CN102073026A - 直流大电流传感器现场校准仪 - Google Patents

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Inventor
龚文俊
裴朝阳
王以伟
姜立华
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HUBEI XUNDI TECHNOLOGY Co Ltd
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Abstract

本发明涉及到校准仪领域,是一种直流大电流传感器现场校准仪。导电母线连接霍尔元件检测磁场信号,霍尔元件检测磁场信号连接功率放大器和二次比例线圈,功率放大器连接二次比例线圈,二次比例线圈连接采样电压和霍尔元件检测磁场信号,采样电压连接比例调节输出信号,比例调节输出信号连接校准调节,校准调节连接标准显示、差值比较和量程基准,差值比较连接被校传感器信号和差值显示。由于采用了本技术方案,很方便的检测现场使用的传感器是否符合计量和工艺标准,标准传感器和被校传感器挂在同一导电母线上,同一时间读取两个示值,避免时间差造成的误差。通过显示的差值对被校传感器现场调试即可达到生产使用精度。

Description

直流大电流传感器现场校准仪
技术领域
本发明涉及到校准仪领域,是一种直流大电流传感器现场校准仪。
背景技术
直流大电流传感器(直流大电流检测装置)广泛用于化工、有色金属等电解行业,对生产过程中的直流大电流进行计量和控制。其生产工艺的特征是长期的、连续的生产过程。在使用现场,很多直流大电流传感器,由于受温度、时间、位置、外磁场等诸多因素的影响,造成传感器准确度超差的可能性普遍存在。而直流大电流的计量和控制准确、稳定与否,对生产设备、人员安全、生产效率有着直接影响。
发明内容
本发明的目的是要提供一种对现场长期工作的直流大电流检测装置进行快捷、经济、准确的误差检测与量值传递的校准仪。
本发明是这样实现的:导电母线连接霍尔元件检测磁场信号,霍尔元件检测磁场信号连接功率放大器和二次比例线圈,功率放大器连接二次比例线圈,二次比例线圈连接采样电压和霍尔元件检测磁场信号,采样电压连接比例调节输出信号,比例调节输出信号连接校准调节,校准调节连接标准显示、差值比较和量程基准,差值比较连接被校传感器信号和差值显示。
由于采用了上述技术方案,很方便的检测现场使用的传感器是否符合计量和工艺标准,标准传感器和被校传感器挂在同一导电母线上,同一时间读取两个示值,避免时间差造成的误差。通过显示的差值对被校传感器现场调试即可达到生产使用精度。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
在图中:1、导电母线;2、霍尔元件检测磁场信号;3、功率放大器;4、二次比例线圈;5、采样电压;6、比例调节输出信号;7、校准调节;8、标准显示;9、差值比较;10、量程基准;11、被校传感器信号;12、差值显示。
具体实施方式
下在结合附图和实施例对本发明作进一步地说明。
在图1中:当导电母线1产生磁场时,霍尔元件检测磁场信号2经功率放大器3放大,功率放大器3放大的信号驱动二次比例线圈4产生磁场,二次比例线圈4产生磁场和导电母线1产生磁场相抵消,使霍尔元件检测磁场信号2变为零。从二次比例线圈4上取采样电压5,采样电压5经比例变换为比例调节输出信号6,比例调节输出信号6为校准仪测量头的标准信号。通过量程基准10选择和被校传感器相接近的档位,根据比例调节输出信号6和量程基准10调节出和被校传感器量程一至的比例参数。标准显示8显示校准调节7的电压,差值比较9把校准调节7和被校传感器信号11相比较取差值,经差值显示12显示出来,差值显示12通过按钮开关也可显示被校传感器信号11的值作目测对比。

Claims (1)

1.直流大电流传感器现场校准仪,其特征是导电母线(1)连接霍尔元件检测磁场信号(2),霍尔元件检测磁场信号(2)连接功率放大器(3)和二次比例线圈(4),功率放大器(3)连接二次比例线圈(4),二次比例线圈(4)连接采样电压(5)和霍尔元件检测磁场信号(2),采样电压(5)连接比例调节输出信号(6),比例调节输出信号(6)连接校准调节(7),校准调节(7)连接标准显示(8)、差值比较(9)和量程基准(10),差值比较(9)连接被校传感器信号(11)和差值显示(12)。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111289928A (zh) * 2020-03-10 2020-06-16 无锡力芯微电子股份有限公司 霍尔器件测试系统和测试方法
CN115308664A (zh) * 2022-10-10 2022-11-08 苏州矩阵光电有限公司 霍尔电流传感器的校准装置及方法

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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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