（图3）可松开地结合到主体111，以容纳第一容器C1在空腔113内，且还被构造用来沿第二方位（图5）可松开地结合到主体，以容纳第二容器C2在与第一容器C1具有不同的尺寸的空腔内。例如，装填基座117可包括一个或多个连接器159（如螺纹、插栓连接突起等），当装填基座具有相对于主体的第一方位时，该连接器可被操作以可松开地结合装填基座到主体111，并且当装填基座具有相对于主体的第二方位时（如其中装填基座已从第一方位旋转约180度的方位），可松开地结合装填基座到主体。

如图3和5所示，当装填基座117沿第一方位（图3）结合到主体111时，放射屏蔽罩153中的一个可通常地定位在第二开口129处，且当装填基座沿第二方位（图5）结合到主体时，其它放射屏蔽罩155可通常地定位在第二开口处。另外，放射屏蔽罩153、155可每个分别包括封闭表面153a、155a，当装填基座被结合到主体111时，其通常地定位在第二开口129处，且向内朝向空腔113，因此相应的放射屏蔽罩被通常地定位在第二开口处。放射屏蔽罩155中的一个的封闭表面155a可被设计进一步延伸到开口229内，超过另一放射屏蔽罩153的封闭表面153a，使得空腔113的尺寸和/或形状可通过选择性地沿第一或第二方位结合装填基座117到主体111而被可控制地变化。

当图示的实施例的装填基座117沿图3所示的方位被结合到主体111时，封闭表面153a和第一开口127之间的距离D1大于当装填基座沿图5所示的方位结合到主体时的另一封闭表面155a和第一开口之间的距离D2。这可便于具有不同高度的容器C1、C2的系统101的使用。例如，通过结合装填基座117到主体111，放射屏蔽罩153、155中被选择的一个通常地定位在第二开口129处，其可定位具有不同高度的容器，因此它们处于相对第一开口的预定的位置（如靠近第一开口，接触或紧接凸缘131等），其可便于容器连接到放射性同位素发生器。

同样，装填基座117可被构造，使得沿基座的第一方位空腔容纳具有第一直径的第一容器，并且沿第二方位空腔容纳具有不同于第一直径的第二直径的第二容器。例如，图3-6所示的实施例的放射屏蔽罩155中的一个具有侧壁161，其被设置使得当装填基座117沿第二方位结合到主体时延伸到第二开口229内。侧壁161的内表面具有相对与第二开口229减少的横截面面积。因此，放射屏蔽罩155的封闭表面155a的特征在于形成杯状结构163，其尺寸可以接收容器C2的底端，如图4所示。杯状结构163可适用于把容器C2保持在空腔内预定的位置（如，使得容器的底部对齐第一开口127），其可便于穿过第一开口插入的针尖刺穿容器上的隔膜（未示出）。

相反，其它放射屏蔽罩153的封闭表面153a可被设置为基本平坦的表面，其基本上与空腔113的横截面共同延伸。如图3所示，主体111的侧壁121可被用于定位较大直径的容器C1在空腔113的预定位置（如，使得容器的底部对齐第一开口127）。在其它实施例中，每个放射屏蔽罩可被设计，以包括杯状结构（具有相同或不同直径）而不离开本发明的范围。该系统可被设计，以在相同的预定位置或不同的预定位置保持两个不同的容器。尽管图示的系统被设计使得较小直径的容器也是较短的容器，但该系统也可被设计使得较高的容器直径较小而不脱离本发明的范围。类似地，该系统可被适用于容纳不同尺寸的容器，其高度相同而仅直径不同，反之亦然，这不脱离本发明的范围。而且，封闭表面可不同于放射屏蔽罩而不脱离本发明的范围。

