CN101907831A - 用于曝光装置的光照射装置、其点亮控制方法以及曝光装置和基板 - Google Patents

Abstract

本发明提供对应于必要的照度，能够抑制消耗电力并能够对光源部进行简单控制的用于曝光装置的光照射装置、其点亮控制方法、以及曝光装置和基板。光学控制部(76)在闸盒(81)内的规定数量的光源部(73)中，具备点亮的光源部(73)的数量不同的多个点亮模式组，并且各点亮模式组分别具有光源部(73)以点对称方式点亮的多个点亮模式A1～D1、A2～D2、A3～D3。此外，光学控制部(76)控制多个闸盒(81)的规定数量的光源部(73)按照相同的点亮模式以点对称方式点亮，由此，全部的光源部(73)以点对称方式点亮。

Description

用于曝光装置的光照射装置、其点亮控制方法以及曝光装置和基板

技术领域

本发明涉及用于曝光装置的光照射装置、其点亮控制方法以及曝光装置和基板，更具体地说，涉及可适用于在液晶显示器和等离子显示器等大型平板显示器的基板上，对光罩的光罩图案进行光刻的曝光装置的用于曝光装置的光照射装置、其点亮控制方法以及曝光装置和基板。

背景技术

以前，作为平板显示器装置的彩色滤光器等的面板的制造装置，提案了接近式曝光装置、扫描曝光装置、投影曝光装置、镜像投影机、粘合式曝光装置等各种各样的曝光装置。例如，在分区逐次接近式曝光装置中，以光罩台保持比基板小的光罩的同时，以工作台保持基板，并使两者接近而相对配置后，使工作台相对于光罩逐步移动，在每一步，从光罩侧向基板照射图案曝光用光，由此，将描绘于光罩的多个图案光刻于基板上，在一枚基板上制作多个面板。此外，在扫描曝光装置中，对于以一定的速度搬运的基板，经由光罩对其照射曝光用光，将光罩的图案光刻到基板上。

近年，显示器装置正在被逐渐大型化，例如，在分区逐次曝光中，使用4次曝光镜头制造第8代(2200mm×2500mm)面板时，一次曝光区域为1300mm×1120mm，使用6次曝光镜头制造时，一次曝光区域为1100mm×750mm。因此，在曝光装置中要求曝光区域的扩大，所使用的光源的输出也要求提高。因此，已经知道作为照明光学系统，使用多个光源，以使光源整体的输出提高(例如，参考专利文献1～3)。例如，在专利文献2所记述的光照射装置，多个灯的一部分设置为点 亮时，将用照度计所测量的实际照度与事先设定的适当照度相比较，对应于实际照度的过量与不足，切断灯的电源或者接通预备的灯。在专利文献3所记载的光照射装置中，记录了灯点亮中，将光源单元从背面取下，安装新的光源单元，不停止生产线而进行灯的更换，并且，在将光源单元安装到支撑体时，将光源单元的定位部压靠到支撑体的定位角部，进行光轴方向的定位。

[现有技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本特许4391136号公报

专利文献2：日本特开2008-241877号公报

专利文献3：日本特开2006-278907号公报

然而，在曝光装置中，通过改变光照射装置的照度可以对应于各种各样的抗蚀剂的感度特性。因为曝光量通过照度和时间的积算出，所以通过改变照度或者时间，可以得到适当的曝光量，由于间隔时间缩短的原因，已经缩短了设定时间，很难进一步通过时间进行变更。因此，为了改变照度得到适当的曝光量，传统地，使用减光(ND)过滤片等实现低照度。这种情况下，造成了消耗电力的浪费，此外，需要ND滤光片等光学部件。在专利文献2中，记录了使灯的一部分点亮进行曝光的方法，但是其目的是为了在一定的照度下进行运行，而不是为了抑制消耗电力，并且没有记录如何使多个灯点亮和熄灭。

此外，专利文献1和2中，进行灯的更换时，需要将灯一个一个地更换，灯的更换花费时间多并且装置的停止时间(停止时间)延长。作为以消除停止时间为目的的技术，如专利文献3所示，公开了在曝光运行中能够更换灯的结构，然而操作人员进行更换操作所花费的时间本身，由于是独立更换，所以花费时间长的问题没有改变。

发明内容

本发明是鉴于上述课题提出的，其目的在于，提供对应于必要的照度，能够抑制消耗电力并且能够容易地控制光源部的用于曝光装置的光照射装置、其点亮控制方法、以及曝光装置和基板。

本发明的上述目的通过如下构成来实现。

(1)一种用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，具备：

多个光源部，其分别包含发光部和反射光学系统，该反射光学系统使从该发光部所发出的光具有指向性并射出；

多个闸盒，在该多个闸盒中，可分别安装规定数量的所述光源部；

框架，在该框架中，可安装该多个闸盒；以及

控制部，其控制所述多个光源部的点亮或熄灭，

所述控制部控制所述各闸盒内的所述规定数量的光源部以点对称的方式点亮。

(2)根据(1)所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，所述控制部通过控制所述多个闸盒的所述规定数量的光源部以相同的点亮模式点对称地同时点亮，以使得所述全部的光源部点对称地点亮。

(3)根据(1)或(2)所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，所述控制部具备多个点亮模式组，在该多个点亮模式组中，所述闸盒内的规定数量的光源部之中点亮的光源部的数量不相同，并且该各点亮模式组分别具有所述光源部以点对称方式点亮的多个点亮模式。

