CN102056848A

CN102056848A - 光化学反应器、发光屏和光化学处理系统

Info

Publication number: CN102056848A
Application number: CN2009801217658A
Authority: CN
Inventors: U.基特卡; G.格鲁尔; S.格鲁尔克
Original assignee: Koninklijke Philips Electronics NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 2008-06-12
Filing date: 2009-06-04
Publication date: 2011-05-11
Also published as: EP2288578A1; WO2009150582A1; EP2288578B1; JP2011522697A; ES2381707T3; ATE543784T1; US20110076196A1

Abstract

本发明涉及一种光化学反应器（12）。本发明还涉及一种光化学处理系统。该光化学反应器包括：容器（20），其包括流体（30）；光源（40），其用于产生UV辐射（UV1）并将该UV辐射朝向流体发射；以及发光材料（50），其设置在光源与流体之间以用于将由光源发射的UV辐射的至少一部分转换为与该UV辐射相比具有增加的波长的另一UV辐射（UV2）。该发光材料可拆卸地连接到光化学反应器并且与光源隔开。通过使发光材料可拆卸地连接到光化学反应器且与光源隔开，可以在当前发光材料已经退化时将发光材料与新的发光材料更换。

Description

光化学反应器、发光屏和光化学处理系统

技术领域

本发明涉及一种用于流体的光化学反应器。

本发明还涉及一种用在该光化学反应器中的发光屏，并且涉及一种光化学处理系统。

背景技术

光化学反应器本身是已知的并且用于对例如流体进行光化学处理。化学和物理消毒处理二者已经是已知的并且长期用于减少病原微生物，比如细菌、病毒、真菌和原生动物。化学处理在很大程度上是基于对氯化合物和臭氧的使用。比如过滤、超声波、加热或利用紫外光照射的物理处理构成对周围环境较小的负担。此外，水暴露于紫外辐射（另外也表示为UV辐射）是一种连续的且相对不需维护的处理。所以，用于消毒水的光化学反应器的使用日益增加，特别是因为在发展中国家中城市供水的基础设施没有赶上日益增加的需求。

在近些年期间，特别是准分子灯的UV效率已经得到显著增加。准分子辐射不被放电灯的充填气体重新吸收，并且因此利用这种准分子放电灯可以实现的效率相当高，甚至在放电灯中使用惰性气体时也是如此。氙被证明是最高效的惰性气体填充物。然而，由于172纳米的短波长，该辐射被水强烈地吸收并且因此对含水系统的吸引力较小。

发光材料的最近发展允许使用准分子灯连同相对高效地产生紫外光的发光材料。这例如在美国专利US6,398,970B1中公开。该专利描述了一种用于消毒水的设备并且公开了一种包括氙填充物的气体放电灯，其中放电容器的内壁的至少一部分被在UV-C范围内发射的磷光体覆盖。在这种设备中，UV辐射具有排它地处于与消毒相关的范围内，即在230nm与300nm之间的光谱成分。

已知的光化学反应器的缺点在于，效率随时间降低并且提高退化的效率是相对昂贵的。

发明内容

本发明的目的是提供一种可以以相对低的成本提高效率的光化学反应器。

根据本发明的第一方面，该目的是借助一种用于流体的光化学反应器来实现的，该光化学反应器包括：

容器，其包括该流体，

光源，其用于产生UV辐射并将该UV辐射朝向该流体发射，以及

发光材料，其至少部分地设置在光源与流体之间以用于将由光源发射的UV辐射的至少一部分转换为与该UV辐射相比具有增加的波长的另一UV辐射，

该发光材料可拆卸地连接到该光化学反应器并且与光源隔开。

发明人已经发现准分子气体放电灯的使用提高了紫外辐射—特别地在远UV范围内（也表示为VUV）的产生效率。然而，这种提高的效率的缺点在于，撞击在发光材料上的UV辐射的相对高的通量。该UV辐射—特别是VUV辐射—典型地具有相对短的波长并且因此具有相对高的单位光子能量。因此，发射相对短波长的UV辐射的光发射器的使用导致发光材料退化得比常规荧光灯中的情形更快，这随时间降低了光化学反应器的效率。由于这样的事实：发光材料可拆卸地连接到光化学反应器并且与光源隔开，所以如果当前发光材料由于所撞击的UV辐射而退化，发光材料可以用新的发光材料更换。当例如光化学反应器的效率已经降低到例如低于预定水平时，发光材料可以被替换。

