CN102370281A - 松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块及其制备工艺 - Google Patents

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赵见栓
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Abstract

本发明涉及发制品假发生产领域，特别涉及一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块及其制备工艺。本发明的技术方案是这样实现的：一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块，由高仿真皮肤、松紧网和发帘组成，其特征在于：松紧网前沿附加有高仿真皮肤，发帘直接钩在松紧网和高仿真皮肤上。本发明具有如下的积极效果：本发明通过打发、配档、整理拍齐、排发、美容、粘胶、织发、清洗工序，采用本发明的步骤生产出的发块发际线连接处逼真、自然，同时确保顶部薄、透气性好，佩戴轻便舒适。

Description

松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块及其制备工艺
技术领域
本发明涉及发制品假发生产领域，特别涉及一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块及其制备工艺。
背景技术
如今人们在日常生活中有时会用到假发，有些人想节省打理头发、转换发型的时间，就会戴假发，这样不仅可以转换不同的发型样式，而且也不必担心经常摆弄发型而损坏头发。其中发块是一种常用的发制品假发。
目前制作发块现有技术中存在以下缺陷：发际线连接处不逼真、不自然，顶部厚、透气性差、笨重、佩戴不舒适。
发明内容
针对现有技术中存在的不足，本发明的目的在于提供一种发际线连接处逼真、自然，同时确保顶部薄、透气性好，佩戴轻便舒适的松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块及其制备工艺。
本发明的技术方案是这样实现的：一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块，由高仿真皮肤、松紧网和发帘组成，其特征在于：松紧网前沿附加有高仿真皮肤，发帘直接钩在松紧网和高仿真皮肤上。
一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块的制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：
步骤1：对一把假发进行打发、配档，将假发拍齐至一头整齐，另一头按照规格呈现自然幅度；
步骤2：将步骤1得到的假发发把拍齐的一头均匀的送入平车过单线排发，得到发帘；
步骤3：把步骤2得到的发帘按照需要的手感和曲度进行美容处理；
步骤4：在松紧网前沿刷一层薄胶，将高仿真皮肤粘合在松紧网前沿上；
步骤5：将步骤3美容处理后的发帘直接钩在步骤4：粘胶后的松紧网和高仿真皮肤上，得到发块；
步骤6：用水将步骤5得到的发块清洗干净。
本发明具有如下的积极效果：本发明通过打发、配档、整理拍齐、排发、美容、粘胶、织发、清洗工序，采用本发明的步骤生产出的发块发际线连接处逼真、自然，同时确保顶部薄、透气性好，佩戴轻便舒适。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图。
具体实施方式
实施例1：一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块，由高仿真皮肤、松紧网和发帘组成，其特征在于：松紧网前沿附加有高仿真皮肤，发帘直接钩在松紧网和高仿真皮肤上。
一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块的制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：
步骤1：对一把假发进行打发、配档，将假发拍齐至一头整齐，另一头按照规格呈现自然幅度；
步骤2：将步骤1得到的假发发把拍齐的一头均匀的送入平车过单线排发，得到发帘；
步骤3：把步骤2得到的发帘按照需要的手感和曲度进行美容处理；
步骤4：在松紧网前沿刷一层薄胶，将高仿真皮肤粘合在松紧网前沿上；
步骤5：将步骤3美容处理后的发帘直接钩在步骤4：粘胶后的松紧网和高仿真皮肤上，得到发块；
步骤6：用水将步骤5得到的发块清洗干净。

Claims (2)

1.一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块，由高仿真皮肤、松紧网和发帘组成，其特征在于：松紧网前沿附加有高仿真皮肤，发帘直接钩在松紧网和高仿真皮肤上。
2.根据权利要求1所述一种松紧网前沿附加高仿真皮肤的男装发块的制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：
步骤1：对一把假发进行打发、配档，将假发拍齐至一头整齐，另一头按照规格呈现自然幅度；
步骤2：将步骤1得到的假发发把拍齐的一头均匀的送入平车过单线排发，得到发帘；
步骤3：把步骤2得到的发帘按照需要的手感和曲度进行美容处理；
步骤4：在松紧网前沿刷一层薄胶，将高仿真皮肤粘合在松紧网前沿上；
步骤5：将步骤3美容处理后的发帘直接钩在步骤4：粘胶后的松紧网和高仿真皮肤上，得到发块；
步骤6：用水将步骤5得到的发块清洗干净。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6485303A (en) * 1987-09-28 1989-03-30 Aderans Kk Wig having shape holding member
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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