(4)根据(3)所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

还具备对所述各光源部的点亮时间进行计时的计时器，

所述控制部按照期望的照度，选择所述多个点亮模式组的任一个，并且在该被选择的点亮模式组之中，根据所述光源部的点亮时间选择所述点亮模式。

(5)根据(3)所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

还具备对所述各光源部的点亮时间进行计时的计时器，

所述控制部根据所述各光源部的点亮时间以及点亮时所提供的电压或电力计算所述多个光源部的剩余寿命，

所述控制部按照期望的照度，选择所述多个点亮模式组的任一个，并且在该被选择的点亮模式组之中，根据所述光源部的剩余寿命选择所述点亮模式。

(6)根据(4)所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，所述期望的照度与通过所述多个点亮模式组得到的照度不同时，选择能够得到与所述期望的照度接近的照度的点亮模式组，并且调整提供给所述点亮的光源部的电压或电力。

(7)根据(1)所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，所述闸盒具有支撑所述规定数量的光源部的光源支撑部，所述光源支撑部被形成为：从所述规定数量的光源部的光所照射的各照射面至所述规定数量的光源部的光所射入的积分透镜的入射面为止的各光轴的距离为大致一定。

(8)根据(7)所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

所述框架具有分别安装所述多个闸盒的多个闸盒安装部，

所述多个闸盒安装部被形成为：从所述全部的光源部的光所照射的各照射面至所述全部的光源部的光所射入的积分透镜的入射面为止的各光轴的距离为大致一定。

(9)根据(8)所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

所述多个闸盒安装部分别具备：所述闸盒的光源支撑部所面对的开口部以及与形成于该光源支撑部的周围的平面部相抵靠的平面，

排列于规定方向的所述多个闸盒安装部的各平面以规定的角度交 叉。

(10)一种曝光装置，其特征在于，具备：

基板保持部，其保持作为被曝光材料的基板；

光罩保持部，其将光罩保持为与所述基板相对；以及

照明光学系统，其具有(1)所述的光照射装置和从该光照射装置的多个光源部射出的光所射入的积分透镜，

并且，该曝光装置将来自所述照明光学系统的光经由所述光罩照射到所述基板上。

(11)一种基板，其特征在于，被使用(10)所述的曝光装置进行曝光。

(12)一种用于曝光装置的光照射装置的点亮控制方法，所述用于曝光装置的光照射装置具备：

多个光源部，该多个光源部分别包含发光部和反射光学系统，该反射光学系统使从该发光部所发出的光具有指向性并射出；

多个闸盒，在该多个闸盒中，可分别安装规定数量的所述光源部；

框架，在该框架中，可安装该多个闸盒；以及

控制部，其控制所述多个光源部的点亮或熄灭，

该用于曝光装置的光照射装置的点亮控制方法的特征在于，所述控制部控制所述各闸盒内的所述规定数量的光源部以点对称的方式点亮。

再者，所谓“照度”，是指1cm²的面积在1秒内所接受的能量[mW/cm²]。

根据本发明的用于曝光装置的光照射装置以及其点亮控制方法，由于控制部对各闸盒内的规定数量的光源部进行控制使其以点对称的方式点亮，因此可以按照必要的照度抑制消耗电力并进行曝光，由于 是对每个闸盒进行控制，与基板的大小(年代)的变更和灯的数量无关，能够容易地控制灯的点亮。

另外，通过控制多个闸盒81的规定数量的光源部73的各灯71以相同的点亮模式按照点对称的方式点亮，框架82内的全部的光源部73以点对称的方式点亮。因此，能够不改变曝光面的照度分布，而改变照度。

附图说明

图1是用于说明本发明的第一实施方式的分区逐次接近式曝光装置的一部分的分解立体图。

图2是图1所示的分区逐次接近式曝光装置的正面图。

图3是光罩台的截面图。

图4(a)是表示照明光学系统的光照射装置的正面图，(b)是沿(a)的IV-IV线的截面图，(c)是沿(a)的IV′-IV′线的截面图。

图5(a)是表示闸盒的正面图，(b)是从(a)的V方向观察的截面图，(c)是将从(a)的V′方向观察的闸盒的截面图与积分透镜一起表示的图。

图6是安装于闸盒的光源部附近的扩大截面图。

图7是表示灯压紧机构的变化例的闸盒的截面图。

图8是表示闸盒安装于框架的状态的要件放大图。

图9是表示从各光源部的射出面到积分透镜的入射面的距离的示意图。

图10是用于表示各光源部的控制结构的图。

图11是用于说明寿命时间检测装置的图。

图12是表示通过空气冷却各光源部的结构的一个例子的图。

图13(a)～(c)是表示形成于闸盒压紧外罩的排气孔的例子的图。

图14(a)、(b)是表示由制冷剂冷却各光源部的冷却通路的设计例子的图。

图15是示出在闸盒安装部配置了闸盒和盖子部件的一个例子的图。

图16(a)、(b)是表示安装于闸盒的光源部的配置的图。

图17是表示安装了图16(a)的闸盒的框架的图。

图18(a)～(d)是表示光照射装置的点亮控制方法的图。

图19(a)～(c)是表示闸盒内的各光源部的点亮模式的图。

图20是本发明的第二实施方式的接近式扫描曝光装置的整体立体图。

图21是表示将接近式扫描曝光装置去除了照射部等上部结构的状态的俯视图。

图22是表示接近式扫描曝光装置的光罩配置区域的曝光状态的侧视图。

图23(a)是用于说明光罩和气垫的位置关系的要件的俯视图，(b)是其截面图。

图24是用于说明接近式扫描曝光装置的照射部的图。

图25(a)是表示图24的光照射装置的正面图，(b)是沿(a)的XXV-XXV线的截面图。

符号说明

10光罩台

18校准相机

20基板台

70照明光学系统

71灯

72反射镜

73光源部

74积分透镜

76光学控制部(控制部)