当装填基座沿第一方位、第二方位、和/或更合适的沿两个方位被结合到主体111时，装填基座117可被适用于限制放射线从空腔113穿过第二开口129逸出。例如，放射屏蔽罩153、155可包括一种或多种放射性吸收材料（如上所述），使得当装填基座117沿第一方位结合到主体111时，第一放射屏蔽罩153限制放射线穿过第二开口129逸出，并且使得当装填基座沿第二方位被结合到主体时，第二放射屏蔽罩155限制放射线穿过第二开口逸出。放射屏蔽罩153、155可适用于吸收和/或反射表面上的放射线，该表面基本上与第二开口129共同延伸。例如，放射屏蔽罩153、155可被设置，以具有与第二开口129基本上相同的横截面形状和尺寸，且具有形成在其上的连接器159，使得放射屏蔽罩可松开地结合到主体111，以用放射性吸收材料塞住第二开口。然而，在本发明的另一实施例中，放射屏蔽罩可包括放射屏蔽材料，其被设置以基本上在第二开口129上而不被接收在其中。本领域技术人员知道如何设计装填基座117，以包括足够量的一种或多种放射性屏蔽材料在适当的位置，以限制穿过第二开口129的放射线的逸出到需要的水平。

参考图3，装填基座117可被用于增加系统101相对于主体的长度的总长度。例如，装填基座117的延伸元件151可包括环绕的侧壁171，其通常对应于主体111的环绕的侧壁121。如本领域技术人员已知的，一些放射性同位素发生器被设计，以与具有特定最小长度（如6英寸）的屏蔽组件工作。装填基座117可与主体111装配，其可对于特殊的放射性同位素发生器太短，不能满足发生器的最小长度要求。延伸元件151可对于放射线是可透过的，因为系统101的其它零件（如放射屏蔽罩153、155）可实现要求水平的放射屏蔽。使用相对较轻重量（如非放射性吸收）的延伸元件151以提供需要的长度，与类似的由相对较重和/或更昂贵的材料（如放射性吸收材料）构成的组件相比较，允许沿特定放射性同位素发生器要求的整个最小长度，洗提屏蔽罩103的重量较轻和/或较不昂贵。在装填基座117内有空隙173以减轻重量。

参考图4和6，第二基座119可被构造，用于可松开地结合到主体111，以在分配过程中封闭容器在空腔113内。因此，第二基座119可称为“分配基座”，尽管该术语不意味着当第二基座被结合到主体时，该系统被限制使用在分配过程。类似地，分配基座119结合到主体111形成的组件105可被称为“分配屏蔽罩”，尽管该术语的使用不限制该组件使用在分配或其它过程中。

例如，图示的分配基座119包括单个放射屏蔽罩181，当分配基座结合到主体时，其作为主体111的第二开口129的闭合物。分配基座119被构造，以沿第一方位选择性地可松开地结合到主体111，其中分配屏蔽罩105容纳第一容器C1（图4），且还被构造，以沿第二方位选择性地可松开地结合到主体，其中分配屏蔽罩105容纳第二容器C2（图6），第二容器具有与第一容器不同的尺寸和/或形状。例如，参考图4和6，分配基座119可包括连接器183（如螺纹、插栓连接突起等），其可被操作，以在分配基座处于相对主体的第一方位时（图4）可松开地结合分配基座到主体111，并且在分配基座处于相对主体的第二方位时（图6）可松开地结合分配基座到主体，第二方位不同于第一方位（如旋转约180度）。

此外，当分配基座119沿第一方位结合到主体111时，第一封闭表面可通常地定位在第二开口129处，且朝向空腔113的内部。当分配基座沿第二方位结合到主体时，第二封闭表面187可通常地定位在第二开口处，且朝向空腔的内部。图示的分配基座119的封闭表面185、187的结构类似于装填基座117的对应的封闭表面153a、155a，因此分配基座可适用于以与装填基座相同的方式容纳不同的容器。因此，封闭表面185、187可设置以延伸不同的距离进入第二开口129，由此允许各个封闭表面185、187和第一开口127之间的距离选择性地与所述的装填基座117相同的方式变化。

侧壁189延伸超出且环绕封闭表面187中的一个的圆周，由此形成杯状结构195，类似于所述的装填基座117的杯状结构163。杯状结构195可用于定位容器C2在空腔113内预定的位置（如，使得容器底部对齐第一开口），其与所述的装填基座的方式相同。尽管图示的实施例的封闭表面153a、155a、185、187的尺寸和形状类似，但还可能分配基座的封闭表面可以与装填基座的对应的封闭表面的尺寸和/或形状不同，这不脱离本发明的范围。

