CN102504982A - 一种去霉清洗剂 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种去霉清洗剂，其组分及重量百分比为：EDTA为50%、硫酸钠为10%、山梨酸钾为10%、碳酸钠为20%、消泡剂为10%。本发明的优点是合理配比清洗剂组分及含量，特别适用于对霉菌的清洁，既有良好的去污性能，又能彻底清除霉菌，杀菌消毒。

Description

一种去霉清洗剂

技术领域

本发明涉及一种清洗剂。

背景技术

清洗剂种类繁多，根据不同的清洗对象和特殊要求而有所区分。普通清洗剂主要是去除污垢的作用，但是对已经有霉变的物体进行清洗时，普通清洗剂往往难以达到效果，且霉菌带有致病菌种，如果不清洁彻底，对人体会产生伤害。

发明内容

发明目的：针对上述问题，本发明的目的是提供一种去除霉菌的清洗剂，清洁力强。

技术方案：一种去霉清洗剂，其组分及重量百分比为：EDTA为50%、硫酸钠为10%、山梨酸钾为10%、碳酸钠为20%、消泡剂为10%。

有益效果：与现有技术相比，本发明的优点是合理配比清洗剂组分及含量，特别适用于对霉菌的清洁，既有良好的去污性能，又能彻底清除霉菌，杀菌消毒。

具体实施方式

下面结合具体实施例，进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。

一种去霉清洗剂，其组分及重量百分比为：EDTA为50%、硫酸钠为10%、山梨酸钾为10%、碳酸钠为20%、消泡剂为10%。

Claims (1)

1.一种去霉清洗剂，其特征在于：其组分及重量百分比为：EDTA为50%、硫酸钠为10%、山梨酸钾为10%、碳酸钠为20%、消泡剂为10%。