80，80A光照射装置

81，81A闸盒

82，82A框架

83光源支撑部

84灯压紧外罩

87灯压紧机构

90闸盒安装部

91框架主体

92框架外罩

96a计时器

101接近式扫描曝光装置(曝光装置)

120基板搬运机构

121悬浮单元

140基板驱动单元

150基板预校准机构

160基板校准机构

170光罩保持机构

171光罩保持部

172光罩驱动部

180照射部

190遮光装置

M光罩

P图案

PE逐次接近式曝光装置(曝光装置)

W玻璃基板(被曝光材料、基板)

具体实施方式

以下，结合附图对本发明的光照射装置、曝光装置以及曝光方法相关的各实施方式进行详细的说明。

(第一实施方式)

如图1和图2所示，第一实施方式的分区逐次接近式曝光装置PE具有保持光罩M的光罩台10、保持玻璃基板(被曝光材料)W的基板台20、用于照射图案曝光用光的照明光学系统70。

再者，玻璃基板W(以下，仅称为“基板W”)与光罩M相对配置，在应该对画于该光罩M的图案进行光刻的表面(光罩M的相对面侧)涂抹感光剂。

光罩台10具有：在中央部形成矩形形状的开口11a的光罩台基座11；在光罩台基座11的开口11a处安装的可在X轴、Y轴、θ方向上移动的作为光罩保持部的光罩保持框架12；设于光罩台基座11的上表面，使光罩保持框架12在X轴、Y轴、θ方向移动以调整光罩M的位置的光罩驱动机构16。

光罩台基座11通过装置基座50上所竖直设立的支柱51、以及在支柱51的上端部所设置的Z轴移动装置52，被可在Z轴方向移动地支撑(参照图2)，并配置于基板台20的上方。

如图3所示，在光罩台基座11的开口11a的边缘部的上面，多处设置有平面轴承13，光罩保持框架12将设置于其上端外边缘部的凸缘12a载置于平面轴承13。由此，光罩保持框架12因为留有规定间隙地插入光罩台基座11的开口11a，所以只能够在X轴、Y轴、θ方向移动该间隙的距离。

此外，在光罩保持框架12的下面，用于保持光罩M的卡盘部14通过衬垫15被固定。在该卡盘部14，设置有用于吸附未描画光罩M的光罩图案的边缘部的多个吸引口14a，光罩M经由吸引口14a通过未图示的真空式吸附装置装卸自如地保持在卡盘部14上。另外，卡盘部14与光罩保持框架12一起可以相对于光罩台基座11在X轴、Y轴、θ方向移动。

光罩驱动机构16具有：安装于沿着光罩保持框架12的X轴方向的一边的2台Y轴方向驱动装置16y、和安装于沿着光罩保持框架12 的Y轴方向的一边的1台X轴方向驱动装置16x。

Y轴方向驱动装置16y具有：设置于光罩台基座11上，具有沿Y轴方向伸缩的杆16b的驱动用致动器(例如，电动致动器等)16a；在杆16b的前端通过销支撑机构16c连接的滑块16d；安装于沿着光罩保持框架12的X轴方向的边部的、用于可移动地安装滑块16d的导轨16e。并且，X轴方向驱动装置16x也具有与Y轴方向驱动装置16y同样的结构。

并且，在光罩驱动机构16中，通过驱动1台X轴方向驱动装置16x使光罩保持框架12向X轴方向移动，通过同样地驱动2台Y轴方向驱动装置16y使光罩保持框架12向Y轴方向移动。此外，通过驱动2台Y轴方向驱动装置16y中的任一台使光罩保持框架12向θ方向移动(绕Z轴旋转)。

进而，在光罩台基座11的上面，如图1所示，设置有：用于测量光罩M与基板W的对向面之间的间隙的间隙传感器17；和用于确认保持于卡盘部14的光罩M的安装位置的校准相机18。间隙传感器17以及校准相机18通过移动装置19被可在X轴、Y轴方向上移动地保持，并配置于光罩保持框架12内。

此外，在光罩保持框架12上，如图1所示，在光罩台基座11的开口11a的X轴方向的两端部，根据需要设置遮挡光罩M的两端部的光圈叶片38。该光圈叶片38通过由电机、滚珠螺杆、以及线性导槽等构成的光圈叶片驱动装置39可以沿X轴方向移动，并调节光罩M的两端部的遮挡面积。并且，光圈叶片38不仅设置于开口11a的X轴方向的两端部，同样也设置于开口11a的Y轴方向的两端部。

基板台20如图1和图2所示，具有：用于保持基板W的基板保持部21；和将基板保持部21相对于装置基座50向X轴、Y轴和Z轴 方向移动的基板驱动机构22。基板保持部21通过未图示出的真空吸附机构装卸自如地保持基板W。基板驱动机构22在基板保持部21的下方，具有：Y轴工作台23、Y轴进给机构24、X轴工作台25、X轴进给机构26、以及Z-倾斜调节机构27。

