CN102251218B - 镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种镀膜装置，其包括一个镀膜腔体、一个设置于该镀膜腔体内且呈放射状的伞架及多个与该伞架相对设置的蒸镀源。该镀膜腔体包括一个底板。每个蒸镀源包括一个固设于该底板的套筒及一个设置于该套筒内且可沿该套筒的轴向移动的移动件。该移动件靠近该伞架的一端设置一个用于收容镀膜原料的承载槽。通过移动该移动件使多个蒸镀源的承载槽到该伞架的距离相等。使所形成的镀膜厚度较为均匀，产品质量较佳。

Description

镀膜装置

技术领域

本发明涉及一种镀膜技术，尤其涉及一种镀膜装置。

背景技术

目前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光经过镜片的能量损耗。又如在某些滤光组件表面镀上一层滤光膜制成滤光片，其可滤掉一预定波段的光。一般地，镀膜方法主要包括蒸镀法、离子镀膜法、射频磁控溅镀、化学气相沉积法等。

蒸镀装置通常包括一蒸镀腔体、一个用于承载待镀膜工件的伞架及一位于该伞架正下方的用于承载膜料的坩埚。传统的蒸镀方法是将待镀膜基材设置于伞架上，然后使气态或离子态的膜料沉积于待镀膜基材上表面形成薄膜。惟，一般蒸镀装置内用于承载膜料的坩埚距离该伞架每一个点的距离不完全相等，导致沉积速率不均等，故会产生膜厚不均匀的现象，影响镀膜质量。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种使膜厚较均匀，镀膜质量较好的镀膜装置。

一种镀膜装置，其包括一个镀膜腔体、一个设置于该镀膜腔体内且呈放射状的伞架及多个与该伞架相对设置的蒸镀源。该镀膜腔体包括一个底板。该蒸镀源包括一个固设于该底板的套筒及一个设置于该套筒内且可沿该套筒的轴向移动的移动件。该移动件靠近该伞架的一端设置一个用于收容镀膜原料的承载槽。通过移动该移动件使多个蒸镀源的承载槽到该伞架的距离相等。

与现有技术相比，本发明实施例的镀膜装置，使从该蒸镀源喷出的气体离子飞行几乎相同的距离后到达该伞架的表面，使所形成的镀膜厚度较为均匀，产品质量较佳。

附图说明

图1为本发明实施例提供的镀膜装置的结构示意图。

图2为图1的镀膜装置的蒸镀源的分解图。

图3为图1的镀膜装置的蒸镀源的组装图。

主要元件符号说明

镀膜装置             10

镀膜腔体             11

顶板                 111

底板                 112

安装孔               112a

侧板                 113

伞架                 12

蒸镀源               13

安装件               131

固定部               1311

收容孔               1311a

连接部               1312

贯通孔               1312a

套筒                 132

移动件               133

承载槽               133a

喷头                 134

第一端               1341

喷口                 1341a

第二端               1342

电浆离子源           14

导气管               15

具体实施方式

为了对本发明的镀膜装置做进一步的说明，举以下实施方式并配合附图进行详细说明。

请参阅图1，为本发明实施例提供的一种镀膜装置10，其包括一个镀膜腔体11、一个伞架12、三个蒸镀源13、一个电浆离子源14及一个导气管15。

该镀膜腔体11为圆筒形，其包括一个顶板111、一个与该顶板111相对的底板112及一个连接该顶板111及该底板112的侧板113。该底板112上开设有三个用于设置该蒸镀源13的安装孔112a。可以理解，该蒸镀源13的数量可以根据需要而定，该安装孔112a的数量与该蒸镀源13数量相同。

该伞架12呈放射状，其安装于该镀膜腔体11的顶板111，待镀工件(图未示)可安装于该伞架12上。

请一并结合图2及图3，该多个蒸镀源13均设置于该镀膜腔体11的底板112与该伞架12相对。该蒸镀源13包括一个安装件131、一个套筒132、一个移动件133及一个喷头134。

该安装件131包括一个固定部1311及一个与该固定部1311垂直连接的连接部1312。该固定部1311为圆盘状，其固设于该安装孔112a内，使该连接部1312位于该镀膜腔体11内。该固定部1311开设有一个收容孔1311a。该连接部1312为中空柱状，其内开设有一个贯通孔1312a。优选地，该固定部1311与该连接部1312为一体成型结构，如此，可避免该固定部1311与该连接部1312之间产生漏气的现象。