分配基座119可以基本上比装填基座117短且轻。例如，分配基座119可没有类似于装填基座117的延伸元件151的结构，因为仅在放射性同位素发生器被使用时，需要满足放射性同位素发生器要求的最小长度的需要。延伸元件的省略使得分配基座119较短或较轻。同样，在分配基座119内使用单个放射屏蔽罩181还减少了分配基座相对于装填基座117的长度和重量，装填基座具有两个放射屏蔽罩153、155。分配屏蔽罩105（图4）的组合重心191比洗提屏蔽罩103(图5)的组合中心193更靠近第一开口127。这可以使得分配屏蔽罩105在颠倒放置在平坦表面上时（如图4和6所示）比洗提屏蔽罩103颠倒放置在相同的表面上时更稳定。

放射屏蔽系统101可用于提供用来保持放射性同位素的容器的放射屏蔽。例如，容器C1（如排空的洗提瓶）可通过主体111内的第二开口129装进空腔113。在容器C1处于空腔113内后，装填基座117可结合到主体111，如图3所示，以形成洗提屏蔽罩103，且基本上封闭在空腔内的容器。封闭表面153a和主体111的侧壁121定位容器在空腔内的预定位置，其在图示的实施例中大约接触凸缘131且对齐第一开口127。帽115可被去除（如果存在）以暴露第一开口127。接着，容器C1可被通过现在暴露的第一开口127连接到放射性同位素发生器（如通过把与放射性同位素发生器上的释放点相关联的针尖穿过第一开口插入容器内）。容器C1至少部分地填充包括由发生器产生的放射性同位素（如锝-99m）的洗出液。当要求的量的洗出液已被装入容器C1中时，容器可从放射性同位素发生器断开连接，且帽115放回到第一开口上，以限制放射线穿过第一开口逸出。

容器C1在空腔113内可传送到洗出液被分析的其它位置（如其放射性被校准且穿透测试被进行的地方）。装填基座117可从主体111分离，以允许容器C1从空腔113穿过第二开口129去除，以供分析。在洗出液被分析后，容器C1可穿过第二开口129再装填在空腔113内。分配基座119可附着于主体111，如图4所示，代替装填基座117，以形成分配屏蔽罩105和再封闭在空腔113内的容器C1。分配屏蔽罩105可颠倒和向下放置第一开口127在工作表面197上（如放射性吸收衬垫）。

当工人（如放射性药剂师）准备分配来自容器C1的一些洗出液到其它容器（如注射器）时，他或她可举起主体111离开工作表面197，由此暴露第一开口127。工人可穿过现在暴露的第一开口127分配一些或所有的来自容器C1的洗出液。例如，工人可通过插入结合到注射器的针的针尖穿过第一开口127刺穿容器C1的隔膜（未示出），并用注射器从容器抽出一些或所有洗出液。当要求的量的洗出液已被从容器C1分配，分配屏蔽罩105可被放回在工作表面197上，直至需要更多的洗出液。当容器C1没有洗出液或洗出液不再被需要时，分配基座119可被从主体111分离，且容器C1穿过第二开口129从空腔113去除。

较小的第二容器C2可接着穿过第二开口129被装入空腔113。装填基座117可被结合到主体，如图5所示，使得封闭表面155a和侧壁161定位容器在预定的位置，其在图示的实施例中是接触凸缘131和对齐第一开口127的位置。接着洗提过程可重复，如上上述，导致想要的量的洗出液装入容器C2中。在洗提过程后，容器C2可在空腔113内传送到其它位置，如前述第一容器C1的位置。装填基座117可被从主体111分离，以允许容器C2穿过第二开口129从空腔113去除，以供分析。在分析完成后，容器C2可穿过第二开口129放回空腔113内。接着分配基座119可结合到主体，如图6所示，代替装填基座117。洗出液可以与所述的第一容器C1基本相同的方式从容器C2被分配。

