CN102489089A - 制鞋用除尘设备 - Google Patents

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苏福男
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Abstract

本发明公开了一种制鞋用除尘设备,包括下端封闭的圆柱形过滤筒,在过滤筒的中央有下端贯穿封闭体的轴,其上端通过安装在支架上的轴承定位;在封闭体的下面,轴的下端上连接有单向传动装置;在过滤筒的外壁上紧帖有除尘刷;过滤筒的上端有密封连接件,它与制鞋机械的抽风装置活动密封连接,由于本发明采用单向旋转,并且在过滤筒的外壁设有除尘刷的结构,这样就可及时清除附着在过滤筒外的灰尘,过滤筒就不易堵塞,容易清理;由于发明体积小,易于装在各种制鞋机械内,成为一体化的设备。

Description

制鞋用除尘设备
技术领域
本发明涉及一种除尘设备,特别涉及一种制鞋用除尘设备。                                                                
背景技术
目前,制鞋行业用打粗机、抛光机等机械在对产品进行整形、打粗或产品抛光时产生的细微颗粒(皮屑、细尘)实施回收时多采用在机体外布袋过滤的方式,这种过滤方式存在体积大,不易内置,使用后难清理、以及容易堵塞等缺陷。。 
发明内容
为了克服上述缺陷,本发明提供了一种制鞋用除尘设备,该除尘设备能有效去除制鞋过程中产生的灰尘。
本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种制鞋用除尘设备,包括下端封闭的圆柱形过滤筒,在过滤筒的中央有下端贯穿封闭体的轴,其上端通过安装在支架上的轴承定位;在封闭体的下面,轴的下端上连接有单向传动装置;在过滤筒的外壁上紧帖有除尘刷;过滤筒的上端有密封连接件,它与制鞋机械的抽风装置活动密封连接,在上固定圈与下固定圈之间有与其粘接在一起的外表包覆有过滤布的支撑网,在下端封闭体的下面,轴下端连有单向轴承,轴承的外壳与过滤筒固定连接;气动活塞与连接杆连接,连接杆与轴相连。
作为本发明的进一步改进,所述密封连接件为成对紧帖的环氧树脂密封圈,下密封圈与过滤筒的上端口固定连接,上密封圈与制鞋机的抽风口固定连接。
作为本发明的进一步改进,所述密封连接件的上密封圈的下部嵌在下密封圈内。
本发明的有益效果是:由于本发明采用单向旋转,并且在过滤筒的外壁设有除尘刷的结构,这样就可及时清除附着在过滤筒外的灰尘,过滤筒就不易堵塞,容易清理;由于本发明体积小,易于装在各种制鞋机械内,成为一体化的设备。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为本发明的剖视图。            
具体实施方式
为了加深对本发明的理解,下面将结合实施例和附图对本发明作进一步详述,该实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明保护范围的限定,图1、2出示了本发明一种制鞋用除尘设备的实施方式:包括下端封闭的圆柱形过滤筒1,在过滤筒1的中央有下端贯穿封闭体2的轴4,其上端通过安装在支架3上的轴承定位;在封闭体2的下面,轴4的下端上连接有单向传动装置5;在过滤筒1的外壁上紧帖有除尘刷6;过滤筒1的上端有密封连接件7,它与制鞋机械的抽风装置活动密封连接,在上固定圈11与下固定圈12之间有与其粘接在一起的外表包覆有过滤布的支撑网13,在下端封闭体2的下面,轴4下端连有单向轴承51,轴承51的外壳与过滤筒1固定连接;气动活塞52与连接杆53连接,连接杆53与轴4相连,所述密封连接件7为成对紧帖的环氧树脂密封圈,下密封圈71与过滤筒1的上端口固定连接,上密封圈72与制鞋机的抽风口固定连接,所述密封连接件7的上密封圈72的下部嵌在下密封圈71内。

Claims (3)

1.一种制鞋用除尘设备,包括下端封闭的圆柱形过滤筒(1),在过滤筒(1)的中央有下端贯穿封闭体(2) 的轴(4),其上端通过安装在支架(3)上的轴承定位;其特征在于:在封闭体(2)的下面,轴(4)的下端上连接有单向传动装置(5);在过滤筒(1)的外壁上紧帖有除尘刷(6);过滤筒(1)的上端有密封连接件(7),它与制鞋机械的抽风装置活动密封连接,在上固定圈(11)与下固定圈(12)之间有与其粘接在一起的外表包覆有过滤布的支撑网(13),在下端封闭体(2)的下面,轴(4)下端连有单向轴承(51),轴承(51)的外壳与过滤筒(1)固定连接;气动活塞(52)与连接杆(53)连接,连接杆(53)与轴(4)相连。
2.根据权利要求1所述的制鞋用除尘设备,其特征在于:所述密封连接件(7)为成对紧帖的环氧树脂密封圈,下密封圈(71)与过滤筒(1)的上端口固定连接,上密封圈(72)与制鞋机的抽风口固定连接。
3.根据权利要求1所述的制鞋用除尘设备,其特征在于:所述密封连接件(7)的上密封圈(72)的下部嵌在下密封圈(71)内。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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