Y轴进给机构24如图2所示，由线性导槽28和进给驱动机构29所构成，安装于Y轴工作台23的背面的滑块30通过转动体(未图示)跨接在延伸于装置基座50上的2根导轨31上，并且通过电机32和滚珠螺杆装置33沿导轨31驱动Y轴工作台23。

并且，X轴进给机构26也具有与Y轴进给机构24同样的结构，相对于Y轴工作台23向X方向驱动X轴工作台25。此外，Z-倾斜调节机构27通过将楔状的移动体34、35和进给驱动机构36组合而成的可动楔子机构在X方向的一端侧配置1台，另外一侧配置2台而构成。再者，进给驱动机构29、36可以由电机和滚珠螺杆装置组合构成，也可以是具有定子和转子的线性电机。并且，Z-倾斜调节机构27的设置数为任意数。

由此，基板驱动机构22向Z轴方向稍微移动基板保持部21并且调节倾斜度，以使得基板保持部21向X方向和Y方向进给驱动并且微调光罩M与基板W的相对面之间的间隙。

在基板保持部21的X方向侧部与Y方向侧部分别安装有杆式反射镜61、62，此外，在装置基座50的Y方向端部与X方向端部，设置有共计3台的激光干涉仪63、64和65。由此，从激光干涉仪63、64和65向杆式反射镜61和62照射激光，接收通过杆式反射镜61、62所反射的激光、测量激光与通过杆式反射镜61和62所反射的激光的干涉并检测基板台20的位置。

如图2和图4所示，照明光学系统70具有：光照射装置80，其具 有多个光源部73；从多个光源部73射出的光束射入的积分透镜74；光学控制部76，其可进行包含各光源部73的灯71的点亮和熄灭的转换的电压控制；凹面镜77，其用于改变从积分透镜74的射出面射出的光路的方向；曝光控制用挡板78，其设置于多个光源部73和积分透镜74之间，进行开闭控制以使得所照射的光透过和被遮挡。并且，在积分透镜74与曝光面之间，也可以设置DUV截止滤光片、偏光滤光片、带通滤光片，且在凹面镜77，也可以设置能够手动或自动改变反射镜的曲率的偏角补偿装置。

如图4～图6所示，光照射装置80具备：多个光源部73，其分别包括作为发光部的超高压水银灯71和，作为使该灯71所发出的光具有指向性并射出的反射光学系统的反射镜72；多个闸盒81，其在多个光源部73中，可分别安装规定数量的光源部73；可安装多个闸盒81的框架82。作为发光部，也可使用LED来替代超高压水银灯71。

并且，在照明光学系统70中，使用160W的超高压水银灯71时，在用于制造第6代的平面面板的曝光装置中需要374个光源部，在用于制造第7代的平面面板的曝光装置中需要572个光源部，在用于制造第8代的平面面板的曝光装置中需要774个光源部。但是，在本实施方式中，为了简化说明，如图4所示，每个闸盒81安装有在α方向3段，在β方向2列共计6个光源部73，配置3段×3列共计9个闸盒81，作为具有54个光源部73的装置进行说明。再者，闸盒81或框架82，虽然可以考虑到在α、β方向配置相同数量的光源部73的正方形形状，但使用了在α、β方向配置不同数量的长方形形状。并且，在本实施方式的光源部73，反射镜72的开口部72b形成为大致正方形的形状，使四个边沿着α、β方向配置。

各闸盒81形成为大致长方体的形状，且具有：用于支撑规定数量的光源部73的光源支撑部83；和按压由光源支撑部83所支撑的光源部73并安装于该光源支撑部83的凹状灯压紧外罩(外罩部件)84。各闸 盒81分别具有相同的构成。

在光源支撑部83，形成有：对应于光源部73的数量所设定并发出来自光源部73的光的多个窗口部83a；和设置于该窗口部83a的外罩侧并包围反射镜72的开口部72a(或者安装反射镜72的反射镜安装部的开口部)的灯用凹部83b。并且，在该窗口部83a的外罩的相反侧，分别安装有多个外罩玻璃85。而且，外罩玻璃85的安装是任意的，也可以不配置。

各灯用凹部83b的底面形成为平面或曲面(本实施方式中为平面)，以使得照射光源部73的光的照射面(在此，为反射镜72的开口面72b)与光源部73的光轴L的交点p，位于各α、β方向的单一曲面，例如，球面r上。

在灯压紧外罩84的底面，设置有抵靠在光源部73的后部的抵靠部86，在各抵靠部86，设置有由如电机或气缸那样的致动器、弹簧承座、定位螺钉等构成的灯压紧机构87。由此，各光源部73使反射镜72的开口部72a嵌接在光源支撑部83的灯用凹部83b，将灯压紧外罩84安装于光源支撑部83，通过由灯压紧机构87压住光源部73的后部，定位于闸盒81。因此，如图5(c)所示，从定位于闸盒81的规定数量的光源部73的光所照射的各照射面，至规定数量的光源部73的光所射入的积分透镜74的入射面为止的各光轴L的距离大致一定。此外，在光源支撑部83与灯压紧外罩84之间的收纳空间内，相邻的光源部73的反射镜72的背面72c直接相对配置，在光源部73、灯压紧机构87等以外，该收纳空间内的空气的流动不会被遮挡，赋予了良好的空气流动性。

再者，灯压紧机构87可以设置在每个抵靠部86处，如图7所示，形成在灯压紧外罩84的侧壁也可以。这种情况下，抵靠部86可以独立地设置于各光源部73，也可以抵靠在2个以上的光源部73的后部。