现在参考图7-12E，本发明的放射屏蔽系统的另一实施例，一般用210表示，被示出为后装填洗提和分配屏蔽罩组合。像上述的放射屏蔽系统101一样，系统201可包括容纳在放射屏蔽空腔内发出放射线的放射性同位素（如锝-99m）的容器（如洗提和/或分配瓶），由此限制来自该系统的放射性同位素发出的放射线逸出。因此，该系统可用于限制一种或多种放射性同位素或其它放射性物质的放射线暴露到操作者。

放射屏蔽系统201具有主体211，其具有至少部分定义在其中的空腔213，以接收放射性物质。图7所示的放射屏蔽系统还包括帽215和一对可互换的基座217、219。主体211、帽215和基座217、219可用于基本上封闭空腔213中的容器C1（在图9中用虚线表示），如下面详述。图示的系统的主体211和帽215可基本上类似于图1-6所示的系统101的主体111和帽115。例如，主体211可具有第一和第二开口227、229，其类似与图3-6所示的主体111的第一和第二开口127、129。

图示的系统201包括装填基座217，其被构造用于可松开地结合到主体211的通常第二开口229，以形成洗提屏蔽罩203。例如，图（如图9）示的装填基座217包括连接器259（如螺纹、插栓连接突起等），其可以被操作，以可松开地结合装填基座到主体211。当装填基座217结合到主体211时可被操作，以限制放射线从空腔213穿过第二开口229逸出。参考图9，装填基座217可包括管状结构251，该结构具有固定在一端的放射屏蔽罩253，其可包括一种或多种前述的放射性吸收材料，使得当装填基座217结合到主体211时，放射屏蔽罩被通常地定位在第二开口229处。管状结构251的另一端可闭合（如图9所示）或打开（未示出）。管状结构可由对于放射线基本可穿透的轻量材料（如耐冲击塑料）构成。装填基座可在其中具有空隙273，以减少洗提屏蔽罩203的重量。装填基座217或其部分（如管状结构251）可被覆盖有夹紧增强覆层（未示出），以便于手动夹紧装填基座。例如，热塑性弹性体（如Santoprene

）是合适的夹紧增强覆层材料的一个例子。

装填基座217可与主体211组合操作，以提供具有足够长度的洗提屏蔽罩203，以满足特定放射性同位素发生器要求的最小长度，与上述系统101的装填基座117的方式相同。本领域技术人员可理解装填基座217的设计可被相当地变化，而不脱离本发明的范围。尽管图7所示的系统201具有与前述系统101不同的装填基座，应理解系统201可修改，以使用与前述系统101相同的装填基座117，而不脱离本发明的范围。同样，系统201可被修改，以使用具有实际上任意尺寸和形状的装填基座，而不脱离本发明的范围。

现在参考图10，系统201还包括人机工程学分配基座219，其被构造以可松开地结合到主体211的通常第二开口229处，以形成分配屏蔽罩205。例如，分配基座219可被通常地以护套的形式构造，该护套适于接收至少主体211的底部在其内，其中当基座219和主体211被装配以形成分配屏蔽罩205时，主体211被分配基座部分地屏蔽。分配基座219可具有封闭端265，且可包括任意合适的连接器（如螺纹、插栓连接突起等），用于可松开地结合分配基座到主体211。例如，在图示的实施例中，分配基座219包括插栓连接突起283，用来使用卡口连接器（如用于可松开地把装填基座217结合到主体211的相同的卡口连接器）把分配基座可松开地结合到主体211。

分配基座219可适用于当其被结合到主体211时，限制放射线穿过第二开口229从空腔213逸出。例如，分配基座219可包括一种或多种放射性吸收材料，如上所述。另外，本领域技术人员知道如何在分配基座219内设置足够量的放射性吸收材料，以实现想要的对放射暴露的防护水平。当分配基座结合到主体时，分配基座219可设计具有通常定位在第二开口229处的一定浓度的放射性吸收材料（未示出）。在一些实施例中，整个分配基座可由放射屏蔽材料构成（如金属或钨浸渍塑料）。