在已知的设备中，发光材料设置在放电灯的放电容器的内壁上。在这种设置中，当光化学反应器的效率由于发光材料的退化而降低时，必须替换整个放电灯。即使产生将被发光材料吸收的UV辐射的光源的效率例如几乎没有退化，也会要求对放电灯的这种替换。在这种情况中，光化学反应器的效率的提高是相对昂贵的并且典型地比必要的更加昂贵。在根据本发明的光化学反应器中，只有发光材料被替换，这通常降低了操作这种光化学反应器的成本。

根据本发明的光化学反应器的另一益处在于，它使得光化学反应器的用户能够选择适合于在操作期间将在光化学反应器中执行的光化学处理的特定发光材料或发光材料的特定混合物。使用发光材料产生所需辐射光谱例如从先前描述的美国专利US6,398,970B1已经是已知的。然而，在光化学反应器的这种已知配置中，存在单个UV源，其发射具有由该UV源结合应用在该UV源的放电容器的壁上的发光材料确定的光谱的UV辐射。这样，已知的光化学反应器被设置用于执行特定光化学处理。在根据本发明的光化学反应器中，发光材料可拆卸地连接到光化学反应器。在这种设置中，发光材料可以被选择以匹配必须在光化学反应器中当前存在的或流过光化学反应器的流体上执行的当前光化学处理的要求。当需要不同的光化学处理，例如该光化学处理需要具有不同光谱的UV辐射时，只有发光材料或发光材料的混合物需要被更换，使得由光源和发光材料的组合产生所需的光谱以使得能够由光化学反应器执行不同的光化学处理。这提高了光化学反应器的使用灵活性，同时限制实现该灵活性的成本。

该光源可以是能够发射UV辐射的任何光发射器，例如低压放电灯、高压放电灯、介质阻挡放电灯或者例如固态发光元件，比如发光二极管、激光二极管或有机发光二极管。

在光化学反应器的实施例中，光源可拆卸地连接到光化学反应器并且与发光材料隔开。该实施例的益处在于，光源也可以相对容易地被替换。光源例如也会退化，由此降低了光化学反应器的效率。通过使得能够替换与发光材料隔开设置的光源，实际上只有需要被替换以提高光化学反应器的效率的元件被替换，因此降低了用于光化学反应器的替换成本和/或维护成本。

该实施例的另一益处在于，由于光源和发光材料二者可以单独地被替换的事实，用户可以针对光化学反应的精确需要和/或针对发光材料的精确需要来选择光源。改变发光材料可能要求光源发射不同UV辐射以提供该UV辐射到另一UV辐射的高效转换。在根据本发明的光化学反应器中，光源和发光材料二者都可被更换，使得光源可被选择为例如发射被发光材料高效吸收的光以最优化光化学反应器的效率。而且，发光材料可以例如仅仅将由光源发射的光的一部分转换为另一UV辐射。由光源发射的UV辐射的其余部分可以例如为光化学反应器中的光化学反应做贡献。通过使发光材料和光源二者单独地可拆卸地连接到光化学反应器，可以按照在操作中的光化学反应器中将要发生的光化学反应的需要来选择合适的UV辐射和另一UV辐射。

在光化学反应器的实施例中，光化学反应器包括发光屏，该发光屏包括该发光材料。发光屏可拆卸地连接到光化学反应器以使得能够相对容易地替换发光材料。发光屏可以例如由对于另一辐射是至少部分透明的材料构成，该材料例如为石英。发光材料可以作为一层设置在发光屏上。可替代地，发光材料的颗粒可以嵌在发光屏中。而且可替代地，发光屏可以由发光材料构成。该发光屏可以具有适合于高效地将发光材料暴露于由光源发射的UV辐射的任何形状。

