CN102749780A - 一种液晶显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明揭示一种液晶显示面板，包括：阵列基板、彩膜基板、以及夹设在阵列基板与彩膜基板之间的液晶，阵列基板包括位于像素电极区域内的像素工作区、以及位于像素工作区以外的非像素工作区，配向膜在像素工作区的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直；彩膜基板包括空白区域、位于空白区域上的色区、以及配向膜，所述配向膜在彩膜基板上的配向方向与阵列基板的非像素工作区的配向方向相同。本发明可以有效的降低TN型液晶的漏光现象，减少了制程中的BM制作和遮光线的制作，有效的减少了工艺，降低了成本。

Description

一种液晶显示面板

技术领域

本发明涉及一种液晶显示面板，尤其是一种TN型液晶显示面板。

背景技术

TN(Twisted Nematic)型的液晶显示技术是液晶显示器中最基本的，而之后其它种类的液晶显示器也是在TN型基础上加以改良。其显像原理是将液晶材料置于两片贴附光轴垂直偏光板之透明导电玻璃间，液晶分子会依配向膜的细沟槽方向依序旋转排列，如果电场未形成，光线会顺利的从偏光板射入，依液晶分子旋转其行进方向，然后从另一边射出。如果在两片导电玻璃通电之后，两片玻璃间会造成电场，进而影响其间液晶分子的排列，使其分子棒进行扭转，光线便无法穿透，进而遮住光源。这样所得到光暗对比的现象，叫做扭转式向列场效应，简称TNFE(twisted nematic field effect)。由于TN型液晶面板生产成本相对低廉，因此“TN”技术的液晶面板目前被广泛运用于中、低端液晶显示器之中。

图1所示为现有TN型液晶显示阵列基板结构示意图，阵列基板10包括：扫描线11、与扫描线11纵横交错的数据线12、存储电容13、遮光线14、像素电极15、以及薄膜晶体管16，所述扫描线11与数据线12限定的最小单元是像素单元，所述像素电极15与薄膜晶体管16均位于像素单元内，薄膜晶体管16一侧与数据线12电学连接，另一侧与像素电极15连接。

图2所示为现有TN型液晶显示彩膜基板的结构示意图，彩膜基板20的像素结构包括黑色矩阵21和位于黑色矩阵21内具有RGB三色的色区22。

由于TN型为常白模式，在显示画面时，在阵列基板20的像素电极15与相邻的扫描线11及数据线12周边区域因为没有电压控制，会导致漏光现象，形成漏光区域17和18。

图3所示为现有技术的光线行进路线，当给液晶高电压时，像素区域的液晶30站立，画面为黑画面。黑色矩阵21和存储电容13起到遮挡像素非正常工作区域的光线，防止漏光的作用。

现有技术是在阵列基板上像素电极两侧制备遮光线14，而对应的彩膜基板色区22周边制作黑色矩阵（BM）21，黑色矩阵21与阵列基板像素非正常工作区域的相对位置保持在一定的管控范围内，可以避免漏光，但彩膜基板上增加黑色矩阵会导致工艺增加，同时像素开口率减小。

发明内容

本发明的目的是提供一种降低漏光、同时增加像素开口率、降低成本的液晶显示面板。

本发明提供的一种液晶显示面板，包括：阵列基板、彩膜基板、以及夹设在阵列基板与彩膜基板之间的液晶，阵列基板包括：扫描线、数据线、以及由扫描线和数据线交叉限定的若干像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极、以及配向膜；所述每个像素单元还包括位于像素电极区域内的像素工作区、以及位于像素工作区以外的非像素工作区，每个像素工作区的面积小于每个像素电极的面积，且配向膜在像素工作区的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直；彩膜基板包括空白区域、位于空白区域上的若干色区、以及配向膜，所述配向膜在彩膜基板上的配向方向与阵列基板的非像素工作区的配向方向相同。

本发明又提供一种液晶显示面板，包括：阵列基板、彩膜基板、以及夹设在阵列基板与彩膜基板之间的液晶，彩膜基板包括：空白区域、位于空白区域上的若干色区、以及配向膜，所述每个色区具有三个子色区，所述每个子色区设有位于子色区区域内的像素工作区、以及位于像素工作区以外的非像素工作区，每个像素工作区的面积小于每个子色区的面积，配向膜在像素工作上的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直；阵列基板保密：扫描线、数据线、以及由扫描线和数据线交叉限定的若干像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极、以及配向膜，配向膜在阵列基板上的配向方向与彩膜基板的非像素工作区的配向方向相同；