分配基座219包括手柄275，其适用于舒服地握在人手掌之中。手柄275可包括一个或多个类型的夹紧增强特征（如槽275a（图12A），凸起275b（图12B），手指凹痕275c（图12C）、平面275d（图12D）、隆起275e（图12E）、它们的组合等），以改善人通过手柄抓紧分配基座219的能力。夹紧增强覆层（未示出）可涂覆到分配基座219、或其部分（如手柄275），以便于手动抓紧分配基座。热塑性弹性体（如Santoprene

）是合适的夹紧增强材料的一个例子。球形凸起277可形成在手柄275的一端（如在分配基座219的封闭端265），以减少分配基座意外滑出人的抓紧的危险。

当分配基座结合到主体时，分配基座219可包括护指部279，其定位在手柄275和主体211的第一开口227之间，以阻止工人太靠近第一开口抓紧分配基座和由此暴露于非必要的高放射线。例如，最好如图9所示，护指部279可包括环状凸缘293，其至少在部分手柄275表面横向向外延伸。护指部279的外直径的尺寸使得其比护指部处或护指部和第一开口227之间任意位置能更方便地通过手柄275抓紧分配基座219。护指部279和第一开口227之间的距离可按需要增加，以提供对于工人的手暴露于从第一开口逸出的放射线的要求水平的防护。护指部279还可包括一种或多种放射屏蔽材料，以把操作分配屏蔽罩205的手从穿过第一开口227逸出的放射线屏蔽开。另外，护指部279可由基本不会被针穿过的材料构成，以保护工人在把针插进分配屏蔽罩时意外受伤。

尽管图11示出了使用者通过手握住至少基座的部分外周抓紧分配基座219，其还设想护指部279的好处还对抓紧分配基座的封闭端265（如通过用手至少部分地握在基座219的端部上，使得球形凸起277处于手掌中，或通过用手握住凸起的至少部分外周）的使用者有效。另外，还希望在一些情况中，对于通过封闭端265抓紧分配基座219（如通过球形凸起277）的使用者有好处。例如，从增加使用者的手和第一开口227之间的距离的观点，其可为期望的实践（如还减少了使用者的手暴露于放射线）。如果是这种情况，希望护指部可被移动更靠近分配基座的封闭端（和由此更远离第一开口）。例如，护指部可比其对于第一开口227更靠近分配基座的端部。而且，如果需要，护指部和分配基座的封闭端之间的距离可以足够短（如使得护指部靠近封闭端），使得在护指部和分配基座的封闭端之间的空间不够供使用者把手握在护指部和基座端部之间的分配基座的侧部，由此促使使用者在封闭端抓紧分配基座。

放射屏蔽系统201的操作方式类似于上述的放射系统101的操作方式。容器C1（如排空的洗提瓶）可穿过第二开口229装进空腔213。接着装填基座217可松开地结合到主体211，以把容器C1封闭在洗提屏蔽罩203内。如果出现在此时，帽215可被从主体211去除，以允许容器C1穿过现在暴露的第一开口277连接到放射性同位素发生器，如上所述。当要求的量的放射性洗出液已装入容器C1时，容器可从放射性同位素发生器分离。帽215可放回第一开口227，以限制放射线穿过第一开口逸出，同时容器C1被移送到洗出液可被分析的地点。

装填基座217可从主体211分离，且容器C1穿过第二开口229从空腔213去除，以分析洗出液（如在校准系统中）。当洗出液的分析完成后，容器C1可穿过第二开口229放回空腔213。分配基座219可松开地结合到主体211，以把容器C1封闭在分配屏蔽罩205内。帽215可去除，以允许对于分配过程的第一开口227的初始进入。此后，主体211可颠倒放置在工作表面上（如可被操作以限制放射线穿过第一开口227逸出的放射屏蔽衬垫197），直至分配一些或所有剩余的洗出液到另一容器（如注射器）。

