CN102597826B - 用于低色散多模光纤的经修正的折射率分布 - Google Patents
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Abstract
提供一种改善的多模光纤光缆。该改善的多模光纤光缆包括,但不局限于,一种折射率分布,该折射率分布被设计成用于补偿被耦合到多模光纤光缆中的激光发射模式的与半径相关的波长分布,以使多模光纤光缆中的模式色散最小化。通过修正折射率的α分布,将差分模式延迟(DMD)调整为半径的函数。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求2009年8月19日提交的题为“MODIFIED REFRACTIVE INDEXPROFILE FOR LOW-DISPERSION MULTI-MODE FIBER”的美国临时专利申请No.61/235,236的权益,其内容整体援引包含于此。
本申请包含下述申请的全部:2010年6月9日提交的题为“DESIGNMETHOD AND METRIC FOR SELECTING AND DESIGNING MULTIMODEFIBER FOR IMPROVED PERFORMANCE(用于选择和设计具有改善性能的多模光纤的设计方法和度量)”的S/N 12/797,328美国专利申请;以及2009年11月30日提交的题为“MULTIMODE FIBER HAVING IMPROVED INDEXPROFILE(具有改善的折射率分布的多模光纤)”的S/N 12/627,752的美国专利申请。
背景技术
针对多模光纤光缆(MMF)传输设计的最高发展水平的高速光收发器使用垂直腔面发射激光器(VCSEL)作为光源。VCSEL,类似于传统发光二极管(LED),是表面发射器件,但与LED不同的是,VCSEL的物理结构在形成激光腔的布拉格反射体之间包括由多个量子阱所构成的层。结果,VCSEL的输出是高度相干的,其包含离散的光学模式。该器件支持与多个横模耦合的单个纵模,这导致具有略为不同波长的光的分布。另外,每个模式具有被定义的发射模式。该物理效应导致其中发射波长与半径相关的发射模式。VCSEL模也是动态的,并与MMF的光学特性结合而造成MMF系统性能的变化。性能变化可归因于MMF纤芯缺陷和模式色散效应。
多数MMF包含一种或多种纤芯缺陷,这些缺陷起因于制造工艺中气体流量控制的变化。可修正折射率分布,以使工艺变化引起折射率分布或偏置,从而补偿与波长相关的VCSEL发射模式的作用,改善光纤性能。为了确定不具有纤芯缺陷的最佳折射率分布,人们必须首先考虑由VCSEL发射的光学模式。参见图1,对于代表性的VCSEL,出射的光学模式图示为驱动电流的函数。
由于器件的晶体结构和圆形对称性,VCSEL中的每一受激横模都存在两种偏振状态。电场取向限定了光学模式的偏振状态。当驱动电流导通(5mA)时,基模在器件的中心附近受到激励。随着驱动电流增加,更多的模式(高阶模)被激励,这些模式占据了器件的有源区或有源孔径的外部区域。每个模式都具有离散的光能,并因此具有离散的光波长,其关系表示为E=hc/λ,其中h=普朗克常数,而c是光速。低阶模具有较长的波长,而高阶模具有较短的波长和较高的能量。图2示出了模式和波长之间的这种相关性。基模图示为具有最长波长而高阶模具有较短波长。
由于VCSEL模的波长与半径相关,在光纤中传播的模式也与波长相关。VCSEL低阶模耦合到光纤低阶模中,而VCSEL高阶模耦合到光纤高阶模中。这种波长相关性展示在图3所示的光谱分析中。在该分析中,MMF连接于包含VCSEL的高速光发射器。横越MMF的输出端扫描具有5微米纤芯直径(850nm的SMF)的单模光纤(SMF)。通过使用光谱分析仪(OSA),各模式的光谱被记录为径向位移的函数。通常具有五个或更多个由VCSEL发射出的主波长。在每个主波长的区域中,通常具有由其它模式或偏振状态产生的若干紧密间隔的波长。
我们从图3中看到,随着横向偏移的增加,由较长波长(接近849.33nm)承载的相对光功率减小,同时较短波长(接近848.1nm)的相对功率增大。还观察到,在径向偏移较大的情况下,整体向较短波长移动。由于光谱的这种径向分布,在零偏移下的光脉冲比较大径向偏移下的光脉冲具有更长的RMS中心波长,如图4中通过箭头表示的那样。中心波长λc是光波峰的RMS加权平均,由下式给出:
