CN102173178B - 具有不等间距的激光成像装置及方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种具有不等间距的激光成像装置，它包括发射复数个相互平行且彼此间隔的激光阵列的激光芯片、对光束进行聚焦的光学元件、激光阵列在其上成像的印刷基板以及带动印刷基板转动的转鼓，激光阵列包括复数个彼此间隔的激光组，每两个相邻的激光组间的间距为第一间距，每个激光组包括第一激光和激光小组，第一激光与激光小组之间的间距为第二间距，第二间距与第一间距不相等，每个激光小组包括至少两束第二激光，每个激光小组内的相邻的第二激光之间的距离与第二间距、第一间距分别不相等。通过采用多间距的激光阵列，可获得一些附加的性能，如设计更灵活，性能可得到进一步优化，而且更能满足不同用户的需求。

Description

具有不等间距的激光成像装置及方法
技术领域
本发明涉及一种具有不等间距的激光成像装置及方法。
背景技术
迄今为止，用半导体激光阵列实现计算机制版印刷已经非常成熟。用于计算机制版印刷的半导体激光芯片有多个重要参数，包括激光波长、功率、功率电流特性的线性度、近场及远场大小。此外，从几何角度讲，还有两个重要参数，其一为芯片上所拥有的激光数，其二为激光间的距离。
目前应用最为广泛的芯片间距或为等距离，或为同时有两种不同间距，虽然这样的几何设计能够满足最为有效的螺旋式的排印要求，但是具有一定的局限性，排版设计上不够灵活。
发明内容
为克服上述缺点，本发明的目的在于提供一种具有不等间距的激光成像装置及方法。
为了达到以上目的，本发明采用的技术方案是：一种具有不等间距的激光成像装置，它包括发射复数个相互平行且彼此间隔的激光阵列的激光芯片、对光束进行聚焦的光学元件、激光阵列在其上成像的印刷基板以及带动印刷基板转动的转鼓，激光阵列包括复数个彼此间隔的激光组，每两个相邻的激光组间的间距为第一间距，每个激光组包括第一激光和激光小组，第一激光与激光小组之间的间距为第二间距，第二间距与第一间距不相等，每个激光小组包括至少两束第二激光，每个激光小组内的相邻的第二激光之间的距离与第二间距、第一间距分别不相等。
优选地，当激光小组内的第二激光多于2束时，每相邻两个第二激光之间的间距不等。
更优地，当激光小组内的第二激光有2束时，相邻的第二激光之间的间距为第三间距，第一间距大于第二间距，第二间距大于第三间距。
本发明的另一方案是提供利用具有不等间距的激光成像装置的激光成像方法，包括以下步骤：
（a）根据印刷材料编辑具有不等间距的激光阵列，并根据该激光阵列调整相应的光学元件；
（b）激光芯片发射出激光阵列；
（c）激光阵列经过光学元件进行聚焦；
（d）在计算机的控制下，聚焦后的激光阵列沿水平方向匀速移动，转鼓带动印刷基板以竖直方向为轴匀速转动，激光阵列在印刷基板上进行刻制。
由于采用了上述技术方案，通过采用多间距的激光阵列，可获得与等间距激光阵列完全相同的排版效率，在某些特殊情形下，通过对与之对应的光学系统的设计，可获得一些附加的性能，如设计更灵活，性能可得到进一步优化，而且更能满足不同用户的需求。
附图说明
附图1为本发明具有不等间距的激光成像装置的示意图；
附图2为本发明实施例一的激光芯片示意图；
附图3为本发明实施例二的激光芯片示意图。
图中标号为：
1、激光芯片；2、光学元件；3、转鼓；
11、激光组；12、激光小组；13、第一激光；14、第二激光。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
实施例一
参照附图1所示的具有不等间距的激光成像装置，它包括发射复数个相互平行且彼此间隔的激光阵列的激光芯片1、对光束进行聚焦的光学元件2、激光阵列在其上成像的印刷基板以及带动印刷基板转动的转鼓3。
本实施例中的光学元件2为微光学透镜阵列，印刷基板为能够对激光敏感，或者为通过吸收激光能量而发热的热敏模版。
参照附图2所示的激光芯片1所发射的激光阵列，该激光阵列包括复数个彼此间隔的激光组11，每两个相邻的激光组11间的间距为第一间距，每个激光组11包括第一激光13和激光小组12，第一激光13与激光小组12之间的间距为第二间距，第二间距与第一间距不相等，每个激光小组12包括至少两束第二激光14，每个激光小组12内的相邻的第二激光14之间的距离与第二间距、第一间距分别不相等。本实施例中，激光小组12内第二激光14有2束，相邻的两束第二激光14之间的间距为第三间距，第一间距大于第二间距，第二间距大于第三间距。
本实施例中利用具有不等间距的激光成像装置的激光成像方法，包括以下步骤：
（a）根据印刷材料编辑具有不等间距的激光阵列，并根据该激光阵列调整相应的光学元件2，即调整微光学透镜阵列，并生成电子数据；
（b）在计算机的控制下，激光芯片1发射出激光阵列；
（c）激光阵列经过微光学透镜阵列进行聚焦；
（d）在计算机的控制下，聚焦后的激光阵列沿水平方向匀速移动，转鼓3带动印刷基板以竖直方向为轴匀速转动，激光阵列在印刷基板上进行刻制。同时，激光阵列在计算机控制下，根据电子数据做开通于关断的操作，直至末班制作完毕。
实施例二
本实施例中的具有不等间距的激光成像装置组成部件与上述的实施例一基本相同，不同之处在于激光芯片1所述发射的激光阵列所具有的间距不同。
参照附图3，该激光阵列包括复数个彼此间隔的激光组11，每两个相邻的激光组11间的间距为第一间距，每个激光组11包括第一激光13和激光小组12，第一激光13与激光小组12之间的间距为第二间距，第二间距与第一间距不相等，每个激光小组12包括至少两束第二激光14，每个激光小组12内的相邻的第二激光14之间的距离与第二间距、第一间距分别不相等。本实施例中，激光小组12内的第二激光14多于2束，为3束，每相邻的两束第二激光14之间的间距不等。并且如附图3所示，每相邻的两束第二激光14之间的间距按照从大到小的顺序依次排列，同时，第一间距大于第二间距，第二间距大于相邻的第二激光14之间的最大间距。
本实施例中利用具有不等间距的激光成像装置的激光成像方法，其步骤与上述实施例一种的步骤相同。
以上实施方式只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (4)