在光化学反应器的实施例中，另一流体可以在光源与发光材料之间流动。该另一流体可以例如是可以用于确保发光材料和/或光源的温度不超过预定水平的冷却气体或冷却液体。发光材料在经受相对高的温度时可能相对快地退化。通过在光源与发光材料之间应用另一流体，该另一流体可以用作限制温度增加并且因此降低发光材料的退化速度的冷却流体。

可替代地，该另一流体可以是本身需要光化学反应的流体。在该另一流体中的光化学反应中，为了产生光化学反应可能主要地需要由光源发射的UV辐射。在这种设置中，由光源发射的UV辐射最初可以用于在该另一流体中产生光化学反应。其余的UV辐射（其未被该另一流体使用并且其被该另一流体透射）撞击在发光材料上，撞击的UV辐射的至少一部分在发光材料中被转换为另一UV辐射，该另一UV辐射例如用在流体中的光化学反应中。光化学反应被设置用于在单个反应器中执行两种不同光化学反应。这可以例如用在流体的两步净化处理中，或用于使用不同的光化学处理来净化两种不同流体。

在光化学反应器的实施例中，该另一流体与该流体相同。在这种配置中，光化学反应器可以具有例如两个反应室，在反应室中执行不同的光化学反应：当由光源直接发射的UV辐射进行照明时相对高效的一个处理；和当由发光材料发射的另一UV辐射（其典型地具有更长的波长）进行照明时相对高效的第二处理。该配置也可以用于执行两步净化处理，即，由发光材料发射的另一UV辐射被用于进行流体的预净化步骤，并且由光源发射的UV辐射被用于产生第二净化步骤，即彻底净化流体以移除所有其余的污染物或细菌。

在光化学反应器的实施例中，该流体流过光化学反应器。这种配置使得光化学反应器能够例如被耦合到流体供给线中并且通过光化学处理连续地净化流动的流体。例如，供水线可以被耦合到根据本发明的光化学反应器以在水被供应给用户的同时净化水。这可以例如通过供水商大规模地进行。光化学反应器可以例如在流体经由导管流到需要经净化的流体的位置的同时净化该流体（例如水）。可替代地，这可以由消费者来完成，消费者将光化学反应器安装在其家中某个地方以提高家中饮用水的质量。

在光化学反应器的实施例中，光源是介质阻挡放电灯（也称为DBD灯）。使用诸如氙DBD灯之类的DBD灯的益处在于它实现了高效率、高通量的UV光源。这种放电灯可以以相对高效率产生低到172nm波长的UV辐射。使用这种光源具有以下益处：光化学反应器具有相对高的效率用于产生UV辐射，这可以导致例如流体经过光化学反应器的流速更高。然而，该高通量UV辐射的缺点在于加速了发光材料的退化。该加速会需要替换和/或补充发光材料以重新获得光化学反应器的相对高的效率。在根据本发明的光化学反应器中，发光材料可拆卸地连接到光化学反应器并且与光源隔开。DBD灯的使用将允许非常高效的光化学反应器，而用于确保效率保持在一定界限内的替换和/或维护需要仅仅替换可以随时间退化的发光材料。因此，这种非常高效的光化学反应器的操作成本可以降低。

在光化学反应器的实施例中，光源设置在具有对于UV辐射是至少部分透明的壁的保护套中，发光材料设置在保护套的壁上。通常，保护套存在于光源与流体之间，该流体在操作中暴露于来自光源的UV辐射。该保护套阻止了典型高压放电灯接触流体，从而提高了安全性。保护套对于UV辐射典型地是透明的，使得流体可以相对容易地被保护套内部的光源照射。通过将发光材料应用在例如保护套的内壁上，发光材料可以独立于光源而被移除，同时保持高的安全水平。在这种配置中，保护套构成如前所指示的发光屏。

