CN102847574A - 水浴式加热装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种水浴式加热装置，包括：储罐以及设置在储罐外侧的加热水箱，储罐的顶部设置有进料管和出料管，加热水箱上设置有循环水进口和循环水出口，加热水箱上连接有温度控制器，温度控制器包括恒温控制器和超温控制器，加热水箱上还连接有水位测量单元。通过上述方式，本发明水浴式加热装置结构简单紧凑，采用自动控制，保证了循环水的供给充足，保证加热过程的连续稳定，整个加热过程安全可靠，减少了热量的散失，保证了加热过程温度的稳定。
Description
技术领域
本发明涉及化工设备领域，特别是涉及一种水浴式加热装置。
背景技术
水浴加热是把要加热的物质放在水中，通过给水加热达到给物质加热的效果。一般都是把要反应的物质放在某个容器中，再把容器放置在装有水的设备中，进行间接加热。
水浴加热能够避免直接加热造成的过度剧烈与温度的不可控性，可以进行平稳地加热。但是其加热过程的温度控制不稳定，容易产生热量流失，且水浴加热时要保证循环水的充分供给。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种水浴式加热装置，结构简单紧凑，采用自动控制，保证了循环水的供给充足，保证加热过程的连续稳定，整个加热过程安全可靠，减少了热量的散失，保证了加热过程温度的稳定。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种水浴式加热装置，包括：储罐以及设置在储罐外侧的加热水箱，储罐的顶部设置有进料管和出料管，加热水箱上设置有循环水进口和循环水出口，加热水箱上连接有温度控制器，温度控制器包括恒温控制器和超温控制器，加热水箱上还连接有水位测量单元。
在本发明一个较佳实施例中，所述进料管延伸至储罐顶部端口处，出料管延伸至储罐底部。
在本发明一个较佳实施例中，所述加热水箱的外侧设置有保温层。
在本发明一个较佳实施例中，所述循环水进口设置在加热水箱的顶部，循环水出口设置在加热水箱的底部。
在本发明一个较佳实施例中，所述恒温控制器和超温控制器均与加热水箱电性连接。
在本发明一个较佳实施例中，所述水位测量单元包括水位测量计和水位显示表。
在本发明一个较佳实施例中，所述水位测量单元上连接有电磁控制阀。
本发明的有益效果是：本发明水浴式加热装置结构简单紧凑，采用自动控制，保证了循环水的供给充足，保证加热过程的连续稳定，整个加热过程安全可靠，减少了热量的散失，保证了加热过程温度的稳定。
附图说明
图1是本发明水浴式加热装置一较佳实施例的结构示意图；
附图中各部件的标记如下：1、储罐，2、加热水箱，3、进料管，4、出料管，5、保温层，6、循环水进口，7、循环水出口，8、恒温控制器，9、超温控制器，10、水位测量单元，11、水位测量计，12、水位显示表，13、电磁控制阀。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1，本发明实施例包括：
一种水浴式加热装置，包括：储罐1以及设置在储罐1外侧的加热水箱2。
所述储罐1的顶部设置有进料管3和出料管4。其中，进料管3延伸至储罐1顶部端口处，出料管4延伸至储罐1底部。
所述加热水箱2的外侧设置有保温层5，能够减少加热水箱热量的散失，保证加热过程温度的稳定。
所述加热水箱2上设置有循环水进口6和循环水出口7。其中，循环水进口6设置在加热水箱2的顶部，循环水出口7设置在加热水箱2的底部。
循环水从加热水箱2顶部的循环水进口6进入到水箱内部，开始升温加热，然后从底部的循环水出口7排出，整个过程连续可靠，保证了水浴加热过程的稳定。
所述加热水箱2上连接有温度控制器，温度控制器包括恒温控制器8和超温控制器9，恒温控制器8和超温控制器9均与加热水箱2电性连接。
具体地，恒温控制器8能够控制水浴温度在50℃~70℃左右。当水浴温度超过90℃时，超温控制器9切断电源并报警，保证了水浴加热过程的安全性和可靠性。
所述的加热水箱2上还连接有水位测量单元10，水位测量单元包括水位测量计11和水位显示表12，在水位测量单元10上连接有电磁控制阀13。
水位测量计11对加热水箱2内部的循环水位进行测量，并通过水位显示表12显示出来。当加热水箱2内的循环水位降低到一定值时，电磁控制阀13打开，往加热水箱2内自动注入循环水，整个过程保证了循环水的供给充足，保证加热过程的连续稳定。
本发明水浴式加热装置的有益效果是：
结构简单紧凑，采用自动控制，保证了循环水的供给充足，保证加热过程的连续稳定，整个加热过程安全可靠，减少了热量的散失，保证了加热过程温度的稳定。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (7)
1.一种水浴式加热装置，其特征在于，包括：储罐以及设置在储罐外侧的加热水箱，储罐的顶部设置有进料管和出料管，加热水箱上设置有循环水进口和循环水出口，加热水箱上连接有温度控制器，温度控制器包括恒温控制器和超温控制器，加热水箱上还连接有水位测量单元。
2.根据权利要求1所述的水浴式加热装置，其特征在于，所述进料管延伸至储罐顶部端口处，出料管延伸至储罐底部。
3.根据权利要求1所述的水浴式加热装置，其特征在于，所述加热水箱的外侧设置有保温层。
4.根据权利要求1所述的水浴式加热装置，其特征在于，所述循环水进口设置在加热水箱的顶部，循环水出口设置在加热水箱的底部。
5.根据权利要求1所述的水浴式加热装置，其特征在于，所述恒温控制器和超温控制器均与加热水箱电性连接。
6.根据权利要求1所述的水浴式加热装置，其特征在于，所述水位测量单元包括水位测量计和水位显示表。
7.根据权利要求1所述的水浴式加热装置，其特征在于，所述水位测量单元上连接有电磁控制阀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201210347328 CN102847574A (zh) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | 水浴式加热装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201210347328 CN102847574A (zh) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | 水浴式加热装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102847574A true CN102847574A (zh) | 2013-01-02 |
Family
ID=47394787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201210347328 Pending CN102847574A (zh) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | 水浴式加热装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102847574A (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104437697A (zh) * | 2014-11-04 | 2015-03-25 | 无锡市华明化工有限公司 | 一种简易水浴锅 |
| CN106036349A (zh) * | 2016-08-04 | 2016-10-26 | 北京黑六牧业科技有限公司 | 二次水浴杀菌系统 |
| CN109806924A (zh) * | 2019-02-25 | 2019-05-28 | 胡懿哲 | 化学实验用热水恒温机构及其恒温调节方法 |
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2012
- 2012-09-19 CN CN 201210347328 patent/CN102847574A/zh active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104437697A (zh) * | 2014-11-04 | 2015-03-25 | 无锡市华明化工有限公司 | 一种简易水浴锅 |
| CN106036349A (zh) * | 2016-08-04 | 2016-10-26 | 北京黑六牧业科技有限公司 | 二次水浴杀菌系统 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130102 |