CN101938176A - 一种高压电机定子线圈的防晕结构 - Google Patents

一种高压电机定子线圈的防晕结构 Download PDF

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魏现东
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Abstract

本发明涉及一种电动机的定子线圈的防晕结构，具体地说是主要用于10KV高压三相异步电动机定子线圈的防晕结构。按照本发明提供的技术方案，所述高压电机定子线圈的防晕结构，包括定子铁心、线圈、粉云母带、低阻带、高阻带与玻璃丝带，线圈安装在电动机定子铁心上，在线圈的直线段与弯曲段外包裹一层一体状的粉云母带，在位于线圈直线段外的粉云母带上包裹一层低阻带，在位于线圈弯曲段外的粉云母带上包裹一层高阻带，在高阻带外包裹一层玻璃丝带。本发明去掉高低阻搭接区域外原有的烘台阶，同时把烘压块的长度加长，这样既保证了电晕的起晕电压，又无需进行任何修补，保证可靠、长期安全运行。

Description

一种高压电机定子线圈的防晕结构
技术领域
本发明涉及一种电动机的定子线圈的防晕结构，具体地说是主要用于10KV高压三相异步电动机定子线圈的防晕结构。
背景技术
目前，10KV电机是近几年来开发生产较多的产品，市场需求量大，经济效益好，但10KV电机定子电压高，线圈气晕电压也高，高压电机最易发生电晕的部位是槽出口处、绕组端部引线处、绝缘中的气隙等。当电晕发生后，分解出的臭氧及氧化氮等气体和水蒸气联合作用，对线圈的绝缘起化学腐蚀作用，化学作用伴随着热作用一起很快将绝缘腐蚀乃至击穿，从而缩短电机寿命。
针对电晕问题进行了深入分析和研究，造成线圈起晕电压低的主要原因是防晕结构不合理，电场分布不均匀，线圈端部电压梯度太大，所以需要采取一定措施改变现有的防晕结构。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种既可保证了电晕的起晕电压，且无需进行任何修补，保证可靠、长期安全运行的高压电机定子线圈的防晕结构。
按照本发明提供的技术方案，所述高压电机定子线圈的防晕结构，包括定子铁心、线圈、粉云母带、低阻带、高阻带与玻璃丝带，线圈安装在电动机定子铁心上，在线圈的直线段与弯曲段外包裹一层一体状的粉云母带，在位于线圈直线段外的粉云母带上包裹一层低阻带，在位于线圈弯曲段外的粉云母带上包裹一层高阻带，在高阻带外包裹一层玻璃丝带。
本发明去掉高低阻搭接区域外原有的烘台阶，同时把烘压块的长度加长，这样既保证了电晕的起晕电压，且无需进行任何修补，保证可靠、长期安全运行。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体附图和实施例对本发明作进一步说明。
如图所示：本发明主要由定子铁心1、线圈2、粉云母带3、低阻带4、高阻带5与玻璃丝带6等组成。
在线圈2的直线段与弯曲段外包裹一层一体状的粉云母带3，粉云母带3，在位于线圈2直线段外的粉云母带3上包裹(即半叠包)一层低阻带4，至防晕结束处，与粉云母带3构成搭接，在位于线圈2弯曲段外的粉云母带3上包裹(即半叠包)一层高阻带5，在高阻带5外包裹(即半叠包)一层玻璃丝带6，直至整个防晕层结束。
本发明粉云母带3选用F级桐马环氧玻璃粉云母带，低阻带4选用SDZ防晕带、高阻带5选用SDGP防晕带、玻璃丝带6选用FB-2A。
本发明结构简单、紧凑，合理，作用效果明显；在不改变结构材料的情况下，采用的办法是新型防晕结构，线圈表面缠绕低阻带、高阻带、高阻带以及玻璃丝带，去掉高低阻搭接区域外原有的烘台阶，同时把烘压块的长度加长，这样既保证了电晕的起晕电压，又使尺寸控制在图纸要求的范围内，且无需进行任何修补，保证可靠、长期安全运行。

Claims (1)

1.一种高压电机定子线圈的防晕结构，包括定子铁心(1)、线圈(2)、粉云母带(3)、低阻带(4)、高阻带(5)与玻璃丝带(6)，线圈(2)安装在电动机定子铁心(1)上，其特征是：在线圈(2)的直线段与弯曲段外包裹一层一体状的粉云母带(3)，在位于线圈(2)直线段外的粉云母带(3)上包裹一层低阻带(4)，在位于线圈(2)弯曲段外的粉云母带(3)上包裹一层高阻带(5)，在高阻带(5)外包裹一层玻璃丝带(6)。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104040841A (zh) * 2012-01-10 2014-09-10 福伊特专利公司 电晕屏蔽装置
US9508470B2 (en) 2013-10-29 2016-11-29 General Electric Company Vibration damage repair in dynamoelectric machines

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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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