并且，框架82具备：具有用于安装多个闸盒81的多个闸盒安装部90的框架主体91；安装于该框架主体91并覆盖各闸盒81的后部的框架外罩92。

如图8所示，在各闸盒安装部90，形成了光源支撑部83所面对的开口部90a，在该开口部90a的周围，形成了以光源支撑部83的周围的矩形平面所相对的平面90b为底面的闸盒用凹部90c。并且，在框架主体91的闸盒用凹部90c的周围，设置有用于固定闸盒81的闸盒固定装置93，在本实施方式，与形成在闸盒81上的凹部81a相卡扣，并固定闸盒81。

排列于α方向或者β方向的闸盒用凹部90c的各平面90b形成为以规定的角度γ相交，以使得各闸盒81的全部的光源部73的光所照射的照射面与光源部73的光轴L的交点p位于各α、β方向的单一曲面，例如球面r上(参照图9)。

因此，各闸盒81在使这些光源支撑部83嵌接于各闸盒安装部90的闸盒用凹部90c并定位的状态下，通过使闸盒固定装置93卡扣在闸盒81的凹部81a，分别固定于框架82。并且，这些闸盒81安装于框架主体91的状态下，将框架外罩92安装于该框架主体91。因此，如图9所示，与定位于各闸盒81的全部的光源部73的光所照射的各照射面，至规定数量的光源部73的光所射入的积分透镜74的入射面为止的各光轴L的距离也大致一定。

此外，如图10所示，在各闸盒81的光源部73，给灯71提供电力的点亮电源95和控制电路96被独立连接，从各光源部73向后方延伸的各配线97被连接并整理到设置在各闸盒81的至少一个连接器98上。并且，各闸盒81的连接器98与设置于框架82的外侧的光学控制部76之间分别通过其他的配线99连接。由此，光学控制部76向各灯71的 控制电路96发送控制信号，进行控制各灯71的点亮或熄灭、以及点亮时提供给灯71的电压的电压控制。

再者，各光源部73的点亮电源95和控制电路96既可以集中设置于闸盒81，也可以设置于闸盒的外部。并且，灯压紧外罩84的抵靠部86形成为不与来自各光源部73的各配线97相干涉。

进而，如图11所示，在每个灯71设置包含保险丝94a的寿命时间检测装置94，通过计时器96a对点亮时间进行计时，在额定寿命时间到来阶段，使电流流经保险丝94a而断开保险丝94a。因此，通过确认保险丝94a是否被断开，可以检测灯71是否在额定的寿命时间使用。再者，寿命时间检测装置94并非限定于包含保险丝94a的装置，只要是在进行灯的更换维护时能够让人知道灯71的额定寿命时间的装置就可以。例如，在每个灯71处设置IC标签，能够通过IC标签确认灯71是否在额定寿命时间使用的装置，或者，使其能够对灯71的使用时间进行确认。

此外，在光照射装置80的各光源部73、各闸盒81、以及框架82，设置有用于冷却各灯71的冷却结构。具体地说，如图6所示，在安装有各光源部73的灯71和反射镜72的基座部75，形成有冷却通路75a，在闸盒81的各外罩玻璃85，形成有一个或者多个贯通孔85a。此外，在闸盒81的灯压紧外罩84的底面，形成有多个排气孔(连通孔)84a(参照图5(c))，在框架82的框架外罩92形成有多个排气孔92a(参照图4(c))。此外，在各排气孔92a，形成于框架82的外部的鼓风单元(强制排气装置)79通过排气管79a连接。因此，由鼓风单元79将框架82内的空气抽出并排放，由此，从外罩玻璃85的贯通孔85a所吸引的外部的空气，向箭头所表示的方向通过灯71与反射镜72之间的间隙s，引导到形成于光源部73的基座部75的冷却通道75a，通过空气对各光源部73进行冷却。

还有，作为强制排气装置，并非限定为鼓风单元79，风扇、逆变器、真空泵等，只要是抽出框架82内的空气的装置就可以。并且，通过鼓风单元79的空气的排放，并非限定为从后方进行，从上方、下方、左方、右方的任一侧均可。例如，如图12所示，也可以将连接于框架侧的多个排气管79a通过挡板79b分别与鼓风单元79连接。

此外，在灯压紧外罩84上所形成的排气孔84a，如图5(c)所示，可以在底面形成多个，也可如图13(a)所示，形成在底面的中央，如图13(b)、(c)所示，也可以形成于长度方向、宽度方向的侧面。此外，除排气孔84a之外，也可以形成从灯压紧外罩84的开口边缘切开的连通槽，由此，光源支撑部83和灯压紧外罩84之间的收纳空间与外部连通。

再者，灯压紧外罩84由多个框架构成为骨架结构，也可通过在框架上另外安装形成有贯通孔或连通槽的外罩板，来构成贯通孔或连通槽。

进而，在框架主体91的周边，设置有水冷却管(冷却用配管)91a，通过水泵69使水冷却管91a内的冷却水循环，也可冷却各光源部73。并且，水冷却管91a如图4所示，可以形成于框架主体91内，也可安装于框架主体91的表面。此外，上述排气式冷却结构和水冷却式冷却结构也可以仅设置其中的任意一种。另外，水冷却管91a并不局限于如图4所示的配置，也可以将如图14(a)和图14(b)所示的水冷却管91a配置为穿过全部的闸盒81的周围，或者，曲折配置为穿过全部的闸盒81的周围的一部分，使冷却水循环。

