CN103009238A

CN103009238A - 高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫

Info

Publication number: CN103009238A
Application number: CN201210564883XA
Authority: CN
Inventors: 孙韬
Original assignee: JIANGSU SINO KRYSTALS OPTROINCS CO Ltd
Current assignee: JIANGSU SINO KRYSTALS OPTROINCS CO Ltd
Priority date: 2012-12-24
Filing date: 2012-12-24
Publication date: 2013-04-03

Abstract

本发明涉及对蓝宝石表面的精抛的抛光技术领域，尤其是一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫。该抛光垫采用具有弹性、空隙率小于5%、密致橡胶高分子材料制成。所述橡胶高分子材料是丁苯橡胶，聚氨酯、聚丙烯酸等具有弹性、耐磨的高分子材料。所述抛光垫使用前附以背胶，用硬质磨盘打磨，表面粗糙度达到2微米以上。所述抛光垫打磨过程中，硬质磨盘是钻石盘，碳化硼盘，氮化硼盘，氧化铝盘或者碳化硅盘。本发明的制作方法简单、合理，易于生产，产品稳定性好。

Description

高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫

技术领域

本发明涉及对蓝宝石表面的精抛的抛光技术领域，尤其是一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫。

背景技术

当前市场上的蓝宝石精抛抛光垫主要采用发泡聚氨酯无纺布。这种抛光布的多孔结构被广泛认为有利于抛光液的传输，有利于提高抛光效率与均匀度。但这种发泡聚氨酯抛光垫的孔道容易累积抛光液的研磨剂，导致孔道堵塞，抛光垫板结，抛光面出现划伤，以及抛光垫很快失效。

发明内容

为了克服现有的抛光垫容易失效、使用寿命短的不足，本发明提供了一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，采用非发泡，表面平滑，空隙率小于5%橡胶高分子材料。这里，橡胶的定义包括NR：天然橡胶（Natutal Rubber），IR：异戊橡胶（Polyisoprene），SBR：丁苯胶（Styrene butadiene copolyme），BR：顺丁胶（Polybutadiene），IIR：丁基橡胶（Butyl Rubber），EPDM：乙丙胶（Ethylene propylene Rubber），CR：（氯丁胶Polychloroprene），NBR：丁睛胶（Nitrle Rubber），PU：聚氨酯胶（Urethane Rubber），CSM：氯磺化聚乙烯胶（Hypalon Polyethylene），ACM：丙烯酸酯橡胶（Polyacrylate Rubber），ECO：氯酯橡胶（Epichlorohydrin），SI：硅橡胶（Silicone Rubber），FPM：氟素橡胶（Fluoro Carbon Rubber），HNBR：氢化丁睛胶（Hydrogenate Nitrile），LS：氟素硅胶(Fluorinated Silicone Rubber)等等。关键在于该橡胶体具有一定的弹性（压缩比）同时空隙率要低。该橡胶高分子材料附以背胶，经过硬质磨盘打磨至表面粗糙度大于2微米，就可以广泛用于各种材料的高精密表面的抛光了。所述抛光垫打磨过程中，硬质磨盘是钻石盘，碳化硼盘，氮化硼盘，氧化铝盘或者碳化硅盘。

根据本发明的另一个实施例，进一步包括所述橡胶垫含有机颗、无机颗粒或其混合物的填充材料。填充料可以在橡胶合成过程中加入。填充料与橡胶之间可以直接通过化学键键合，也可以是简单的物理混合复合材料。

本发明的有益效果是，本发明的制作方法简单、合理，易于生产，产品稳定性好。使用之后的抛光垫表面无沉积，抛光垫耐用，寿命长。

具体实施方式

一、实施例1：

取厚度2mm，直径550mm 丁苯橡胶片，空隙率3%，用3M背胶，粘附到Logitech CDP 单面抛光机抛光盘上。用钻石盘修复平整，表面粗糙度大于2微米，采用硅溶胶蓝宝石抛光液，下压：5psi，下盘以及载盘转速 50 RPM，抛光液流速：100 ml/分钟。采用C面泡生法生长蓝宝石研磨片（表面粗糙度0.8微米）。该抛光液在该抛光垫的抛光速率为 51 纳米/分钟。被抛蓝宝石表面小于2Å，表面无划伤，无坑点，抛光垫表面无沉积。

二、实施例2：

取厚度2mm，直径550mm 聚氨酯橡胶片，空隙率2%，用3M背胶，粘附到Logitech CDP 单面抛光机抛光盘上。用钻石盘修复平整，表面粗糙度大于2微米，采用硅溶胶蓝宝石抛光液，下压：5psi，下盘以及载盘转速 50 RPM，抛光液流速：100 ml/分钟。采用C面泡生法生长蓝宝石研磨片（表面粗糙度0.8微米）。该抛光液在该抛光垫的抛光速率为 75纳米/分钟。被抛蓝宝石表面小于2Å，表面无划伤，无坑点，抛光垫表面无沉积。

三、实施例3：

取厚度2mm，直径550mm 聚丙烯酸橡胶片，空隙率5%，用3M背胶，粘附到Logitech CDP 单面抛光机抛光盘上。用钻石盘修复平整，表面粗糙度大于2微米，采用硅溶胶蓝宝石抛光液，下压：5psi，下盘以及载盘转速 50 RPM，抛光液流速：100 ml/分钟。采用C面泡生法生长蓝宝石研磨片（表面粗糙度0.8微米）。该抛光液在该抛光垫的抛光速率为 63纳米/分钟。被抛蓝宝石表面小于2Å，表面无划伤，无坑点，抛光垫表面无沉积。

四、现有技术比较试样例

取厚度2mm，直径550mm 发泡聚氨酯片，空隙率20%，用3M背胶，粘附到Logitech CDP 单面抛光机抛光盘上。用钻石盘修复平整，表面粗糙度大于2微米，采用硅溶胶蓝宝石抛光液，下压：5psi，下盘以及载盘转速 50 RPM，抛光液流速：100 ml/分钟。采用C面泡生法生长蓝宝石研磨片（表面粗糙度0.8微米）。该抛光液在该抛光垫的抛光速率为 63纳米/分钟。被抛蓝宝石表面小于23Å，表面有亮丝划伤，橘皮现象坑点，抛光垫表面有硅溶胶沉积。

Claims

1.一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，其特征是，该抛光垫采用具有弹性、空隙率小于5%、密致橡胶高分子材料制成。

2.根据权利要求1所述的高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，其特征是，所述橡胶高分子材料是丁苯橡胶，聚氨酯、聚丙烯酸等具有弹性、耐磨的高分子材料。

3.根据权利要求1所述的高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，其特征是，所述抛光垫含有机颗粒、无机颗粒或其混合物的填充材料。

4.一种权利要求1所述的高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫的应用，其特征是，所述抛光垫使用前附以背胶，用硬质磨盘打磨，表面粗糙度达到2微米以上。

5.根据权利要求4所述的高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫的应用，其特征是，所述抛光垫打磨过程中，硬质磨盘是钻石盘，碳化硼盘，氮化硼盘，氧化铝盘或者碳化硅盘。