使用保护套的另一个益处在于，在DBD灯中被部分地设置在DBD灯外部的电极不必需要是腐蚀安全的。当在流体与光源之间使用保护套时，光源不与流体接触。在DBD灯中，电极之一可以设置在放电灯的外壁处，位于保护套内部。由于该设置，电极不与流体（例如水）接触并且因此不需要是腐蚀安全的。

保护套的使用进一步将光源与包括流体的容器热隔离。通常，流体是使用光化学反应净化的水。该水典型地具有相对低的温度。当光源与流过容器的水接触时，光源内部的温度部分地由流动的水确定—典型地冷却光源。结果，光源中的温度可能太低，这会降低光源中产生UV辐射的效率。而且，由于流动的水引起光源的降低的温度可以导致光源接通更困难和/或只有在相当长时间之后接通。在光源接通方面的这种延迟可以导致不被净化的水经过光化学反应器—污染供水的其余部分。这将由于保护套的原因而被减少，该保护套使得光源的温度可以不同于流过光化学反应器的流体的温度。

在光化学反应器的实施例中，UV辐射包括低于200纳米的波长，并且另一UV辐射包括低于300纳米的波长。

本发明还涉及一种用在根据本发明的光化学反应器中的包括发光材料的发光屏。本发明还涉及一种用于光化学处理流体中的污染的光化学处理系统，该光化学处理系统包括如任一项权利要求中所要求保护的光化学反应器，并且包括用于控制由光源发射的光的强度和/或用于控制流体流过光化学反应器的速度和/或用于分析在光化学反应器中处理之前和/或之后流体的污染水平的处理器。

附图说明

本发明的这些和其它方面根据下文所述的实施例而清楚并且将参照这些实施例而被阐释。

在附图中：

图1A和1B示出根据本发明的光化学反应器的横截面视图，

图2示出根据本发明的光化学反应器的另一实施例的横截面视图，

图3示出根据本发明的光化学反应器的又一实施例的横截面视图，以及

图4示出根据本发明的光化学处理系统。

这些图完全是示意性的并且未按比例绘制。特别是为了清楚，一些尺寸被明显夸大。图中相似的组件用尽可能相同附图标记表示。

具体实施方式

图1A和1B示出根据本发明的光化学反应器10、12的横截面视图。光化学反应器10、12被设置为光化学地处理流体30，并且包括具有流体入口24和流体出口26的容器20。在流体30的光化学处理期间，流体30可以例如从流体入口24到流体出口26流过容器20。可替代地，流体30可以在被光化学地处理的同时在容器20中保持静止。光化学反应器10、12进一步包括用于产生和发射紫外辐射UV1（另外也被指示为UV辐射）的光源40。光源40可以是能够发射UV辐射UV1的任何光发射器40，例如低压放电灯、高压放电灯、介质阻挡放电灯40或者例如固态发光元件，比如发光二极管、激光二极管或有机发光二极管。光化学反应器10、12进一步包括至少部分地设置在光源40与流体30之间的发光材料50。发光材料50将由光源40发射的UV辐射UV1的至少一部分转换为与UV辐射UV1相比具有增加的波长的另一UV辐射UV2。

发光材料50可以设置在发光屏52上。发光材料50可以作为一层应用在发光屏52的壁上，例如在发光屏52与光源40之间。在这种设置中，发光屏52对于由发光材料发射的另一UV辐射UV2的至少一部分是至少部分半透明的。可替代地，发光材料可以应用在背对光源40的发光材料52的壁上，或者发光材料50可以嵌在发光屏52中。在这种设置中，发光屏52对于由光源40发射的UV辐射UV1的至少一部分是至少部分半透明的，使得UV辐射UV1可以撞击在发光材料50上以被转换为另一UV辐射UV2。又可替代地，发光屏52可以由发光材料50构成。

