CN102922804A - 一种镂空复合面料 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种镂空复合面料,包括镂空层和基布层,所述的镂空层是由经线和纬线斜向相交织形成多个中空的交织区,所述交织区内的四个交织角的角度相等,所述的交织区通过丝线与基布层相连接,其中,所述的交织角的角度为90°。通过上述方式,本发明提供的镂空复合面料,增强了面料的层次感,满足了人们对面料美观度的要求。
Description
技术领域
本发明涉及面料的领域,特别是涉及一种镂空复合面料。
背景技术
现有的生产衣服的面料一般由一种材质制成,特点也比较单一,造成面料柔软和透气度等特点不可兼得,经过多次使用或洗涤后容易变型,也有为了保持衣服的衣型而降低了衣服的柔软性,这将大大降低了穿着衣服的舒适度,同时面料的丝线结构比较简单,会造成纺织得到的面料出现针眼偏斜的情况出现,影响面料的视觉效果,甚至导致面料的报废。
目前,制作服装上的面料多数是平面结构,其制成的服装缺少动感,而现在越来越多的人追求时尚元素,单一的平面面料结构满足不了市场,也束缚了设计师对个性服装面料的选择。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种镂空复合面料,能够解决现有技术中面料结构单一和特点单一的缺点。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种镂空复合面料,包括镂空层和基布层,所述的镂空层是由经线和纬线斜向相交织形成多个中空的交织区,所述交织区内的四个交织角的角度相等,所述的交织区通过丝线与基布层相连接,其中,所述的交织角的角度为90°。
在本发明一个较佳实施例中,所述的经线和纬线的材料相同或不相同。
在本发明一个较佳实施例中,所述的经线和纬线的直径相等。
在本发明一个较佳实施例中,所述的经线和纬线的直径均为1.5mm。
在本发明一个较佳实施例中,所述的基布层为全棉机制布。
本发明的有益效果是:本发明的镂空复合面料,所述的镂空层是由经线和纬线斜向相交织形成多个中空的交织区,交织区通过丝线与基布层相连接,增强了面料的层次感,满足了人们对面料美观度的要求。
附图说明
图1是本发明镂空复合面料一较佳实施例的结构示意图;
附图中各部件的标记如下:1、镂空层,2、交织区, 11、经线,12、纬线。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1,本发明提供了一种镂空复合面料,包括镂空层1和基布层(图未视),所述的镂空层1是由经线11和纬线12斜向相交织形成多个中空的交织区2,所述交织区2内的四个交织角的角度相等,所述的交织区2通过丝线(图未视)与基布层相连接,其中,所述的交织角的角度为90°。
上述中,所述的交织区2是由经线11和纬线12构成的,所述交织区2的面积为一平方厘米,形成中空的交织区2。
其中,所述的经线11和纬线12的材料可以相同,也可以不相同。但是,所述的经线11和纬线12的直径相等。本发明中所述的经线11和纬线12的直径均为1.5mm。
本发明中所述的基布层为全棉机制布,具有很好的亲肤性,吸湿透气,穿着舒适。
本发明的镂空复合面料,所述的镂空层1是由经线11和纬线12斜向相交织形成多个中空的交织区2,交织区2通过丝线与基布层相连接,增强了面料的层次感,满足了人们对面料美观度的要求。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (5)
1.一种镂空复合面料,包括镂空层和基布层,其特征在于,所述的镂空层是由经线和纬线斜向相交织形成多个中空的交织区,所述交织区内的四个交织角的角度相等,所述的交织区通过丝线与基布层相连接,其中,所述的交织角的角度为90°。
2.根据权利要求1所述的镂空复合面料,其特征在于,所述的经线和纬线的材料相同或不相同。
3.根据权利要求2所述的镂空复合面料,其特征在于,所述的经线和纬线的直径相等。
4.根据权利要求1所述的镂空复合面料,其特征在于,所述的经线和纬线的直径均为1.5mm。
5.根据权利要求1所述的镂空复合面料,其特征在于,所述的基布层为全棉机制布。
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CN2012104787394A CN102922804A (zh) | 2012-11-23 | 2012-11-23 | 一种镂空复合面料 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
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