CN102178972A - 微生物分解装置 - Google Patents

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潘伯荣
郑自力
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SHANGHAI CHENGZENG TECHNOLOGY DEVELOPMENT Co Ltd
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Abstract

本发明属于环保领域,提供了一种微生物分解装置,包括一个空气净化处理装置,空气净化处理装置包括至少两层和水平面垂直的玻璃片,相邻的两层玻璃片之间设置有间隙,玻璃片的两个侧面上均设置有光触媒涂层,在至少一层玻璃片上设置有至少一个紫外线发生器,空气净化处理装置的上面设置有等离子发生器,空气净化处理装置的下面设置有风机。本发明通过纳米级铂金将空气中的有机化合物的分子分解拆散成原子状态,通过二氧化钛的光催化作用,把原子重新还原成水、二氧化碳和氧气,有效地控制了微生物的繁衍和生长,解决了室内空气需要喷洒化学药剂才能灭杀微生物的现状,同时也解决了室内空气中TVOC超标的难题。

Description

微生物分解装置
技术领域
本发明属于环保领域,尤其涉及一种空气消毒处理装置,具体来说是一种微生物分解装置。
背景技术
国内对室内消毒一般采取自然通风、紫外线灯照射消毒、臭氧发生器消毒、化学药剂消毒、空气净化器消毒。紫外线灯照射和臭氧发生器是传统的空气消毒法,虽然对空气有一定的消毒作用,但易受到照射时间、消毒距离、温度、湿度等影响,所以对污染严重的室内环境如(传染病病房。手术室等)效果不理想,常配以化学消毒剂喷洒来进一步强化消毒效果,而且要在密封房间内保持一定时间,房间内不能留活的生物,消毒按规定时间结束后把房间的门窗打开或通过空调系统进行通风换气,把室内消毒剂的气味排掉,这时消毒程序完成。虽然能降低菌落数,但是同样对环境产生了二次污染,把有害的化学药剂排放到室内和大气中去,再者这种消毒方式不能用在有活体居住的传染病病房和生物实验室中使用。消毒用化学药剂的喷洒虽然灭菌效果明显,但留下的后遗症是长期潜伏性和危害性的,消毒剂(过氧乙酸C2H4O3、次氯酸钠NaClO等有机化合物)在灭杀病毒和细菌的同时,消毒剂在室内的残留也是一个严重污染源,传染病医院每天都会对病房进行消毒剂喷洒会对人体造成严重的潜移默化的伤害。
从技术层面目前了解到,要使非常规的室内空气(如手术室)既达到“室内空气质量标准GB18883-2002”又要达到手术室菌落数达标是很难做到的,手术室使用前30分钟的空调通风后,虽然菌落数能达到手术环境要求,但室内空气中挥发性有机化合物的总量(TVOC)常常严重超标,医生在有机化合物TVOC超标的室内环境中做手术,其对自身和患者的危害程度不言而喻,这个问题非常棘手很难平衡。
发明内容
针对上述现有技术中存在的缺陷,本发明所要解决的技术问题是提供一种既能降低室内空气中微生物的菌落数,又能降低室内空气中有机化合物(VOC)挥发总量的一种微生物分解装置。
本发明提供了一种微生物分解装置,包括一个空气净化处理装置,所述的空气净化处理装置包括至少两层和水平面垂直的玻璃片,所述的玻璃片之间相互平行设置,相邻的两层玻璃片之间设置有间隙,任意一层所述的玻璃片的两个侧面上均设置有光触媒涂层,在至少一层所述的玻璃片上设置有至少一个紫外线发生器,所述的空气净化处理装置的下面设置有一个进风口,所述的进风口中设置有一个至少一个风机,所述的空气净化处理装置的上面设置有一个出风口,所述的出风口中设置有至少一个等离子发生器。
进一步的,所述的紫外线发生器由至少一个紫外灯构成,所述的紫外灯的发光强度大于1000uw。
进一步的,任意相邻的两层玻璃片之间的距离在1-3毫米之间。
进一步的,所述的风机为离心风机或者横流风机。
具体的,本发明的光触媒涂层为铂金担持超光触媒涂层,所述的铂金担持超光触媒涂层由纳米级铂金颗粒和纳米级二氧化钛颗粒构成。
本发明的光触媒涂层采用的材料为中国专利号为ZL2004 1 0039612.8中公开的物品表面涂布方法和表面涂布剂,光触媒涂层由纳米二氧化钛颗粒和纳米铂金颗粒构成的,铂金的含有量为二氧化钛的0.05~50%,使用时,将接合剂与铂金、二氧化钛混合后涂在玻璃片上,用树脂铲将制成的铂金主导超光触媒剂象擦玻璃窗一样以5~100纳米的厚度在玻璃片上摊开。然后,用无纺布制成的毛巾布去擦除多余成分,使铂金主导的二氧化钛与空气接触。 具体的内容因为是公知技术,不再赘述。
本发明的工作原理是:通过涂覆在玻璃上的纳米级铂金将空气中的有机化合物的分子分解拆散成原子状态,再通过紫外线灯把波长340—380纳米波长的紫外线照射在玻璃涂层上,通过涂层上二氧化钛的光催化作用,把原子重新还原成水、二氧化碳和氧气。空气中的有机化合物的减少,就是提供给微生物(病毒、细菌、真菌等)生成和繁衍的营养成分被切断,因此有效地控制微生物(病毒、细菌、真菌等)的繁衍和生长。紫外线灯的另一个作用是灭杀病毒和细菌,因此装置内的紫外线灯发射出的紫外线强度大于1000uw。装置出风口的等离子发生器对空气进一步净化。