发光材料50可拆卸地连接到光化学反应器10、12从而与光源40隔开。该设置的益处在于，发光材料50可被替换，而光化学反应器10、12的其余部分仍可以使用。这可以通过替换包括发光材料的发光屏52来实现。特别是当使用DBD灯40作为光源40时，UV辐射UV1可以具有低到172nm的波长，这表示相对高的单位光子能量。而且，DBD灯40可以以相对高的效率和相对高的通量产生UV辐射UV1。该相对高的通量连同相对高的单位光子能量导致发光材料50相对快地退化。通过设置发光材料使得它可拆卸地连接到光化学反应器10、12，发光材料50可以被替换而无需替换光化学反应器10、12的其余部分。因此将光化学反应器10、12的效率保持在预定水平可以通过替换例如发光屏52而相对容易地实现。

在图1A所示的实施例中，光化学反应器10包括遮蔽光源40使之不与流过光化学反应器10的流体接触的保护套22。保护套22对于由光源40发射的UV辐射UV1是至少部分半透明的并且/或者对于由光源50发射的另一UV辐射UV2是至少部分半透明的。保护套22包括内壁，该内壁为保护套22的面对光源40的壁。在图1A所示的实施例中，发光材料50设置在保护套22的内壁上。该实施例的益处在于发光材料50不直接接触流体30并且因此不会被流体30污染。可替代地，发光材料50可以嵌在保护套22中（未示出）或可以应用在保护套22的外壁上，该外壁为保护套22的背对光源40的壁（未示出）。

在图1A所示的实施例中，光源40被设置为与保护套22隔开并且因此与发光材料50隔开。由于该设置，发光材料50和光源40可以单独地被更换。这在发光材料50和光源40以彼此不同速度退化时是非常有益的。只有退化的发光材料50（比如，连同保护套22）必须被替换，或者退化的光源40必须被替换。可替代地，该设置可以用于选择特定光源40以匹配特定发光材料50。例如，发光材料可被选择，因为发光材料50发射具有特定光化学处理所需的特定波长的另一UV辐射UV2。然而，当前使用的光源40发射不能被发光材料50高效地转换为另一UV辐射UV2的UV辐射UV1。在这种情形中，光源40可以用发射更好地匹配发光材料50的要求的UV辐射UV1的光源40来替换。由于发光材料50和光源50二者的单独可替换性，光化学反应器10在使用中的灵活性得以提高。

在图1B所示的光化学反应器12的实施例中，发光材料50设置在发光屏52上，该发光屏52被至少部分地设置在光源40与保护套22之间。发光屏52可拆卸地连接到光化学反应器12。该设置的益处在于，可以更换发光屏52而不更换光源40并且不替换保护套22。一般地，保护套22定义了流体30流过光化学反应器12的部分。当发光材料50设置在保护套22上时，整个保护套22必须被替换以便替换发光材料50。由于该替换，流体必须从光化学反应器10移除。特别是当光化学反应器10、12被设置用于对水进行去污时，水将以相对高的压力流过光化学反应器10、12。当保护套22必须被替换时，需要附加旋塞（未示出）来（临时）阻挡水的流动，直到包括发光材料50的保护套22被替换为止。在图1B所示的设置中，光化学反应器12包括发光屏52，该发光屏包括发光材料50。发光屏52被至少部分地设置在保护套22的内壁与光源40之间。在该设置中，发光屏52可以按照需要被更换而无需移除或替换保护套22。当光化学反应器12用于对水进行去污时，水可以以其原始压力保持在光化学反应器12中，同时发光屏52相对容易地被替换。

图2示出根据本发明的光化学反应器14的另一实施例的横截面视图。除了流体入口24和流体出口26之外，图2中所示的光化学反应器14包括另一流体入口34和另一流体出口36。另一流体入口34提供对大体定位在光源40与保护套22之间的附加容器21的访问口。附加容器21在使用中可以包括或者流过附加容器21或者定位在附加容器21中的另一流体35。该另一流体35可以例如是在光源40与发光材料50之间流动的冷却流体35以冷却光源40和/或发光材料50。