工人可通过用一只手握住分配基座219的手柄275抓紧分配屏蔽罩205，和把主体211举起离开工作表面197，以穿过第一开口227进入容器C1。例如，结合到注射器的针尖可穿过第一开口227插入空腔213，以刺穿容器C的隔膜并把洗出液从容器抽出到注射器。如果工人意外地错过了第一开口227，护指部279可把针偏离握住分配屏蔽罩205的手，由此防止工人受伤。人机工程学手柄275使得可以容易地握住分配屏蔽罩205。其他人可能喜欢通过将球形凸起277握在他们的手上而抓紧分配基座217。其它一些人更喜欢把他们的手指绕在手柄275上，在这种情况中，手柄的任何夹紧增强物275a、275b、275c、275d、275e可使得他们抓紧更可靠。护指部279阻止人们在把主体211举离工作表面197时把手放置的过于靠近第一开口227，由此防止不必要地暴露于穿过第一开口227逸出的放射线。另外，在系统201的实施例中，其中护指部279包括放射性吸收材料，护指部可把人的手与穿过第一开口227逸出的部分放射线屏蔽开，由此进一步减少暴露于放射线。当要求的量的洗出液从分配屏蔽罩205中的容器C1传送到另一容器中时，人们可颠倒放回主体211在工作表面197上，直至传送洗出液到其它容器，此时分配过程可重复。

当容器C1是空的或其容量不再被要求时，分配基座219可从主体211分离，其容器穿过第二开口229从空腔213取出。整个过程可用另一容器重复。

尽管上述放射屏蔽系统的各种装配元件具有通常的圆柱形，一个或多个各元件的几何形状可变化而不脱离本发明的范围。而且，如果需要，装填基座可被设计，以提供多于两个的对于空腔内的空间的变化的量的选择，以使得系统更适应使用各种不同尺寸的容器，而不脱离本发明的范围。

在上述的观点中，可以看到本发明的多个目的被实现且其它优点被获得。

当引入本发明的元件或其各种实施例时，冠词“一”、“该”、“所述”是指存在一个或多个元件。术语“包括”、“包含”和“具有”是指被包括，且意味着存在超过列举的元件的另外的元件。而且，“顶部”和“底部”和这些术语的变化是为了方便，而不是要求元件的特定方位。

在上述系统和方法内可进行各种改变而不脱离本发明的范围，这是指上述说明中包含的和附图中所示的所有内容应被认为是示例性的，而不是限制性的。

Claims (35)

1.一种用于分配放射性物质的放射屏蔽组件，该组件包括：

放射屏蔽主体，其中具有空腔，用来接收放射性物质，该主体具有通向所述空腔的开口；

手柄，其结合到所述主体，且被构造以便于在所述主体运动期间抓紧和握住所述主体，所述手柄包括抓紧面，和位于该抓紧面与进入所述空腔的开口之间的保护部，以阻止靠近所述开口抓紧该组件。

2.如权利要求1所述的放射屏蔽组件，其中所述保护部包括环状凸缘，其至少部分地朝所述抓紧面的外部横向延伸。

3.如权利要求2所述的放射屏蔽组件，其中所述环状凸缘设置在所述手柄的端部，所述端部与所述主体内的开口隔开。

4.如权利要求2所述的放射屏蔽组件，其中所述环状凸缘具有外直径，其大小限制手抓紧所述手柄的所述凸缘。

5.如权利要求1所述的放射屏蔽组件，其中所述抓紧面是基本上没有尖角。

6.如权利要求5所述的放射屏蔽组件，其中所述抓紧面是基本上圆柱形。

7.如权利要求1所述的放射屏蔽组件，其中所述手柄还包括位于其端部的远离所述保护部的球形凸起。

8.如权利要求7所述的放射屏蔽组件，其中所述保护部位于所述手柄的与所述球形凸起相对的端部。

9.如权利要求1所述的放射屏蔽组件，其中所述抓紧面包括抓紧增强件，其从包括槽、手指凹痕、平面、凸起、隆起的组中选择。

10.如权利要求1所述的放射屏蔽组件，其中所述主体具有通向所述空腔的第二开口，所述第二开口的尺寸大于第一开口，所述手柄为分配基座的一部分，所述分配基座被构造用来在大致所述第二开口处可松开地结合到所述主体，所述分配基座被构造以限制放射线穿过所述第二开口从所述空腔逸出。

