CN102323625A - 一种检测器件有无镀层的方法 - Google Patents

一种检测器件有无镀层的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102323625A
CN102323625A CN201110251657A CN201110251657A CN102323625A CN 102323625 A CN102323625 A CN 102323625A CN 201110251657 A CN201110251657 A CN 201110251657A CN 201110251657 A CN201110251657 A CN 201110251657A CN 102323625 A CN102323625 A CN 102323625A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
composition
base material
elementary composition
elements
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201110251657A
Other languages
English (en)
Inventor
闫武杰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SHANGHAI FAILURE ANALYSIS LABORATORY Co Ltd
Original Assignee
SHANGHAI FAILURE ANALYSIS LABORATORY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SHANGHAI FAILURE ANALYSIS LABORATORY Co Ltd filed Critical SHANGHAI FAILURE ANALYSIS LABORATORY Co Ltd
Priority to CN201110251657A priority Critical patent/CN102323625A/zh
Publication of CN102323625A publication Critical patent/CN102323625A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

本发明提供了一 种检测器件有无镀层的方法，该方法包括以下步骤：A、使用扫描电镜和能谱仪对器件的表面元素进行成份分析；B、将器件的表层去除，使用俄歇电子能谱仪对器件的基材元素成份进行分析；C、比较器件表面元素成份和基材的元素成份，如果器件表面的元素成份和基材的元素成份相同，则说明没有镀层，否则说明有镀层。本发明有如下优点：本发明方法操作步骤少，操作简便，可快速准确判断出器件表面是否有镀层。

Description

一种检测器件有无镀层的方法
 
技术领域
本发明涉及材料的成份分析技术领域。
 
背景技术
在金属或者其他材料制件的表面附有一层金属膜的镀层，可以起到防止腐蚀，提高机械性能，增进美观等作用。在检测器件表面是否有金属镀层时，常用的方法是先做切片，然后用光学显微镜观察器件表面是否有镀层，但该方法对镀层较厚的比较容易分辨，对于镀层小于2微米的就很难分辨出有无镀层。因此，如何快速准确分辨出器件表面是否有镀层成为材料成份分析领域亟待解决的问题。
 
发明内容
为解决现有技术很难分辨出器件表面是否有小于2微米的镀层的问题，本发明提供以下技术方案：
一种检测器件有无镀层的方法，该方法包括以下步骤：
A、使用扫描电镜和能谱仪对器件的表面元素进行成份分析；
B、将器件的表层去除，使用俄歇电子能谱仪对器件的基材元素成份进行分析；
C、比较器件表面元素成份和基材的元素成份，如果器件表面的元素成份和基材的元素成份相同，则说明没有镀层，否则说明有镀层。
作为本发明的一种优选方案，所述步骤A分析得到器件表面元素的种类及其含量百分比。
作为本发明的另一种优选方案，所述步骤B分析得到器件基材元素的种类及其含量百分比。
本发明有如下优点：本发明方法操作步骤少，操作简便，可快速准确判断出器件表面是否有镀层。
 
附图说明
   图1 本发明表面成份分析能谱图。
   
具体实施方式
下面对该工艺实施例作详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围作出更为清楚明确的界定。
本实施例对某种金属器件是否存在镀层进行检测，具体检测步骤如下：
A、使用扫描电镜和能谱仪对器件的表面元素进行成份分析，得到能谱图如图1所示，各元素成份及含量如表一；
表一 表面成份元素及含量
元素 重量百分比(%） 原子百分比(%)
O K 14.38 38.85
Al K 3.42 5.89
Zn L 82.20 55.26
总量 100 100
B、将器件的表层去除，使用俄歇电子能谱仪对器件的基材元素成份进行分析，得到器件的基材元素成份，如表二；
表二 基材成份元素及含量
Figure 2011102516571100002DEST_PATH_IMAGE002A
C、对比表一和表二，器件表面元素成份和器件的基材元素成份有很大差异，因此可以确定，该器件表面存在镀层，且镀层的主要成份为锌。
所述，仅为本发明的具体实施方式之一，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (3)