本发明将阵列基板或彩膜基板分为像素工作区和非像素工作区，通过将配向膜在像素工作区的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直，彩膜基板没有设置黑色矩阵，并将配向膜在彩膜基板或阵列基板上的配向方向与阵列基板的非像素工作区的配向方向相同，从而可以有效的降低TN型液晶的漏光现象，减少了制程中的BM制作和遮光线的制作，有效的减少了工艺，降低了成本。

附图说明

图1为现有阵列基板的结构示意图；

图2为现有彩膜基板的结构示意图；

图3为现有液晶显示面板的结构示意图；

图4为本发明阵列基板的结构示意图；

图5为与图4对应的彩膜基板的结构示意图；

图6为与图4对应的阵列基板的另一结构示意图；

图7为本发明另一实施例的阵列基板的结构示意图；

图8为本发明液晶显示面板的结构示意图；

图9为本发明另一实施例的彩膜基板的结构示意图；

图10为本发明另一实施例的液晶显示面板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。

本发明揭示一种液晶显示面板，尤其是TN型液晶显示面板。

图4所示为本发明液晶显示面板的阵列基板的结构示意图，阵列基板10包括：扫描线11、与扫描线11纵横交错的数据线12、储存电容13、遮光线14、像素电极15、以及薄膜晶体管16，所述扫描线11与数据线12限定的最小单元是像素单元，所述像素电极15与薄膜晶体管16均位于像素单元内，薄膜晶体管16一侧与数据线12电学连接，另一侧与像素电极13连接。

储存电容13与遮光线14连在一起呈U状。

图5所示为本发明液晶显示面板的彩膜基板的结构示意图，彩膜基板20包括空白区域21和位于空白区域上RGB色层22，所述空白区域21为玻璃基板，本发明的彩膜基板与现有技术相比，没有设置黑色矩阵BM。

液晶30设于阵列基板10和彩膜基板20之间，在滴下液晶之前，首先在阵列基板10上设定像素工作区17和非像素工作区。

如图6，对于阵列基板上的每个像素单元来说，像素工作区17位于像素电极13所在的区域，但像素工作区17的面积比像素电极13的面积小，且像素工作区的面积是像素电极13面积的80%以上。每个像素单元上，像素工作区以外的区域就是非像素工作区（图未示）。

像素工作区17配向膜的配向方向与非像素工作区的配向膜的配向方向垂直，彩膜基板20的配向膜的配向方向与像素工作区17配向膜的配向方向也垂直，即：非像素工作区的配向膜的配向方向与彩膜基板20的配向膜的配向方向相同，且所述配向膜材料为光配向材料。

像素工作区17配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针45°，非像素工作区配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针135°，彩膜基板20配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针135°；或者像素工作区16配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针135°，非像素工作区配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针45°，彩膜基板20配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针45°。

其中像素工作区17、非像素工作区、以及彩膜基板20的配向膜均采用紫外光配向。

对于阵列基板10的配向膜具有两个方法，在制造过程中，可以先用光刻工艺将像素工作区17阻挡，在非像素工作区涂配向膜，也可以先用光刻工艺将非像素工作区阻挡，在像素工作涂配向膜。完成阵列基板10和彩膜基板20配向膜配向后，然后在阵列基板10或彩膜基板20上滴下液晶30和封胶框，最后用紫外光照射固化，使阵列基板和彩膜基板固化在一起。

图7为与图6对应的另一种阵列基板的结构示意图，由于非像素工作区为常黑态，故可以减少遮光线，并存储电极可以做小，可以有效的增加像素开口率。

如图8所示为本发明液晶显示面板的结构示意图，由于阵列基板10的像素工作区16配向膜的配向方向与彩膜基板20配向膜的配向方向垂直，液晶30可以起到光阀的作用，而在阵列基板10的非像素工作区配向膜的配向方向与彩膜基板20配向膜的配向方向相同，故在阵列基板的非像素工作区始终处于暗态，从而阵列基板不会发生漏光现象，进而起到黑色矩阵BM的作用。

图9所述为本液晶显示面板的彩膜基板的另一实施例的结构示意图，在本实施例中，彩膜基板20仍包括空白区域21和位于空白区域上RGB色层22，空白区域21也是玻璃基板，本实施例的彩膜基板与上述实施例的彩膜基板不同的是：每个RGB色层22设有三个子色区，分别为R色层221、G色层222、以及B色层223，每个子色区所在的区域内设有彩膜基板像素工作区23和位于像素工作区23以外的非像素工作区。

