CN102794799A - 木材的尺寸稳定处理 - Google Patents

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颜仁明
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Abstract

本发明公开了一种木材的尺寸稳定处理，包括以下步骤：1）去除木材外皮；2）然后采用低温烘干去皮后的木材，使木材的含水率低于10%；3）采用激光照射，在干燥后的木材表面刻痕；4）将刻痕后的木材送入反应罐中，并向反应罐中通入乙酰剂；5）在80-100℃温度下保持3-8小时，使木材和乙酰剂反应充分；6）将多余的乙酰剂排出，并干燥木材。通过上述方式，本发明能够提高木材的抗压能力、硬度及韧性等力学性能，降低木材的吸水性，增强尺寸稳定性，并增强木材的耐腐蚀性，使其具有防蚁、防虫的功效，更加经久耐用。

Description

木材的尺寸稳定处理
技术领域
本发明涉及木材的处理领域，特别是涉及一种木材的尺寸稳定处理。
背景技术
由于木材中含有大量的易吸收、释放水分的羟基自由基化学基团，因此木材会湿胀或干缩，对于长时间库存的木材，尺寸极不稳定。而且，羟基自由基的存在同时也产生了能够滋养微生物的酶，使木材容易腐烂、虫蛀。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种木材的尺寸稳定处理，能够提高木材的抗压能力、硬度及韧性等力学性能，降低木材的吸水性，增强尺寸稳定性，并增强木材的耐腐蚀性，使其具有防蚁、防虫的功效，更加经久耐用。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种木材的尺寸稳定处理，包括以下步骤：
1）去除木材外皮；
2）然后采用低温烘干去皮后的木材，使木材的含水率低于10%；
3）采用激光照射，在干燥后的木材表面刻痕；
4）将刻痕后的木材送入反应罐中，并向反应罐中通入乙酰剂；
5）在80-100℃温度下保持3-8小时，使木材和乙酰剂反应充分；
6）将多余的乙酰剂排出，并干燥木材。
在本发明一个较佳实施例中，所述乙酰剂为乙酸酐。
在本发明一个较佳实施例中，步骤4）中向反应罐中通入的进一步包括催化剂。
在本发明一个较佳实施例中，所述催化剂为无水高氯酸镁。
本发明的有益效果是：本发明揭示了一种木材的尺寸稳定处理，通过合理的工艺，对干燥刻痕后的木材进行乙酰化处理，使木材的抗压能力、硬度及韧性等力学性能得到了提高，木材的吸水性大大降低，尺寸稳定性增强，并增强了木材的耐腐蚀性，使其具有防蚁、防虫的功效，更加经久耐用。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
一种木材的尺寸稳定处理，包括以下步骤：
1）去除木材外皮，由于木材外皮的纤维素含量很低，杂质很高，会降低乙酰化的效率，增加乙酰剂的消耗，所以在进行处理前，一般要求去掉外皮，即去皮。
2）然后采用低温烘干去皮后的木材，使木材的含水率低于10%；
3）采用激光照射，在干燥后的木材表面刻痕，方便处理剂的渗入，对木材无损伤；
4）将刻痕后的木材送入反应罐中，并向反应罐中通入乙酰剂，所述乙酰剂为乙酸酐；
5）在80-100℃温度下保持3-8小时，使木材和乙酰剂反应充分，使乙酸酐和木材中的亲水性羟基发生反应，并将羟基转化成乙酰基团，可极大地降低木材的吸水能力，使木材的尺寸稳定性增强，同时消除了木材中能够滋养微生物的酶，使木材具有防霉、防蛀的功效；
6）将多余的乙酰剂排出，并干燥木材。
其中，步骤4）中向反应罐中通入的进一步包括催化剂。
所述催化剂为无水高氯酸镁，可加速木材中亲水性羟基与乙酸酐的反应。
本发明的木材的尺寸稳定处理，无毒、无害，不污染环境和水资源。其生产工艺过程也是无污染的环保型生产。
本发明揭示了一种木材的尺寸稳定处理，通过合理的工艺，对干燥刻痕后的木材进行乙酰化处理，使木材的抗压能力、硬度及韧性等力学性能得到了提高，木材的吸水性大大降低，尺寸稳定性增强，并增强了木材的耐腐蚀性，使其具有防蚁、防虫的功效，更加经久耐用。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (4)

1.一种木材的尺寸稳定处理，其特征在于，包括以下步骤：
1）去除木材外皮；
2）然后采用低温烘干去皮后的木材，使木材的含水率低于10%；
3）采用激光照射，在干燥后的木材表面刻痕；
4）将刻痕后的木材送入反应罐中，并向反应罐中通入乙酰剂；
5）在80-100℃温度下保持3-8小时，使木材和乙酰剂反应充分；
6）将多余的乙酰剂排出，并干燥木材。
2.根据权利要求1所述的木材的尺寸稳定处理，其特征在于，所述乙酰剂为乙酸酐。
3.根据权利要求1所述的木材的尺寸稳定处理，其特征在于，步骤4）中向反应罐中通入的进一步包括催化剂。
4.根据权利要求3所述的木材的尺寸稳定处理，其特征在于，所述催化剂为无水高氯酸镁。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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