该套筒132为中空柱状，其内壁上设置有内螺纹，该套筒132紧密设置于该贯通孔1312a内。

该移动件133为柱状，其外壁上设置有与该内螺纹配合的外螺纹，该移动件133通过该内螺纹与该外螺纹配合来实现沿该套筒132的轴向移动。如此，可以使该移动件133沿该套筒132的轴向移动，同时也可以保证该移动件133与该套筒132之间以简单方便的结构保持紧密配合。可以理解，该移动件133沿该套筒132的轴向移动也可以采用其它结构，如该移动件133为伸缩杆结构，其设置于该套筒132内可沿该套筒132的轴向伸缩。

该移动件133靠近该伞架12的一端设置一个用于收容镀膜原料的承载槽133a。采用一个电子枪等加热装置(图未示)加热位于该承载槽133a内的镀膜原料形成气态的分子。

其中，该收容孔1311a及该贯通孔1312a的轴向长度大于该移动件133的轴向长度。如此，可给移动件133提供移动时所需要的空间。

该喷头134为圆台形腔体，其包括一个具有较小直径的第一端1341及与该第一端1341相对且具有较大直径的第二端1342。该第一端1341开设有一个喷口1341a。该第二端1342固接于该固定部1311，使该喷头134与该固定部1311之间形成一个收容空间，在加热加热位于该承载槽133a内的镀膜原料挥发成气态分子时，其于收容空间内达到一定浓度后向上喷发，以提高气态分子的运动速度。然后使气态的分子从该喷头134喷出。

电浆离子源14通过该导气管15与该镀膜腔体11连通，用于给该镀膜装置10提供助镀。

其中，由于该镀膜原料置于该承载槽133a内，而该承载槽133a位于该收容空间内，该镀膜原料与该镀膜腔体11通过具有较小直径的喷口连通，故该镀膜原料不容易受到该电浆离子源14通入的离子及其它外来杂质的污染。

在蒸镀时，通过移动该移动件133使与该伞架12边缘对应的蒸镀源13的承载槽133a向靠近该伞架12的方向移动的距离大些，而与该伞架12中心位置对应的蒸镀源13的承载槽133a向靠近该伞架12的方向移动的距离小些，或着使与该伞架12边缘对应的蒸镀源13的承载槽133a向靠近该伞架12的方向移动，而与该伞架12中心位置对应的蒸镀源13的承载槽133a保持不动。即保证使该三个蒸镀源13的承载槽133a到该伞架12的距离大致相等即可。如此，从该喷头134喷出的气体离子飞行几乎相同的距离后到达该伞架12的表面，使所形成的镀膜厚度较为均匀，产品质量较佳。另外，通过调整该承载槽133a与设置于该伞架12上的待镀工件的距离，可以控制镀膜原料的蒸发速率，进一步调整镀膜的膜厚。

可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (8)

1.一种镀膜装置，其包括一个镀膜腔体、一个设置于该镀膜腔体内且呈放射状的伞架及多个与该伞架相对设置的蒸镀源，该镀膜腔体包括一个底板，其特征在于：该蒸镀源包括一个固设于该底板的套筒及一个设置于该套筒内且可沿该套筒的轴向移动的移动件，该移动件靠近该伞架的一端设置一个用于收容镀膜原料的承载槽，通过移动该移动件使多个蒸镀源的承载槽到该伞架的距离相等。

2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于：该套筒内壁上设置有内螺纹，该移动件的外壁上设置有与该内螺纹配合的外螺纹，该移动件通过该内螺纹与该外螺纹配合来实现沿该套筒的轴向移动。

3.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于：该蒸镀源还包括一个安装件，该套筒通过该安装件固设于该底板。

4.如权利要求3所述的镀膜装置，其特征在于：该底板上开设有一安装孔，该安装件包括一个固设于该安装孔内的固定部及一个与该固定部垂直连接的连接部，该固定部开设有一个收容孔，该连接部开设有一个贯通孔，该套筒紧密设置于该贯通孔内。

5.如权利要求4所述的镀膜装置，其特征在于：该收容孔及该贯通孔的轴向长度大于该移动件的轴向长度。

6.如权利要求4所述的镀膜装置，其特征在于：该固定部与该连接部为一体成型结构。

7.如权利要求4所述的镀膜装置，其特征在于：该蒸镀源还包括一个喷头，该喷头为圆台形腔体，该喷头包括一个具有较小直径的第一端及一个与该第一端相对且具有较大直径的第二端，该第一端开设有一个喷口，该第二端固接于该固定部。

8.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于：该镀膜装置还包括一个电浆离子源及一个与该电浆离子源相连的导气管，该电浆离子源可经过该导气管通入该镀膜腔体内。

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