可替代地，另一流体35也可能需要例如使用UV辐射UV1而不是另一UV辐射UV2来进行光化学处理。如图2所示的设置允许两个光化学处理基本同时进行，一个处理使用由光源40直接发射的UV辐射UV1，且另一光化学处理使用由发光材料50发射的另一UV辐射UV2并且因此需要具有更长波长的UV辐射用以进行高效光化学处理。一般地，另一流体35对于由光源40发射的UV辐射UV1应是至少部分半透明的，使得UV辐射的一部分可以撞击在发光材料50上而被转换为另一UV辐射。

在如图2所示的光化学反应器14的设置中，光化学反应器14使得能够清楚地区分流体30所暴露到的紫外辐射和另一流体35所暴露到的紫外辐射。例如，保护套22对于由光源40发射的UV辐射UV1可以不是半透明的并且仅仅对于由发光材料50发射的另一UV辐射UV2是至少部分半透明的。在这种设置中，流体30将基本上仅仅暴露于另一UV辐射UV2，而另一流体35暴露于由光源40发射的UV辐射UV1和由发光材料50发射的另一UV辐射UV2的一部分这二者。

图3示出根据本发明的光化学反应器16的又一实施例的横截面视图。在图3所示的光化学反应器16中，流体30和另一流体30是相同的，二者都依次流过容器20和附加容器21。光化学反应器16包括流体入口24，流体30经由该流体入口24进入光化学反应器16。最初，流体30流过容器20并且暴露于由发光材料50发射的另一UV辐射UV2。典型地，该另一UV辐射UV2具有与由光源40发射的UV辐射UV1相比减小的波长，并且因此单位光子能量是不同的。另一UV辐射UV2可以被选择以匹配流体30所最初暴露到的第一光化学处理的特定要求。流体30随后将经过连接装置32流到附加容器21。附加容器21典型地环绕光源40并且主要包括由光源40发射的UV辐射UV1。由光源40发射的UV辐射可以被选择以匹配流体随后所暴露到的第二光化学处理的特定要求。由于发光材料50一般沿着所有方向发射另一UV辐射UV2，另一UV辐射UV2也将存在于附加容器22中，仍然使得第一光化学处理能够在附加容器中发生。因此，当使用如图3所示的光化学反应器16时，流体30可以依次暴露于另一UV辐射UV2和UV辐射UV1下，从而允许两个光化学处理在相同的流体30上依次地执行。

容器20与附加容器21之间的连接装置32可以借助容器20与附加容器21之间的连接软管32形成。可替代地，连接装置可以是经过保护套22以将容器20连接到附加容器21的孔（未示出）。光化学反应器16的形状也可以是不同的并且可以被最优化以使得例如流体30能够高效通过光化学反应器16，同时减少光化学反应器16两端的压力下降。例如当光化学反应器16被用于对水进行去污时，这可能是有益的。光化学反应器16上的压力下降太大将大大地降低水压，这在水离开光化学反应器16之后对于供水而言是不便的。

图4示出根据本发明的光化学处理系统100。光化学处理系统100包括如图1A所示的光化学反应器10。光化学处理系统100进一步包括处理器110。处理器110可以连接到光源40以用于控制由光源40发射的UV辐射UV1的强度。处理器110可以连接到泵110以用于控制流体30流过光化学反应器10的速度。处理器110还可以连接到例如在流体30进入光化学反应器10之前检测流体30的污染水平的第一传感器120以及连接到例如在流体30暴露于光化学处理之后检测流体30的污染水平的第二传感器125。使用UV辐射UV1的强度和/或流体30的流速，处理器110可以例如不断地监测流体30的去污质量并且可以使用这些参数来影响去污。当例如发光材料50的效率下降时，流体30的去污减少。当这被处理器110测量到时，处理器110可以减小流体30的流速以确保预定的去污水平。可替代地，当流体30的污染随时间变化时，处理器110可以检测这一点并且可以调适光源40的照明强度并且/或者可以调适流体的流速从而仍然提供所需的去污。

