CN102236559A - 一种软件生成系统 - Google Patents

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徐轶卿
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Abstract

本发明公开了一种软件生成系统,所述系统主要分为底层框架、中层框架和顶层框架三个部分;其中,底层框架是本系统的核心模块,它包括基础网络、核心总线以及核心框架,中层框架包括业务组件库和辅助工具库,顶层框架包括业务构件库;本系统是基于统一的编程语言、数据库和开发工具而构建的一系列的功能模块集。这些功能模块集构建在统一的底层开发框架和数据库结构之上,当用户要开发一个新的软件项目时,只需确认需要的模块(构件),然后直接从配件库中选配对应的构件,直接就生成了该项目,基本无需开发人员写一句代码。

Description

一种软件生成系统
技术领域
本发明涉及到涉及到计算机软件模块构件产品化生成领域,特别涉及到一种软件生成系统。
背景技术
随着现代社会的科学技术发展,计算机系统已经成为各行各业所不可缺少的工具。申请号为201010279066的申请文件公开了一种软件生产线构造方法及系统,属于计算机软件领域。本方法为:1)客户端创建软件生产线模型文件并将其保存到服务器端;2)客户端装配模块从服务器端下载并解析该软件生产线模型文件,获得该软件生产线中的角色信息;3)客户端装配模块依据客户端的角色和软件生产线模型文件获得该客户端所需的工具集地址,并从服务器端下载工具集装配该客户端;4)客户端任务管理模块轮询服务器端任务管理模块,下载与所在客户端相关的任务信息;5)客户端制品管理模块根据下载的任务信息完成该任务,并将该任务状态改为完成。
综上所述,针对现有技术的缺陷,特别需要一种软件生成系统,以解决以上提到的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种软件生成系统,在.NET Framework、基础组件库、UI界面库的核心框架支撑基础上,不断叠加其他各类业务构件,为客户打造标准、可整合、可扩展的一体化快速开发工具及多业务功能构建平台。
本发明所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现:
一种软件生成系统,其特征在于,所述系统包括所述配件库主要分为底层框架、中层框架和顶层框架三个部分;其中,底层框架是本系统的核心模块,它包括基础网络、核心总线以及核心框架,中层框架包括业务组件库和辅助工具库,顶层框架包括业务构件库。
在本发明的一个实施例中,所述业务组件库包括工作流设计器、工作流解析引擎、表单自定义设计器、表单解析引擎、树控件、上传控件和日期控件。
在本发明的一个实施例中,所述辅助工具库包括快速开发工具、入库工具、选配工具、安装工具和开发者网络。
在本发明的一个实施例中,所述系统采用了规范体系和安全体系进行构建。
本发明解决了软件企业面对项目重复开发,开发质量、效率低下,无法完成软件产品产业化等困难,充分契合当今软件产业标准化与产品化的发展趋势。
附图说明
图1是本发明所述的一种软件生成系统的结构框图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1所示,本发明所述的一种软件生成系统,所述系统主要分为底层框架、中层框架和顶层框架三个部分;其中,底层框架是本系统的核心模块,它包括基础网络、核心总线以及核心框架,中层框架包括业务组件库和辅助工具库,顶层框架包括业务构件库;本系统是基于统一的编程语言、数据库和开发工具而构建的一系列的功能模块集。这些功能模块集构建在统一的底层开发框架和数据库结构之上,当用户要开发一个新的软件项目时,只需确认需要的模块,然后直接从配件库中选配对应的构件,直接就生成了该项目,基本无需开发人员写一句代码。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都在要求保护的本发明范围内,本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (4)

1.一种软件生成系统,其特征在于,所述系统包括所述配件库主要分为底层框架、中层框架和顶层框架三个部分;其中,底层框架是本系统的核心模块,它包括基础网络、核心总线以及核心框架,中层框架包括业务组件库和辅助工具库,顶层框架包括业务构件库。
2.如权利要求1所述的软件生成系统,其特征在于,所述业务组件库包括工作流设计器、工作流解析引擎、表单自定义设计器、表单解析引擎、树控件、上传控件和日期控件。
3.如权利要求1所述的软件生成系统,其特征在于,所述辅助工具库包括快速开发工具、入库工具、选配工具、安装工具和开发者网络。
4.如权利要求1所述的软件生成系统,其特征在于,所述系统采用了规范体系和安全体系进行构建。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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