对于彩膜基板的每个子色区来说，像素工作区23的面积比子色区的面积小，且像素工作区的面积是子色区面积的80%以上。

在彩膜基板上，像素工作区23配向膜的配向方向与非像素工作区的配向膜的配向方向垂直，阵列基板10的配向膜的配向方向与彩膜基板的像素工作区23配向膜的配向方向也垂直，即：彩膜基板的非像素工作区的配向膜的配向方向与阵列基板10的配向膜的配向方向相同。

彩膜基板的像素工作区23配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针45°，彩膜基板的非像素工作区配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针135°，阵列基板10配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针135°；或者彩膜基板的像素工作区23配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针135°，彩膜基板的非像素工作区配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针45°，阵列基板10配向膜的配向方向为与水平方向成逆时针45°。

如图10所示为本发明液晶显示面板的结构示意图，由于彩膜基板的像素工作区23配向膜的配向方向与阵列基板10配向膜的配向方向垂直，液晶30可以起到光阀的作用，而在彩膜基板20的非像素工作区配向膜的配向方向与阵列基板10配向膜的配向方向相同，故在彩膜基板的非像素工作区始终处于暗态，从而彩膜基板不会发生漏光现象，进而起到黑色矩阵BM的作用。

虽然本实施例限定的是TN型液晶显示面板，但随着技术的发展，本发明也可以用于IPS显示面板或VA面板。

本发明将阵列基板或彩膜基板的每个像素单元分为像素工作区和非像素工作区，通过将配向膜在像素工作区的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直，彩膜基板没有设置黑色矩阵，从而可以有效的降低TN型液晶的漏光现象，减少了制程中的BM制作和遮光线的制作，有效的减少了工艺，降低了成本。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板，包括：阵列基板、彩膜基板、以及夹设在阵列基板与彩膜基板之间的液晶，其特征在于：

阵列基板包括：扫描线、数据线、以及由扫描线和数据线交叉限定的若干像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极、以及配向膜；所述每个像素单元还包括位于像素电极区域内的像素工作区、以及位于像素工作区以外的非像素工作区，每个像素工作区的面积小于每个像素电极的面积，且配向膜在像素工作区的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直；

彩膜基板包括空白区域、位于空白区域上的若干色区、以及配向膜，所述配向膜在彩膜基板上的配向方向与阵列基板的非像素工作区的配向方向相同。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：所述像素工作区的面积为像素电极面积的至少80%。

3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：配向膜在像素工作区的配向方向为与水平方向逆时针呈45°，配向膜在非像素工作区的配向方向为与水平方向逆时针呈135°，配向膜在彩膜基板上的配向方向为与水平方向逆时针45°。

4.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：配向膜在像素工作区的配向方向为与水平方向逆时针呈135°，配向膜在非像素工作区的配向方向为与水平方向逆时针呈45°，配向膜在彩膜基板上的配向方向为与水平方向逆时针呈135°。

5.根据权利要求1至4所述的液晶显示面板，其特征在于：所述像素工作区位于彩膜基板的色区范围内。

6.一种液晶显示面板，包括：阵列基板、彩膜基板、以及夹设在阵列基板与彩膜基板之间的液晶，其特征在于：

彩膜基板包括：空白区域、位于空白区域上的若干色区、以及配向膜，所述每个色区具有三个子色区，所述每个子色区设有位于子色区区域内的像素工作区、以及位于像素工作区以外的非像素工作区，每个像素工作区的面积小于每个子色区的面积，配向膜在像素工作上的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直；

阵列基板保密：扫描线、数据线、以及由扫描线和数据线交叉限定的若干像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极、以及配向膜，配向膜在阵列 基板上的配向方向与彩膜基板的非像素工作区的配向方向相同。

7.根据权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于：所述每个像素工作区的面积为每个子色区面积的至少80%。

8.根据权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于：配向膜在像素工作区的配向方向为与水平方向逆时针呈45°，配向膜在非像素工作区的配向方向为与水平方向逆时针呈135°，配向膜在阵列基板上的配向方向为与水平方向逆时针45°。

9.根据权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于：配向膜在像素工作区的配向方向为与水平方向逆时针呈135°，配向膜在非像素工作区的配向方向为与水平方向逆时针呈45°，配向膜在阵列基板上的配向方向为与水平方向逆时针呈135°。

10.根据权利要求6至9所述的TN型液晶显示面板，其特征在于：所述像素工作区位于阵列基板的像素电极范围内。 

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