可替代地，可以存在其它控制装置（未示出）以影响光化学处理系统100的光化学处理。例如，流体30的流速可以由压力阀（未示出）控制，该压力阀可以用于在需要时减小流体30的流速。可以存在其它传感器（未示出）来检测流体30的污染，或者检测光化学反应器10的效率，或者检测由光源40发射的UV辐射UV1的强度，或者检测由发光材料50发射的另一UV辐射UV2的强度。

应当注意，上面提及的实施例说明而不是限制本发明，并且本领域技术人员将能够设计许多可替代实施例而不脱离所附权利要求的范围。

在权利要求中，置于括号之间的任何附图标记不应当被解释为限制权利要求。动词“包括”及其变化的使用不排除权利要求中所叙述之外的其它元件或步骤的存在。元件之前的冠词“一”或“一个”不排除多个这样的元件的存在。本发明可以借助包括若干个不同元件的硬件来实现。在列举了若干个装置的设备权利要求中，这些装置中的若干个可以由同一项硬件来体现。在相互不同的从属权利要求中叙述某些措施的纯粹事实不表示这些措施的组合不能被有利地使用。

Claims

1. 一种用于流体（30）的光化学反应器（10，12，14，16），该光化学反应器（10，12，14，16）包括：

容器（20），其包括流体（30），

光源（40），其用于产生UV辐射（UV1）并将该UV辐射朝向流体（30）发射，以及

发光材料（50），其至少部分地设置在光源（40）与流体（30）之间以用于将由光源（30）发射的UV辐射（UV1）的至少一部分转换为与该UV辐射（UV1）相比具有增加的波长的另一UV辐射（UV2），

发光材料（50）可拆卸地连接到光化学反应器（10，12，14，16）并且与光源（40）隔开。

2. 如权利要求1所述的光化学反应器（10，12，14，16），其中光源（40）可拆卸地连接到光化学反应器（10，12，14，16）并且与发光材料（50）隔开。

3. 如权利要求1或2所述的光化学反应器（10，12，14，16），其中光化学反应器（10，12，14，16）包括发光屏（22，52），该发光屏包括发光材料（50）。

4. 如权利要求1或2所述的光化学反应器（10，12，14，16），其中另一流体（30，35）可以在光源（40）与发光材料（50）之间流动。

5. 如权利要求3所述的光化学反应器（10，12，14，16），其中另一流体（30）与所述流体（30）相同。

6. 如前述权利要求中任一项所述的光化学反应器（10，12，14，16），其中所述流体（30）流过光化学反应器（10，12，14，16）。

7. 如前述权利要求中任一项所述的光化学反应器（10，12，14，16），其中光源（40）是介质阻挡放电灯（40）。

8. 如前述权利要求中任一项所述的光化学反应器（10，12，14，16），其中光源（40）设置在具有对于UV辐射（UV1）是至少部分透明的壁的保护套（22）中，发光材料（50）设置在保护套（22）的壁上。

9. 如前述权利要求中任一项所述的光化学反应器（10，12，14，16），其中UV辐射（UV1）包括低于200纳米的波长，并且其中另一UV辐射（UV2）包括低于300纳米的波长。

10. 用在如前述权利要求中任一项所述的光化学反应器（10，12，14，16）中的包括发光材料（50）的发光屏（22，52）。

11. 如权利要求10所述的发光屏（22，52），其中发光材料（50）设置在发光屏（22，52）上，和/或其中发光材料（50）嵌在发光屏（22，52）中，和/或其中发光屏（22，52）由发光材料（50）构成。

12. 用于光化学地处理流体（30）中的污染的光化学处理系统（100），该光化学处理系统（100）包括如权利要求1-9中所述的光化学反应器（10，12，14，16），并且包括用于控制由光源（40）发射的光的强度和/或用于控制流体（30）流过光化学反应器（10，12，14，16）的速度和/或用于分析在光化学反应器（10，12，14，16）中处理之前和/或之后流体（30）的污染水平的处理器（110）。