CN102108977A - 潜水排污泵双密封结构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种潜水排污泵双密封结构,它位于电机输出端连接的托架内,包括密封座、泵轴、机械密封件和甩水板。平置的密封座由电机下端盖和托架上端面定位连接,托架下端面直联泵体。泵轴插入密封座内与内置的两只机械密封件组成上密封结构,泵轴端部安装的叶轮通过所配机械密封件与托架配合组成下密封结构。本发明在托架内同轴集合了两道密封结构,并且在两道密封结构之间的泵轴上套装甩水板,甩水板随泵轴旋转时,构成阻止泵体泄漏的载压液体对上密封结构轴向冲击,优化了上密封结构的运行条件,有效减少因泄漏损坏电机的机率。
Description
技术领域
本发明涉及一种轴封结构,具体地讲,本发明涉及一种泵轴密封结构。
背景技术
潜水排污泵是一种通用类机电产品,广泛应用于各生产领域。潜水排污泵最显著的结构特征是立式泵与所配电机垂直相联,两者同轴旋转。此直联结构紧凑、连接可靠、机械传动效率高,能够实现泵有效输出。通常情况下,潜水排污泵在水下工作,因其工况特殊,故对泵与电机之间的轴密封要求特别高。市售潜水排污泵主要配装机械密封件做泵轴密封元件,泵轴封结构通常设置一道机械密封件就能够起到相应的密封作用。客观地讲,立式泵的泵轴与泵体之间存在配合间隙,运转时产生的载压液体从配合间隙处顺泵轴直接冲击机械密封件,正常情况下机械密封结构足以抗击此冲击。而现实中电机损坏往往是机械密封结构失效而产生的,究其原因主要有两种:一是机械密封装配质量不佳或磨损过量而造成泄漏;二是载压液体直接轴向冲击机械密封件,促成密封失效而产生泄漏。上述不足之处只要有一项存在,都会产生泄漏而造成电机短路损坏。
发明内容
本发明主要针对现有技术的不足,提出一种结构简单、合理,密封性能好且可靠的潜水排污泵双密封结构。
本发明通过下述技术方案实现技术目标。
潜水排污泵双密封结构,它位于电机输出端连接的托架内,包括密封座、泵轴、机械密封件和甩水板。所述密封座为内设凹腔的盘状构件,平置的密封座由电机下端盖和托架上端面定位连接,托架下端面直联泵体。其改进之处在于:泵轴插入密封座内与内置的机械密封件组成上密封结构,泵轴端部安装的叶轮通过机械密封件与托架配合组成下密封结构,在上下密封结构之间的泵轴上套装甩水板。
上述结构中,上密封结构由两只同轴相靠的机械密封件组成,下密封结构中仅设一只机械密封件。
本发明与现有技术相比,具有以下积极效果:
1、同轴双密封结构简单,制造容易;
2、三只机械密封件组成两道同轴密封结构,密封可靠,电机使用寿命长;
3、介于上下密封结构之间的甩水板,是泵泄漏轴向外扩的屏障,起到阻止载压液体对上密封结构的轴向冲击,优化了上密封结构的运行条件,减少因泄漏损坏电机的机率。
附图说明
图1是本发明结构剖面示意图。
具体实施方式
下面根据附图并对本发明作进一步说明。
图1所示的潜水排污泵双密封结构,它位于电机1输出端连接的托架6内,包括密封座2、泵轴3、机械密封件4和甩水板5。所述密封座2为内设凹腔的盘状构件,平置的密封座2由电机1下端盖和托架6上端面定位连接,托架6下端面直联泵体8。泵轴3插入密封座2内与内置的机械密封件4组成密封结构,泵轴3端部安装的叶轮7通过机械密封件4与托架6配合组成下密封结构,在上下密封结构之间的泵轴3上套装甩水板5。本实施例中上密封结构由两只同轴相靠的机械密封件4组成,下密封结构中仅设一只机械密封件4。本发明使用三只机械密封件4组成两道同轴密封结构,双重密封结构密封可靠,避免发生泄漏而损坏电机。另外,本发明在上下密封结构之间的泵轴3套装甩水板5构成屏障,泵轴3旋转时带动甩水板5将泄漏的载压液体径向甩出,起到阻止泵体8泄漏的载压液体对上密封结构的轴向冲击,优化了上密封结构的运行条件,有效减少因泄漏损坏电机的机率。
Claims (2)
1.一种潜水排污泵双密封结构,它位于电机(1)输出端连接的托架(6)内,包括密封座(2)、泵轴(3)、机械密封件(4)和甩水板(5);所述密封座(2)为内设凹腔的盘状构件,平置的密封座(2)由电机(1)下端盖和托架(6)上端面定位连接,托架(6)下端面直联泵体(8);其特征在于:泵轴(3)插入密封座(2)内与内置的机械密封件(4)组成上密封结构,泵轴(3)端部安装的叶轮(7)通过机械密封件(4)与托架(6)配合组成下密封结构,在上下密封结构之间的泵轴(3)上套装甩水板(5)。
2.根据权利要求1所述的潜水排污泵双密封结构,其特征在于:上密封结构由两只同轴相靠的机械密封件(4)组成,下密封结构中仅设一只机械密封件(4)。
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2011
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110629 |