在这样构成的曝光装置PE，在照明光学系统70中，曝光时若曝光控制用挡板78被控制为开时，则从超高压水银灯71所照射的光射入积分透镜74的入射面。并且，从积分透镜74的射出面所发出的光，经由凹面镜77改变其行进方向的同时变换为平行光。此外，该平行光 作为图案曝光用光，相对于保持在光罩台10的光罩M、进而相对于保持在基板台20的基板W的表面大致垂直地被照射，光罩M的图案P被光刻于基板W上。

在此，更换光源部73时，对每个闸盒81进行更换。在各闸盒81，规定数量的光源部73被事先定位，并且，来自各光源部73的配线97被连接于连接器98。因此，从与框架82的光所射出的方向相反的方向卸下需要更换的闸盒81，通过将新的闸盒81嵌接在框架82的闸盒用凹部90b并安装在框架82上，闸盒81内的光源部73的校准即结束。另外，通过在连接器98连接其它的配线99，配线的操作也结束，所以可以容易地进行光源部73的更换操作。另外，更换闸盒时需要固定装置。其理由为：在闸盒81配置有多个灯(9个以上)，每个闸盒对于在曝光面的照度分布影响很大。但是，即使是更换如前所述的多个闸盒81的情况，操作简单并且更换时间本身也可以缩短，是有用的方法。

此外，闸盒81的光源支撑部83形成为：从规定数量的光源部73的光所照射的各照射面，至规定数量的光源部的光所射入的积分透镜74的入射面为止的各光轴L的距离为大致一定，框架82的多个闸盒安装部90形成为：从全部的光源部73的光所照射的各照射面，至全部的光源部73的光所射入的积分透镜74的入射面为止的各光轴L的距离为大致一定。由此，通过使用闸盒81，不用在框架82上进行大曲面的加工，能够使全部的光源部73的照射面配置在单一的曲面上。

具体地说，框架82的多个闸盒安装部90分别具有：闸盒81的光源支撑部83所面对的开口部90a和，与形成于光源支撑部83的周围的平面部相抵靠的平面90b，因为排列于规定方向的多个闸盒安装部90的各平面90b以规定的角度交叉，因此，闸盒安装部90通过简单的加工，可以形成为：从规定数量的光源部73的光照射的各照射面，到积分透镜74的入射面为止的各光轴L的距离为大致一定。

此外，框架82的闸盒安装部90形成在以平面90b为底面的凹部90c上，由于闸盒81嵌接在闸盒安装部90的凹部90c，因此可以使闸盒81不发出卡嗒声地固定于框架82上。

并且、闸盒81在包围被光源支撑部83支撑的规定数量的光源部73的状态，具有安装于光源支撑部83的灯压紧外罩84，在光源支撑部83和灯压紧外罩84之间的收纳空间内，由于相邻光源部73的反射镜72的背面72c直接相对设置，所以赋予收纳空间内良好的空气流动性，对各光源部73进行冷却时，能够高效地排出收纳空间内的空气。

此外、由于在灯压紧外罩84形成有连通收纳空间和灯压紧外罩84的外部的连通孔84a，所以可以通过简单的结构将空气排出到闸盒81的外部。

进而，在框架82，为了冷却各光源部73，设置有用于循环冷却水的水冷却管91a，所以通过冷却水可以对各光源部73进行高效率的冷却。

并且，由于具有从各光源部73的光所照射的各照射面的后方和侧面中的至少一方强制排出框架82内的空气的鼓风单元79，所以能够使框架82内的空气循环，能够对各光源部73进行有效冷却。

此外，根据曝光的种类(着色层、BM、光刻型間隔物、光控取向膜、TFT层等)，或者同类情况下根据抗蚀剂的种类不同所要的曝光量不同，因此，如图15所示，有时不需要将全部的闸盒81安装于框架82的多个闸盒安装部90。这种情况下，在没有配置闸盒81的闸盒安装部90上安装有盖部件89，在盖部件89，形成有与外罩玻璃85的贯通孔85a具有相同直径和相同个数的贯通孔89a。由此，外部的空气除了从外罩玻璃85的贯通孔85a被吸引以外，还从盖部件89的贯通孔89a被吸引。因此，即使是在闸盒81没有安装于全部的闸盒安装部90 的情况下，通过配置盖部件89，也可以获得与闸盒81配置于全部的闸盒安装部90时相同的空气流动性，从而进行光源部73的冷却。

再者，为了可靠地对各光源部73进行冷却，在闸盒81或者盖部件89没有安装到全部的闸盒安装部90的状态下，也可以进行锁固使光照射装置80不能运行。

此外，在上述的实施方式，为了简化说明，举例说明了在α方向安装了3段、β方向安装了2列共计6个光源部73的闸盒81，但是实际上配置于闸盒81的光源部73为8个以上，以如图16(a)和(b)所示的配置按照点对称或者线对称的方式安装于闸盒81。即，在α方向、β方向以不同的数量配置光源部73，按四边连接安装在闸盒81的光源支撑部83的位于最外周的光源部73的中心的线形成长方形的形状。此外，安装各闸盒81的框架82的闸盒安装部90，如图17所示，使在相互垂直的α、β方向配置的各个数n(n为2以上的正整数)一致，形成为长方形形状。在此，该长方形形状对应于后述的积分元件的各透镜部件的每个纵横入射开口角比，在闸盒的行数、列数相同的情况下效率最高，但是也可以为不相同的数量。