1.一种具有不等间距的激光成像装置，它包括发射复数个相互平行且彼此间隔的激光阵列的激光芯片（1）、对光束进行聚焦的光学元件（2）、供所述的激光阵列成像的印刷基板以及带动所述印刷基板转动的转鼓（3），其特征在于：所述的激光阵列包括复数个彼此间隔的激光组（11），每两个相邻的所述激光组（11）间的间距为第一间距，每个所述的激光组（11）包括第一激光（13）和激光小组（12），所述第一激光（13）与激光小组（12）之间的间距为第二间距，所述的第二间距与第一间距不相等，每个所述的激光小组（12）包括至少两束第二激光（14），每个所述激光小组（12）内的相邻的第二激光（14）之间的距离与第二间距、第一间距分别不相等。
2.根据权利要求1所述的具有不等间距的激光成像装置，其中：当所述激光小组（12）内的第二激光（14）多于2束时，每相邻两个所述第二激光（14）之间的间距不等。
3.根据权利要求1所述的具有不等间距的激光成像装置，其中：当所述激光小组（12）内的第二激光有2束时，相邻的所述第二激光（14）之间的间距为第三间距，所述的第一间距大于第二间距，所述第二间距大于第三间距。
4.一种应用权利要求1所述的具有不等间距的激光成像装置的激光成像方法，包括以下步骤：
（a）根据印刷材料编辑具有不等间距的激光阵列，并根据该激光阵列调整相应的光学元件（2）；
（b）所述的激光芯片（1）发射出所述激光阵列； 
（c）所述的激光阵列经过所述光学元件（2）进行聚焦；
（d）在计算机的控制下，聚焦后的所述激光阵列沿水平方向匀速移动，所述转鼓（3）带动所述印刷基板以竖直方向为轴匀速转动，所述激光阵列在印刷基板上进行刻制。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4948233A (en) * 1984-02-20 1990-08-14 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Beam shaping optical system
CN1066818A (zh) * 1991-05-18 1992-12-09 中国科学院长春光学精密机械研究所 激光转镜式光学扫描系统
CN1734355A (zh) * 2000-06-30 2006-02-15 海德堡印刷机械股份公司 印刷版成像装置和隔行光栅扫描线法
CN1754694A (zh) * 2004-09-30 2006-04-05 大日本网目版制造株式会社 印刷版的制版方法以及印刷版的制版装置
CN1830664A (zh) * 2005-03-08 2006-09-13 大日本网目版制造株式会社 印刷版的制版装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4948233A (en) * 1984-02-20 1990-08-14 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Beam shaping optical system
CN1066818A (zh) * 1991-05-18 1992-12-09 中国科学院长春光学精密机械研究所 激光转镜式光学扫描系统
CN1734355A (zh) * 2000-06-30 2006-02-15 海德堡印刷机械股份公司 印刷版成像装置和隔行光栅扫描线法
CN1754694A (zh) * 2004-09-30 2006-04-05 大日本网目版制造株式会社 印刷版的制版方法以及印刷版的制版装置
CN1830664A (zh) * 2005-03-08 2006-09-13 大日本网目版制造株式会社 印刷版的制版装置

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