尽管VCSEL模的光谱分布可以因器件而异,然而器件的物理性质保持不变,并且可以逼近一标称径向分布。将代表性VCSEL的径向分布与空间耦合到波导光纤模式中相结合地使用,可改善MMF的折射率分布以减小模式色散,由此改善MMF的性能。因此,希望提供一种新的折射率分布,用于补偿激光源的波长与半径相关的的发射模式,以减少MMF或其它波导中的模式色散。
概述
在一个方面,提供一种多模光纤光缆。该多模光纤光缆包括,但不局限于,一种折射率分布,该折射率分布被设计成用于补偿被耦合到多模光纤光缆中的激光发射模式的波长分布,以使多模光纤光缆中的模式色散最小化,其中所述波长分布与半径相关。
在一个方面,提供一种设计改善的多模光纤光缆的方法,该多模光纤光缆补偿被耦合到基准多模光纤光缆中的激光发射模式的波长分布,其中所述波长分布与半径相关。该方法包括,但不局限于,通过测量基准多模光纤光缆中的DMD波长分布来确定基准多模光纤光缆中的材料色散和模式色散的量,所述材料色散和模式色散起因于使用激光器射入基准多模光纤光缆的光辐射脉冲。该基准多模光纤光缆具有基准折射率分布。该方法还包括,但不局限于,为改善的多模光纤光缆设计改善的折射率分布,这种折射率分布对被耦合到基准多模光纤光缆中的激光发射模式的与半径相关的波长分布的至少一部分作出补偿。
在一个方面,提供一种设计改善的多模光纤光缆的方法,所述多模光纤光缆补偿材料色散和模式色散。该方法包括,但不局限于,测量基准多模光纤光缆中的DMD波长分布。该基准多模光纤光缆具有基准折射率分布。该方法还包括,但不局限于,为改善的多模光纤光缆设计改善的折射率分布,这种折射率分布对基准多模光纤光缆中的任何材料色散的至少一部分作出补偿。
本发明的范围仅由所附权利要求书限定,不受此概述部分中诸陈述的影响。
附图简述
本发明可参照下面附图和说明得到更好的理解。附图中的组件不一定是按比例的,相反,重点放在示出本发明的原理上。
图1示出根据本发明一个实施例在代表性VCSEL中激励的各个模式针对递增驱动电流的图像。每个横模具有两种可能的偏振状态,标示为0°和90°。这两种偏振状态相加,以形成总的模式输出分布。
图2示出根据本发明一个实施例的公布数据图表,该图表示出了VCSEL模和光波长之间的相关性(“Scanning Near-field Optical MicroscopyVCSEL’s(扫描近场光学显微镜VCSEL”),版权WITec科学仪器和技术GmBH2000)。高阶模具有较短波长。高阶模占据器件中较大的半径区域。
图3示出根据本发明一个实施例的、MMF中作为径向偏移之函数的、以5微米为步长的光谱图。高阶模具有比低阶模更短的波长。箭头指示了每种径向偏移下的RMS中心波长。
图4示出根据本发明一个实施例针对误码率(BER)测试系统VCSEL横跨MMF测量RMS中心波长所得的曲线图。
图5A示出根据本发明一个实施例的近似的VCSEL光强(高斯)分布图。
图5B示出根据本发明一个实施例的VCSEL的归一化光功率(功率=强度×面积)的曲线图。
图6示出根据本发明一个实施例的关于折射率减小Δn的图表,其中折射率的减小是校正光源波长与半径的相关性所需要的。
图7示出根据本发明一个实施例的、表示为绿色(绿色,α=α0)的、使单个波长的差分模式延迟(DMD)最小化的标准抛物线形折射率分布图。红色曲线表示所建议的使总色散、模式色散加颜色或材料色散最小化的改善的折射率分布。注意,由于图表中无法看清建议值的变化,因此作了夸大表示。注意,颜色色散和材料色散在这里可互换地使用。
图8示出根据本发明一个实施例针对耦合到MMF中的VCSEL的空间光谱分布而优化得到的所建议的DMD脉冲波形分布图。该DMD脉冲波形分布将对颜色或材料色散作出补偿,并减小总色散。
图9示出根据本发明一个实施例的针对递减半径而线性增加折射率Δn的曲线图,其中针对递减半径而线性增加折射率是校正光学模式波长的光谱宽度和半径相关性所需要的。
图10示出根据本发明一个实施例的、表示为绿色(绿色,α=α0)的、使单个波长的DMD最小化的标准抛物线形折射率分布图。在所建议的使总散射最小化的改善的折射率分布中(用红色表示),针对递减半径,折射率的变化Δn增加,这是校正光波长的半径相关性所需要的。
图11示出根据本发明一个实施例的折射率的线性变化Δn相对于预定径向位置的图表。当半径减小至r0以下时,Δn增加,而针对r0以上的递增半径,Δn减小。必须选择总变化Δn,以校正发射波长VCSEL的光谱宽度和半径相关性。
