CN102101315A - 数码三维陶瓷喷制方法及装置 - Google Patents

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童舟
赵静
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Abstract

本发明公开了一种数码三维陶瓷喷制方法，包括用CAD设计需要的三维陶瓷模型，将该模型软件分成多层子文件；将CAD设计的多层子文件输入三维喷印设备，每次完成一层的X、Y方向的平面喷印；；三维喷印设备控制多层子文件从最底层子文件平铺陶瓷原料粉；三维喷印设备在喷有陶瓷原料粉上喷粘结剂；循环操作步骤⑶～⑷，直至制成一个三维实体陶瓷模型；在喷印过程中，三维喷印设备的工作平台逐层下降；吹净陶瓷模型上未粘结的陶瓷原料粉；烧制陶瓷模型。本发明的优点是对陶瓷模型进行批量前验证工作时，减少人工投入，快速成型，成本低。

Description

数码三维陶瓷喷制方法及装置
技术领域
本发明涉及一种三维立体成型方法，特别涉及一种数码三维陶瓷喷制方法及装置。
背景技术
在陶瓷产品设计过程中，需要制作三维模型，从数码三维到实体之间过程较长，人为干扰因素较多。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是要提供一种快速成型的数码三维陶瓷喷制方法及装置。
为了解决以上的技术问题，本发明提供了一种数码三维陶瓷喷制方法，包括如下步骤：
⑴用CAD设计需要的三维陶瓷模型，将该模型软件分成多层子文件；
⑵将CAD设计的多层子文件输入三维喷印设备，每次完成一层的X、Y方向的平面喷印；
⑶三维喷印设备控制多层子文件从最底层子文件平铺陶瓷原料粉；
⑷三维喷印设备在喷有陶瓷原料粉上喷粘结剂；
⑸循环操作步骤⑶～⑷，直至制成一个三维实体陶瓷模型；在喷印过程中，三维喷印设备的工作平台逐层下降；即Z轴不断向下运动；
⑹吹净陶瓷模型上未粘结的陶瓷原料粉；
⑺烧制陶瓷模型。
所述三维喷印设备喷出的粘结剂是多种颜色的，则可制成全彩色的陶瓷三维模型。
前述数码三维陶瓷喷制方法使用的数码三维陶瓷喷制装置，是在三维喷印设备上，设有逐层铺粉器，喷印设备的工作平台能垂直升降，即工作平台在Z轴上能垂直升降；工作平台上设有原料托盘，在原料托盘上由软件控制逐层铺陶瓷原料粉。喷印设备的工作平台内有气缸，气缸与气源连接。
本发明的优越功效在于：对陶瓷模型进行批量前验证工作时，减少人工投入，快速成型，成本低。
附图说明
图1为本发明数码三维陶瓷喷制法的流程图；
图2为本发明数码三维喷制装置示意图；
图3为本发明数码三维陶瓷喷制过程示意图；
图中标号说明
1—粘结剂；                         2—原料粉；
3—原料托盘；                       4—Y轴移动副；
5—主梁；                           6—X轴移动副；
7—车头；                           8—逐层铺粉器。
具体实施方式
请参阅附图所示，对本发明作进一步的描述。
如图1和图3所示，本发明提供了一种数码三维陶瓷喷制方法，包括如下步骤：
⑴用CAD设计需要的三维陶瓷模型，将该模型软件分成多层子文件；
⑵将CAD设计的多层子文件输入三维喷印设备，每次完成一层的X、Y方向的平面喷印；
⑶三维喷印设备控制多层子文件从最底层子文件平铺陶瓷原料粉；
⑷三维喷印设备在喷有陶瓷原料粉上喷粘结剂；
⑸循环操作步骤⑶～⑷，直至制成一个三维实体陶瓷模型；在喷印过程中，三维喷印设备的工作平台逐层下降；即Z轴不断向下运动；
⑹吹净陶瓷模型上未粘结的陶瓷原料粉；
⑺烧制陶瓷模型。
所述三维喷印设备喷出的粘结剂是多种颜色的，则可制成全彩色的陶瓷三维模型。
如图2所示，数码三维陶瓷喷制方法使用的数码三维陶瓷喷制装置，是在三维喷印设备上，设有逐层铺粉器，喷印设备的工作平台能垂直升降，即工作平台在Z轴上能垂直升降；工作平台上设有原料托盘，在原料托盘上由软件控制逐层铺陶瓷原料粉。

Claims (3)

1.一种数码三维陶瓷喷制方法，包括如下步骤：
⑴用CAD设计需要的三维陶瓷模型，将该模型软件分成多层子文件；
⑵将CAD设计的多层子文件输入三维喷印设备，每次完成一层的X、Y方向的平面喷印；
⑶三维喷印设备控制多层子文件从最底层子文件平铺陶瓷原料粉；
⑷三维喷印设备在喷有陶瓷原料粉上喷粘结剂；
⑸循环操作步骤⑶～⑷，直至制成一个三维实体陶瓷模型；在喷印过程中，三维喷印设备的工作平台在Z轴逐层下降；
⑹吹净陶瓷模型上未粘结的陶瓷原料粉；
⑺烧制陶瓷模型。
2.根据权利要求1所述的数码三维陶瓷喷制方法，其特征在于：所述三维喷印设备喷出的粘结剂是多种颜色的。
3.一种数码三维陶瓷喷制装置，其特征在于：在三维喷印设备上，设有逐层铺粉器，喷印设备的工作平台能垂直升降，工作平台上设有原料托盘，在原料托盘上由软件控制逐层铺陶瓷原料粉。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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