11.如权利要求10所述的放射屏蔽组件，还包括装填基座，其被构造为当所述分配基座从所述主体分离时，用于大致在所述第二开口处可松开地结合到所述主体，所述装填基座被构造，以限制放射线穿过所述第二开口从所述空腔逸出。

12.如权利要求1所述的放射屏蔽组件，其中所述保护部至少由一种放射屏蔽材料构成。

13.如权利要求1所述的放射屏蔽组件，其中所述手柄的端部位于所述组件的与到所述空腔的开口相对的端部，且所述保护部比其到进入所述空腔的开口更靠近所述手柄的所述端部。

14.一种用于保持放射性物质的放射屏蔽组件，该组件包括：

主体，其部分地限定用于保持放射性物质的空腔，所述主体具有通向所述空腔的开口，所述主体被构造为限制放射线穿过所述主体从所述空腔逸出；

基座，其被构造用于在所述基座相对所述主体的第一方位和在所述基座相对于所述主体的第二方位选择性地可松开地结合到所述主体，大致在其开口处，所述第二方位不同于所述第一方位，所述基座被构造为当所述基座在所述第一方位结合到所述主体时和当所述基座在所述第二方位结合到所述主体时，限制放射线穿过所述开口从所述空腔逸出，所述基座具有第一封闭表面，其大致位于所述开口处，且当所述基座沿所述第一方位结合到所述主体时，部分地限定所述空腔；以及第二封闭表面，其大致位于所述开口处，且当所述基座在所述第二方位结合到所述主体时，部分地限定所述空腔，所述基座被设置，使得当所述基座在所述第一方位结合到所述主体时，所述空腔具有第一尺寸和第一形状，且在所述基座的第二方位，所述空腔具有不同于所述第一尺寸的第二尺寸和不同于所述第一形状的第二形状中的至少一个。

15.如权利要求14所述的组件，其中所述基座包括单独的放射屏蔽罩，所述基座被构造，使得当所述基座在其第一方位和第二方位结合到所述主体时，所述单独的放射屏蔽罩大致地定位在所述开口处。

16.如权利要求15所述的组件，其中，当所述基座在所述主体的第一方位结合到所述主体时，所述第一封闭表面朝向所述空腔的内部，且延伸第一距离进入所述开口，并且当所述基座在所述主体的第二方位结合到所述主体时，第二封闭表面朝向所述空腔的内部，且延伸第二距离进入所述开口，所述第二距离不同于所述第一距离。

17.如权利要求15所述的组件，其中，所述第一封闭表面和第二封闭表面中的一个限定了至少部分地杯状结构，该结构适于接收容纳放射性物质的容器的至少端部，所述基座被设置，使得当所述基座在所述第一方位和第二方位中的一个结合到所述主体时，所述杯状结构大致定位在所述开口处。

18.如权利要求14所述的组件，其中，所述基座包括延伸元件，其具有设置在一端的第一放射屏蔽罩和设置在另一端的第二放射屏蔽罩，所述基座被构造，使得当所述基座在所述主体的第一方位结合到所述主体时，所述第一放射屏蔽罩大致定位在所述开口处，并且使得当所述基座在所述主体的第二方位结合到所述主体时，所述第二放射屏蔽罩大致定位在所述开口处。

19.如权利要求18所述的组件，其中，当所述基座在所述主体的第一方位结合到所述主体时，所述第一封闭表面朝向所述空腔的内部，且延伸第一距离进入所述开口，且当所述基座在所述主体的第二方位结合到所述开口时，所述第二封闭表面朝向所述空腔的内部，且延伸第二距离进入所述开口，所述第一距离不同于所述第二距离。

20.如权利要求18所述的组件，其中，当所述基座在所述主体的第一方位结合到所述主体时，所述第一放射屏蔽罩延伸进入所述开口，并且当所述基座在所述主体的第二方位结合到所述主体时，所述第二放射屏蔽罩延伸进入所述开口。