图12示出根据本发明一个实施例的、表示为绿光(绿光,α=α0)的、使单个波长的DMD最小化的标准抛物线形折射率分布图。以红色表示的是为获得Δn线性变化所建议的改善的折射率分布,由此经优化的折射率对于r0以上的半径为较高,而对于r0以下的半径为较低。
图13示出根据本发明一个实施例的折射率分布在高光功率区内的另一种变化的图表。
图14示出根据本发明一个实施例的、表示为绿色(绿色,α=α0)的、使单个波长的DMD最小化的标准抛物线形折射率分布图。以红色表示的是为获得阶梯式的Δn线性变化所建议的改善的折射率分布,由此经优化的折射率对于r0以上的半径为较小。
图15示出根据本发明一个实施例的针对OM3 MMF测量得到的DMD脉冲波形分布图,其表现优于预期的系统性能。
详细描述
本发明利用了下述发现,即提供一种具有改善的折射率分布的多模光纤,其中所述改善的折射率分布被设计成用于补偿激光发射模式的波长与半径相关的发射模式,当被耦合到多模光纤模式中时,这会有助于减小模式色散。结果得到的改善的折射率分布将减小模式色散,提高光波导性能。
MMF中的模式色散具有根据电信工业协会文件No.TIA-455-220-A测得的差分模式延迟(DMD)分布。由于获得理想的折射率分布是极为困难的,因此偏置DMD分布,致使大约19微米偏移下的径向波峰比大约5微米下的波峰更快地到达光纤的输出端,这足以部分地补偿光纤模式的RMS中心波长分布。当前标准的抛物线形折射率分布过去被定义为最佳分布,如DMD使用具有单个测量波长的单色源所测得的,该分布能使得模式色散最小。
假设VCSEL以及其它光源的光强可用高斯分布来近似,如图5A所示,人们可推断出绝大多数光功率(>80%)在5微米至10微米半径窗内传播,该半径窗紧密配合于分布的半高宽。
因此较佳的是,径向折射率分布的变化至少发生在5微米-19微米的半径窗内。显然地,其它代表性的点可能更适于不同的VCSEL设计。在本公开中,首先规定了折射率分布的优选偏差,对于代表性的VCSEL光谱,该优选偏差有助于使波长相关模式在整个光纤纤芯上的作用最小化。由于最佳折射率分布依赖于光学光源的光谱宽度,因此所建议的技术可应用于任何光谱宽度和空间分布。
在第一例子中,使用1nm的标称光谱宽度,其包含>光功率的95%,这不同于2002年5月的TIA/EIA-455-224“Calibration of Fibre OpticChromatic Dispersion Test Sets(校准光纤颜色色散测试装置)”中定义的经计算得到的光谱宽度,该文献将ΔRMS光谱宽度规定为:
ΔRMS光谱宽度低估了VCSEL的宽光谱分布的效果。
在本发明的一个实施例中,针对模式波长的给定径向分布,使模式色散最小化所需的折射率的变化Δn一般看上去像是图6所示的曲线。在该实施例中,尽管选择了折射率分布的线性减小,然而可认识到进一步提高对不同源发射模式的波长补偿的其它函数。
这种折射率分布的减小如图7所示地修正了抛物线形折射率分布。由Δn/(n2-n1)表示的Δn的最大变化是非常小的,对于这里考虑的VCSEL来说在n的0.2%的数量级。为了说明目的,在图7中,这些改变被放大了因子30。示例性折射率约为n2(纤芯中心折射率)=1.46而n1(包覆层折射率)=1.45。
参见图7,对于用红色表示的改善的折射率分布,纤芯的半径尺寸小于25微米。然而,Δn、Δr的实际值是如此地小,以致于这种差别是完全可忽略的(Δr/r=0.11%)。MMF的容限在TIA-492AAAC和TIA-492AAAD中规定为6%。
如图8所示,所建议的改善的折射率分布将产生改善的DMD波形分布(使用窄波长激光源)。改善的DMD波形分布表征为,对于递增的半径,径向脉冲波形向左单调平移。由于使用MMF的通信网络利用VCSEL,因此图8所示的波长与半径相关的发射模式将部分地补偿模式色散,以使所有模式基本上同时到达检测器。结果,获得较低的总色散并实现较高性能的多模光纤。存在若干方法可用于调节折射率分布,以获得具有减小的模式色散的、与图8所示相同或相似的DMD波形分布。
例如,折射率可在半径较小处增加,如图9所示。对于该替代的补偿方法,图10所示了对标准或基准的抛物线形折射率分布的修正结果。
替代地,折射率变化Δn可相对于预定的径向位置作调整。例如,我们能使用与最大波峰光功率对应的径向位置,如图5B所示。在这种情形下,当半径减小至r0以下时Δn增加,并对于r0以上的半径,Δn减小,其中r0是Δn为零的径向位置。总变化Δn将仍然校正由VCSEL射出的光的光谱宽度和径向分布。对于这种情形的折射率分布的相应变化示于图12中。