在此，积分透镜74的各透镜部件的深宽比(纵/横比)对应于曝光区域的深宽比而被确定。并且、积分透镜的各透镜部件，其结构为不能从入射开口角以上的角度取出所射入的光。即，透镜部件中，相对于长边侧短边侧的入射开口角小。因此，配置于框架82的光源部73整体的深宽比(纵/横比)为对应于积分透镜74的入射面的深宽比的长方形形状的配置，光的使用效率良好。

这样构成的分区逐次接近式曝光装置PE中，对应于必要的照度，通过由光学控制部76对各光源部73的灯71按照每个闸盒81进行点亮、熄灭、或者电压控制来改变照度。即，光学控制部76通过控制各闸盒81内的规定数量的光源部73的灯71按照点对称方式点亮，并且 控制多个闸盒81的规定数量的光源部73的灯71按照相同的点亮模式以点对称方式点亮，使得框架82内的全部的光源部73以点对称方式点亮。例如，图18(a)表示了使各闸盒81的100％的灯71(本实施方式中为24个)点亮的情况，图18(b)表示了点亮各闸盒81的全部的灯71的75％(本实施方式中为18个)的情况，图18(c)表示了使各闸盒81的全部灯71的50％(本实施方式中为12个)点亮的情况，图18(d)表示了使各闸盒81的全部灯71的25％(本实施方式中为6个)点亮的情况。由此，不改变曝光面的照度分布就能改变照度，并且，由于对每个闸盒同时进行控制，与基板的大小(年代)的改变和灯的数量无关，能够容易地控制灯71的点亮。

另外、光学控制部76具备多个(本实施方式中为3个)点亮模式组，该多个点亮模式组分别具有：全部点亮的情况除外，按照期望的照度点亮的灯71的数量分别不同的、点对称地控制闸盒81内的各光源部73的灯71的点亮或者熄灭的多个(本实施方式中为4个)点亮模式。具体地说，如图19(a)所示，使闸盒81内的75％的灯71点亮的第一模式组具有A1～D1的4个模式。此外，如图19(b)所示，使闸盒81内的50％的灯71点亮的第二模式组具有A2～D2的4个模式。进而，如图19(c)所示，使闸盒81内的75％的灯71点亮的第三模式组具有A3～D3的4个点亮模式。这些点亮模式A1～D1、A2～D2、A3～D3全部设定为使闸盒81内的灯71以点对称方式点亮。此外，图18和图19中，在光源部73画有斜线的部分表示熄灭后的灯71。

此外，光学控制部76按照期望的照度，选择第1～第3点亮模式组的任一个点亮模式组，并且选择所选的点亮模式组中的任意一个点亮模式。该点亮模式的选择也可以按照如下所述进行：可以在规定的定时内，同时在多个闸盒81使所选的点亮模式组的多个点亮模式顺序地切换。或者，依据各光源部73的灯71的点亮时间进行选择，具体地说，可以选择点亮时间最少的点亮模式。通过这样的点亮模式的切换和选择，能够使灯的点亮时间均等。

另外，所谓点亮时间最少的点亮模式，可以是包含点亮时间最少的光源部73的灯71的点亮模式，也可以是应点亮的光源部73的灯71的点亮时间的合计为最少的点亮模式。进而，光学控制部76根据各光源部73的灯71的点亮时间、以及点亮时所提供的电压计算各光源部73的灯71的剩余寿命，也可以根据该剩余寿命选择点亮模式。而且，也可以切换点亮模式以回避包含剩余寿命短的灯71的点亮模式。

另外，期望的照度与通过第1～第3的点亮模式组得到的照度不同时，选择能够得到照度接近期望值的点亮模式组，并且，调整提供给点亮的光源部73的灯71的电压为额定值以上或者额定值以下。例如，期望的照度为100％点亮时的照度的60％的情况，选择50％点亮的点亮模式组的任意一个点亮模式，提高该点亮光源部73的灯71的电压。

进而，若均等调节全部的闸盒81的点亮的灯71的电压就偏离了期望的照度时，可以一边调节点对称地配置的位置上的各闸盒81的灯71的电压，使其相等，一边对应于闸盒81的位置施加不同的电压。具体地说，在图18中，一边均等调节位于周围的各闸盒81的灯71的电压，一边将位于中央的闸盒81的灯的电压，调节为不同于位于周围的各闸盒81的灯71的电压。由此，不改变曝光面的照度分布就可以微调得到期望的照度。

另外，只将一部分的闸盒81更换为具备新灯71的闸盒81时，使随同剩余的闸盒81的灯71的点亮一起更换的闸盒81的灯71以点对称方式点亮。此时，从新的闸盒81的灯71所射出的照度倾向于比从剩余的闸盒81的灯71所射出的照度强。因此，调低新的闸盒81的各灯71的电压，以使得从点对称地配置的位置上的各闸盒81的灯71所射出的照度均等。

因此，根据本实施方式，按照需要的照度，通过只使期望的灯71 点亮而抑制消费电力，并且，不需要ND滤光片等光学部件，能够实现降低成本的目的，并且，通过以点对称方式点亮或者熄灭灯71，能够防止曝光面的照度分布下降。进而，通过对每个闸盒以点对称方式点亮或者熄灭灯71，与基板的大小(年代)的改变和灯的数量无关，能够简单地控制灯71的点亮。