1.一种检测器件有无镀层的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：
A、使用扫描电镜和能谱仪对器件的表面元素进行成份分析；
B、将器件的表层去除，使用俄歇电子能谱仪对器件的基材元素成份进行分析；
C、比较器件表面元素成份和基材的元素成份，如果器件表面的元素成份和基材的元素成份相同，则说明没有镀层，否则说明有镀层。
2.根据权利要求1所述的一种检测器件有无镀层的方法，其特征在于：所述步骤A分析得到器件表面元素的种类及其含量百分比。
3.根据权利要求1所述的一种检测器件有无镀层的方法，其特征在于：所述步骤B分析得到器件基材元素的种类及其含量百分比。
CN201110251657A 2011-08-30 2011-08-30 一种检测器件有无镀层的方法 Pending CN102323625A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110251657A CN102323625A (zh) 2011-08-30 2011-08-30 一种检测器件有无镀层的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110251657A CN102323625A (zh) 2011-08-30 2011-08-30 一种检测器件有无镀层的方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102323625A true CN102323625A (zh) 2012-01-18

Family

ID=45451404

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201110251657A Pending CN102323625A (zh) 2011-08-30 2011-08-30 一种检测器件有无镀层的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102323625A (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0552781A (ja) * 1991-08-23 1993-03-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 表面組成評価装置
CN1404919A (zh) * 2002-11-08 2003-03-26 清华大学 界面复合半导体纳米薄膜光催化剂的制备方法
CN1936559A (zh) * 2006-09-28 2007-03-28 韶关学院 金属材料表面性能的电化学阻抗谱综合分析方法
CN101701795A (zh) * 2009-11-09 2010-05-05 浙江汇锦梯尔镀层科技有限公司 球坑测厚仪
JP4648992B2 (ja) * 2008-12-03 2011-03-09 新日本製鐵株式会社 塗装金属材及びその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0552781A (ja) * 1991-08-23 1993-03-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 表面組成評価装置
CN1404919A (zh) * 2002-11-08 2003-03-26 清华大学 界面复合半导体纳米薄膜光催化剂的制备方法
CN1936559A (zh) * 2006-09-28 2007-03-28 韶关学院 金属材料表面性能的电化学阻抗谱综合分析方法
JP4648992B2 (ja) * 2008-12-03 2011-03-09 新日本製鐵株式会社 塗装金属材及びその製造方法
CN101701795A (zh) * 2009-11-09 2010-05-05 浙江汇锦梯尔镀层科技有限公司 球坑测厚仪

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2010006067A3 (en) Method and apparatus for laser machining
Grego et al. A method to evaluate mechanical performance of thin transparent films for flexible displays
WO2018072862A8 (de) Verfahren zum auswerten von daten einer massenspektrometrie und massenspektrometrisches verfahren sowie ein maldi tof massenspektrometer
Popelka et al. Improvement of aluminum/polyethylene adhesion through corona discharge
Ayatollahi et al. On T-stresses near V-notches
Kanitani et al. Atom probe tomography of compositional fluctuation in GaInN layers
CN102323625A (zh) 一种检测器件有无镀层的方法
CN106124549A (zh) 一种表征纤维沿径向不同深度化学结构的方法
GB2434336A (en) Tracking and marking specimens having defects
CN104697836A (zh) 一种tem样品制备方法
KR101647233B1 (ko) 도금층의 두께 측정 방법
CN103868773A (zh) 透射电镜样品的制作方法
Stroka et al. What can ToF-SIMS do for wood-polymer composite analysis? A first investigation
Yang et al. Predicting the wettability of patterned ITO surface using ToF‐SIMS images
CN105699410B (zh) 一种goi失效点无损定位方法及goi失效分析方法
JP2016033899A (ja) 粒子の観察方法及び分析方法
Chen et al. Application of Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry in Failure Analysis of Electronic Products
Li et al. Band alignment at a MgO/GaSb heterointerface using x-ray photoelectron spectroscopy measurements
Merlet Analytical multilayer model revisited for high atomic numbers at low voltage
Chia et al. On-Wafer Measurement of Molecular Contaminants
Liu et al. Particle measurements with liquid-borne particle counters: effects of counting efficiency
Hodoroaba et al. Measurement of Atomic Fractions in Cu (In, Ga) Se2 Films by Auger Electron Spectroscopy (AES) and Energy Dispersive Electron Probe Microanalysis (ED-EPMA)
Erard Analysing spectral signatures with multiscale methods
CN112033989A (zh) 一种带涂层金属基体表面裂纹形成时间的判定方法
Nishiwaki et al. Surface Study on Niobium Stain After Electro-Polishing for Super-Conducting RF Cavity

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20120118