本发明和已有技术相比,其技术进步是显著的。本发明的特点在于无过滤网、不需要更换滤芯、仿生态型无二次污染。本发明以空气为载体并且在常温下,昼夜都能发挥分解空气中的有机化合物作用,有效地控制了微生物的生长。本发明能处理非常规室内空气中的甲醛、氨、过氧乙酸、酒精、细菌、病毒、花粉等。解决了目前手术室、传染病房、生物实验室需要喷洒化学药剂才能灭杀细菌和病毒的现状,能取代室内消毒药剂,并且彻底解决了室内空气中TVOC超标的难题。
附图说明
图1是本发明一种微生物分解装置的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示,本发明提供了一种微生物分解装置,包括一个箱体1,所述的箱体1中设置有一个空气净化处理装置2,所述的空气净化处理装置2包括至少两层和水平面垂直的玻璃片3,所述的玻璃片3之间相互平行设置,相邻的两层玻璃片3之间设置有间隙,任意一层所述的玻璃片3的两个侧面上均设置有光触媒涂层(图中未示),在至少一层所述的玻璃片3上设置有至少一个紫外线发生器4,所述的空气净化处理装置2的下面设置有一个进风口8,所述的进风口8中设置有一个至少一个风机6,所述的空气净化处理装,2的上面设置有一个出风口9,所述的出风口9中设置有至少一个等离子发生器5。
进一步的,所述的紫外线发生器4由至少一个紫外灯7构成,所述的紫外灯7的发光强度大于1000uw。
进一步的,任意相邻的两层玻璃片3之间的距离在1-3毫米之间。
进一步的,所述的风机6为离心风机或者横流风机。
具体的,本发明的光触媒涂层为铂金担持超光触媒涂层,所述的铂金担持超光触媒涂层由纳米级铂金颗粒和纳米级二氧化钛颗粒构成。
上述实施例中的具体设备和工艺描述如下:
(1)    风机 6
风机6在本装置中是一个非常关键的部件,主要把室内空气强迫送入装置,这样才能实现分解细菌和病毒的作用。要达到良好的室内空气,室内换风量需要每小时8-10次,风机的型号和功率的选择,要以此为依据,且要考虑的风机6噪音。一般选择离心风机较好,理由是风量较大,其次风压较高。另外横流风机也是一个较好的选择。
(2)    涂层玻璃3
涂层玻璃3要考虑它的透光度,玻璃越白、越透明、越薄越好。不能用加卤族原素和金属元素的玻璃,因为会影响紫外线的穿透和杀菌效果。玻璃片3与玻璃片3的间距一般控制在1-3毫米之间,具体要看空气通过玻璃片3的长度而决定。玻璃片3风道越长,玻璃片3与玻璃片3的间隙可增大;反之,玻璃片3与玻璃片3的间隙要缩小。N层玻璃片3要取决紫外线的发射强度,选择合适功率的紫外线灯同N层玻璃片3向匹配,玻璃涂层用空气战略AIR PLOT?空气净化剂是纳米级的,涂敷后纳米级铂金和纳米级二氧化钛已经镶嵌到玻璃间隙中,不存在固化和牢度问题,涂敷后的玻璃可以用洁净的布沾水擦洗。切忌不能用表面活性剂和洗涤剂来清洁AIR PLOT?涂层玻璃片3。
(3)紫外线灯消毒
紫外线发生器是由一组或多组紫外线灯7所组成,紫外线波长严格控制在340-380纳米范围内。UV-A不仅提供二氧化钛光触媒的反应能量,而且起到灭杀病毒和细菌的作用。选用UV-A波段解决了UV-B、UV-C紫外线在杀菌的同时产生臭氧造成二次污染等问题。紫外线灯7发射强度大于1000uw,可根据AIR PLOT?涂层玻璃N层来设计生产。
(4)等离子消毒
等离子发生器5安装在装置的出风口,等离子发生器5同时产生的正离子与负离子在空气中进行正负电荷中和的瞬间产生巨大的能量释放,从而导致其周围细菌结构的改变或能量的转换,从而致使细菌死亡,实现其杀菌的作用。由于负离子的数量大于正离子的数量,因此多余的负离子仍然飘浮在空气中,可以达到消烟、除尘、消除异味、改善空气的品质。

Claims (4)

1.一种微生物分解装置,包括一个空气净化处理装置,其特征在于:所述的空气净化处理装置包括至少两层和水平面垂直的玻璃片,所述的玻璃片之间相互平行设置,相邻的两层玻璃片之间设置有间隙,任意一层所述的玻璃片的两个侧面上均设置有光触媒涂层,在至少一层所述的玻璃片上设置有至少一个紫外线发生器,所述的空气净化处理装置的下面设置有一个进风口,所述的进风口中设置有一个至少一个风机,所述的空气净化处理装置的上面设置有一个出风口,所述的出风口中设置有至少一个等离子发生器。
2.如权利要求1所述的一种微生物分解装置,其特征在于:所述的紫外线发生器由至少一个紫外灯构成,所述的紫外灯的发光强度大于1000uw。
3.如权利要求1所述的一种微生物分解装置,其特征在于:任意相邻的两层玻璃片之间的距离在1-3毫米之间。
4.如权利要求1所述的一种微生物分解装置,其特征在于:所述的风机为离心风机或者横流风机。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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