21.如权利要求18所述的组件，其中，所述延伸元件的尺寸为相对于所述主体的长度延伸所述主体和基座的整个长度。

22.如权利要求18所述的组件，其中，所述主体是由重量相对较重的材料构成，且所述延伸元件是由重量相对较轻的材料构成。

23.如权利要求18所述的组件，其中所述延伸元件是中空的。

24.如权利要求14所述的组件，其中，所述开口是第一开口，所述主体具有通向所述空腔的第二开口，所述第二开口比所述第一开口小，所述基座被设置，以当所述基座在所述第一方位结合到所述主体时，使第一容器靠近所述第二开口定位，并且当所述基座在所述第二方位结合到所述主体时，使第二容器靠近所述第二开口定位，所述第一容器具有第一高度且所述第二容器具有不同于所述第一高度的第二高度。

25.如权利要求14所述的组件，其中，所述开口是第一开口，所述主体具有通向所述空腔的第二开口，所述第二开口比所述第一开口小，所述基座被设置，以当所述基座在所述第一方位结合到所述主体时，使第一容器基本上对齐所述第二开口，并且当所述基座在所述第二方位结合到所述主体时，使第二容器基本上对齐所述第二开口，所述第一容器具有第一直径且所述第二容器具有不同于所述第一直径的第二直径。

26.一种操作放射性物质的方法，该方法包括：

把第一容器放置在空腔内，该空腔部分地限定在放射屏蔽主体内，该主体具有通向所述空腔的开口，所述第一容器具有第一尺寸和第一形状；

当基座处于相对于所述主体的第一方位时，在大致所述开口处把基座可松开地结合到所述主体，所述基座包括第一封闭表面，当所述基座在所述第一方位结合到所述主体时，其部分限定所述空腔，以具有第一尺寸和第一形状；

从所述主体分离所述基座；

从所述空腔取走所述第一容器；

把第二容器放置在所述空腔内，所述第二容器具有与所述第一容器相比不同的尺寸和不同的形状中的至少一个；

当该基座处于相对于所述主体的第二方位时，在大致开口处把所述基座可松开地结合到所述主体，所述基座包括第二封闭表面，当所述基座在所述第二方位结合到所述主体时，其部分限定所述空腔，以具有不同于所述第一尺寸的第二尺寸和不同于所述第一形状的第二形状中的至少一个；

27.如权利要求26所述的方法，还包括通过在所述结合步骤中设置一个或多个所述基座的放射屏蔽罩在大致所述开口处，限制放射线穿过所述开口从所述空腔逸出。

28.如权利要求26所述的方法，还包括相对于所述主体旋转所述基座约180度，以相对于所述主体把所述基座的方位从所述主体的第一方位改变到所述主体的第二方位。

29.如权利要求26所述的方法，其中所述开口是第一开口，该方法还包括当所述容器位于所述空腔内时穿过所述主体的第二开口把放射性物质装入所述容器。

30.如权利要求29所述的方法，其中所述装入步骤包括穿过所述第二开口插入针尖且进入所述容器，且接着所述放射性物质穿过所述针流入所述容器。

31.如权利要求29所述的方法，还包括在所述第二开口上放置帽，以限制放射线穿过所述第二开口从所述空腔逸出。

32.如权利要求26所述的方法，其中所述开口是第一开口，该方法还包括穿过所述主体内的第二开口从所述空腔内的容器分配放射性物质。

33.如权利要求32所述的方法，其中所述分配步骤包括穿过所述第二开口插入针尖且进入所述容器，且通过所述针把放射性物质抽出所述容器。

34.如权利要求32所述的方法，还包括把所述主体第二开口向下放置在放射屏蔽罩上，以限制放射线穿过所述第二开口从所述空腔逸出。

35.一种使用放射屏蔽组件的方法，该方法包括：

把放射屏蔽组件的第一元件可松开地结合到放射屏蔽组件的第二元件，同时所述第一元件处于相对于第二元件的第一方位，以限定具有第一尺寸和第一形状的空腔；

把所述第一元件可松开地结合到所述第二元件，同时所述第一元件处于相对于第二元件的不同于第一方位的第二方位，以限定空腔，其具有分别不同于所述第一尺寸和所述第一形状的第二尺寸和第二形状中的至少一个。

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