由于很少的光功率(<20%)留驻在MMF的内部区域和外部区域内(即在小于5微米和大于19微米的半径处),因此对折射率分布的局部修正就足以减小模式色散。已发现使超出5微米的径向距离处的折射率分布线性减小能显著地减小模式色散。参见图13,其示出了表现出高性能的样本MMF的Δn,其中对应的折射率分布示于图14中。
图15示出了这种高性能MMF被测得的DMD波形分布。尽管这种被建议的平移未覆盖全部高光功率区,然而这种局部平移足以减小模式色散,导致高性能的MMF。
一般来说,通过偏置折射率分布以使波峰在大约19微米径向偏移下的DMD波形比波峰在大约5微米径向偏移下的DMD波形更快地到达光纤输出端,将实现模式色散减小。根据一个实施例,可使分布偏移,以使19微米径向偏移下的波峰为±8微米并使5微米径向偏移下的波峰为±5微米。这种偏置度量被定义为大约19微米偏移下的DMD波形的波峰(相对光纤长度被归一化,单位为皮秒/米(ps/m))和大约5微米偏移下的DMD波形的波峰(ps/m)之间的相对延迟差。遵循这种度量的DMD波形分布被称为“向左”平移。在0.01-0.1ps/m数量级上的相对延迟偏置度量对于在高速以太网中使用的VCSEL的典型径向波长分布特征足以表现出改善的误码率(BER)系统性能。重要的是要注意,在DMD波形分布表现出“向右”平移的光纤中,19微米偏移下的模式比5微米偏移下的模式更晚地到达光纤输出端,导致高模式色散并因此导致糟糕的BER系统性能。同样,具有向左平移的DMD波形分布的MMF比无平移的MMF表现得更好,其中无平移的MMF通常被认为是具有最低模式色散的性能最好的DMD波形分布。
由于MMF通常表现出一个或多个纤芯缺陷,因此使用向左平移的DMD波形分布是一种规定模式色散补偿以获得改善的光纤性能的简单有效方法。
在本发明的一个实施例中,选择使用表现出所需纤芯缺陷的光纤。在本公开中,尽管使用的是折射率的线性变化Δn,然而也可使用替代的函数。
尽管已展示和描述了本文描述的主题的特定方面,然而本领域技术人员应当理解,基于本文的教导,可不脱离本文所述主题及其更宽的范围作出多种改变和修正,因此,所附权利要求拟将落在本文描述的主题的真实精神和范围内的所有这些改变和修正涵盖在其范围内。此外要理解,本发明由所附权利要求书定义。因此,本发明不受限制,除了受所附权利要求书及其等效物的限制。
Claims (18)
1.一种多模光纤光缆,包括:
具有中心和半径的纤芯;
所述纤芯进一步具有经修正的折射率分布,其特征在于,所述折射率分布被设计成用于补偿被耦合到所述多模光纤光缆中的激光发射模式的波长分布,从而使所述多模光纤光缆中的模式色散最小化,其中所述波长分布与半径相关;
所述经修正的折射率分布具有差分模式延迟(DMD)波形分布的特征,所述DMD波形分布在距离所述纤芯的所述中心达5微米至19微米的范围内的窗内对于递增的半径具有径向脉冲波形的向左平移,所述向左平移发生在所述窗的50%以上,其中19微米下的波形波峰与5微米下的波形波峰偏差0.01ps/m-0.1ps/m,并且所述经修正的折射率分布进一步具有经修正量Δn(r)的特征,以使发射模式中的波长变化补偿至少一些模式色散。
2.如权利要求1所述的多模光纤光缆,其特征在于,所述径向脉冲波形的向左平移是针对增加的半径的向左单调平移。
3.一种设计改善的多模光纤光缆的方法,所述多模光纤光缆补偿被耦合到基准多模光纤光缆中的激光发射模式的波长分布,其中所述波长分布与半径相关,所述方法包括:
通过测量所述基准多模光纤光缆中的DMD波形分布来确定所述基准多模光纤光缆中材料色散和模式色散的量,所述材料色散和模式色散起因于使用激光器射入所述基准多模光纤光缆的光辐射脉冲,其中所述基准多模光纤光缆具有基准折射率分布;
为改善的多模光纤光缆设计改善的折射率分布,所述折射率分布对被耦合到所述基准多模光纤光缆中的激光发射模式的与半径相关的波长分布的至少一部分作出补偿;以及
用所述经修正的折射率分布来设计所述改善的多模光纤光缆。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,还包括:
确定测得的DMD波形分布表现出向左平移还是向右平移;以及
如果测得的DMD波形分布表现出向右平移,在设计所述改善的折射率分布时使所述基准折射率分布线性减小。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,如果测得的DMD波形分布表现出向右平移,则调整所述基准折射率分布以使所述改善的多模光纤光缆具有表现出向左平移的DMD波形分布。
6.如权利要求3所述的方法,其特征在于,通过使所述基准折射率分布线性减小,来调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布。
7.如权利要求3所述的方法,其特征在于,通过下述步骤调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布:针对递减半径,增加折射率的变化△n,这是校正光波长的半径相关性所需要的。
8.如权利要求3所述的方法,其特征在于,通过下述步骤调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布:对所述基准折射率分布修正一个量△n(r),以使发射模式的波长变化补偿模式色散。
9.如权利要求3所述的方法,其特征在于,通过下述步骤调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布:修正所述基准折射率分布,以使针对所述基准折射率分布的折射率变化△n(r)为负,并且随着径向距离的递增,所述折射率变化的绝对值增加,从而补偿发射模式的波长变化。
10.如权利要求3所述的方法,其特征在于,通过下述步骤调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布:修正所述基准折射率分布,以使针对所述基准折射率分布的折射率变化△n(r)为正,并且随着径向距离的递增,所述折射率变化的绝对值减小,从而补偿发射模式的波长变化。
11.如权利要求3所述的方法,其特征在于,通过下述步骤调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布:修正所述基准折射率分布,以使针对所述基准折射率分布的折射率变化△n(r)在低于r0时为正值,并且随着径向距离的递增,所述折射率变化的绝对值减小,以及使针对所述基准折射率分布的折射率变化△n(r)为负,并且随着径向距离的递增,所述折射率变化的绝对值增加,从而补偿发射模式的波长变化,其中r0是折射率变化为零的径向位置。
12.一种设计改善的多模光纤光缆的方法,所述多模光纤光缆补偿材料色散和模式色散,所述方法包括:
测量所述基准多模光纤光缆中的DMD波形分布,其中所述基准多模光纤光缆具有基准折射率分布;
为所述改善的多模光纤光缆设计改善的折射率分布,所述改善的折射率分布对所述基准多模光纤光缆中的任何材料色散的至少一部分作出补偿;以及
用所述经修正的折射率分布来设计所述改善的多模光纤光缆。
13.如权利要求12所述的方法,其特征在于,还包括:
确定测得的DMD波形分布表现出向左平移还是向右平移;以及
如果测得的DMD波形分布表现出向右平移,在设计所述改善的折射率分布时使所述基准折射率分布线性减小。
14.如权利要求12所述的方法,其特征在于,如果测得的DMD波形分布表现出向右平移,则调整所述基准折射率分布以使所述改善的多模光纤光缆具有表现出向左平移的DMD波形分布。
15.如权利要求12所述的方法,其特征在于,通过使所述基准折射率分布线性减小,来调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布。
16.如权利要求12所述的方法,其特征在于,通过下述步骤调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布:针对递减半径,增加折射率的变化△n,这是校正光波长的半径相关性所需要的。
17.如权利要求12所述的方法,其特征在于,通过下述步骤调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布:对所述基准折射率分布修正一个量△n(r),以使发射模式的波长变化补偿模式色散。
18.如权利要求12所述的方法,其特征在于,通过下述步骤调整所述基准折射率分布并设计所述改善的折射率分布:修正所述基准折射率分布,以使针对所述基准折射率分布的折射率变化△n(r)为负,并且随着径向距离的递增,所述折射率变化的绝对值增加,从而补偿发射模式的波长变化。
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