此外，控制部76具有在闸盒内的规定数量的光源部73之中，点亮的光源部73的灯71的数量不同的多个点亮模式组，并且因为各点亮模式组分别具有光源部73的灯71以点对称的方式点亮的多个点亮模式A1～D1、A2～D2、A3～D3，因此，通过切换并使用点亮模式，能够使闸盒81内的各灯71的点亮时间均等。由此，能够使各光源部73的灯71的使用频率无偏移，更换闸盒81的间隔延长，光源部73的更换所引起的装置的停止时间缩短。

进而，还具有对各光源部的灯71的点亮时间进行计时的计时器96a，光学控制部76按照期望的照度，选择多个点亮模式组中的任一个，并且所选择的点亮模式组之中，根据光源部73的点亮时间选择点亮模式，因此，能够使闸盒81内的各灯81的点亮时间均等。

除此之外，期望的照度与由多个点亮模式组所得到的照度不相同时，选择能够得到其照度与所述期望的照度接近的点亮模式组，并调节提供给点亮的光源部的电压，所以，不论是何种点亮模式，都可以任意设定照度。

再者，作为灯71的点亮或者熄灭控制，也可以通过比较以没有图示出的照度仪所测量的实际照度与事先设定的适当照度来判定实际照度的过量与不足，并且为了消除实际照度的过量与不足而提高灯71的电压，对控制电路96或者光学控制部76进行控制。

此外，本实施方式中，使用滤光片等光学部件时，为了改善由滤 光片引起的照度分布的下降，可以提高灯71的电压或者电力。

再者，本实施方式中，光学控制部76对提供给灯71的电压进行了控制，但是也可以对电力进行控制。

(第二实施方式)

下面，关于本发明的第二实施方式的接近式扫描曝光装置，参照图20～图25进行说明。

接近式扫描曝光装置101如图23所示，一边接近光罩M一边对搬运到规定方向的大致长方形的基板W，经由形成了图案P的多个光罩M照射曝光用光L，将图案P光刻到基板W。即，该曝光装置101采用了一边相对于多个光罩M移动基板W一边进行光刻的扫描曝光方式。此外，本实施方式中所使用的光罩的尺寸设定为350mm×250mm，图案P的X方向的长度对应于有效曝光区域的X方向的长度。

如图20和图21所示，接近式扫描曝光装置101具有：基板搬运机构120，其使基板W悬浮并支撑，并且向规定方向(图中为X方向)搬运基板W；多个光罩保持机构170，其具有分别保持多个光罩M并沿着与规定方向交叉的方向(图中为Y方向)交错地配置为两列；多个照射部180，其分别配置在多个光罩保持部171的上部，并作为照射曝光用光L的照明光学系统使用；多个遮光装置190，其分别配置在多个照射部180与多个光罩保持部171之间，用于遮挡从照射部180射出的曝光用光L。

这些基板搬运机构120，光罩保持机构170，多个照射部180以及遮光装置190，经由平板(未图示)配置在设于地面的装置基座102上。在此，如图21所示，基板搬运机构120搬运基板W的区域中，上方配置光罩保持机构170的区域称作光罩配置区域EA，相对于光罩配置区域EA为上游侧的区域称作基板搬入侧区域IA，相对于曝光区域EA 为下游侧的区域称为基板搬出侧区域OA。

基板搬运机构120具有：悬浮单元121，其配置在经由其他的平板(未图示)设置在装置基座102上的搬入框架105、精密框架106、搬出框架107上，作为通过空气使基板W悬浮并支撑的基板保持部使用；基板驱动单元140，其在悬浮单元121的Y方向一侧，并配置在经由其他的平板108而设置在装置基座102上的框架109上，在保持基板W的同时向X方向搬运基板W。

悬浮单元121如图22所示，具有：从搬入搬出以及精密框架105、106、107的上面向上方延伸的多个连结棒122分别安装于下面的，长条状的多个排气气垫123(参照图21)、124以及长条状的多个吸排气气垫125a、125b；从形成于各气垫123、124、125a、125b的多个排气孔126排出空气的空气排出系统130和空气排出用泵131；用于从形成于吸排气气垫125a、125b的吸气孔127吸引空气的空气吸引系统132和空气吸引用泵133。

另外，吸排气气垫125a、125b具有多个排气孔126和多个吸气孔127，平衡地调节在气垫125a、125b的支撑面134与基板W之间的空气压力，能够高精度地设定为规定的悬浮量，并能够以稳定的高度进行水平支撑。

基板驱动单元140如图21所示，具有：通过真空吸附保持基板W的保持部件141；将保持部件141沿X方向引导的线性导142；沿X方向驱动保持部件141的驱动电机143和滚珠螺杆装置144；多个防止工件撞击的滚轴145，其在Z方向上可移动并且旋转自如地安装在基板搬入侧区域IA的框架109的一侧以使得从框架109的上面突出，并支撑在等待向光罩保持机构170搬运的基板W的下面。

另外，基板搬运机构120具有：基板预校准机构150，其设置在基 板搬入侧区域IA，并对在基板搬入侧区域IA待命的基板W进行预校准；和对基板W进行校准的基板校准机构160。

光罩保持机构170如图21和图22所示，具有：上述的多个光罩保持部171；和多个光罩驱动部172，其设置在每个光罩保持部171，驱动光罩保持部171向X、Y、Z、θ方向，即，规定方向、交叉方向、相对于规定方向和交叉方向的水平面的垂直方向、以及、围绕该水平面的法线移动。

沿Y方向交错配置为两列的多个光罩保持部171，由配置在上游侧的多个上游侧光罩保持部171a(本实施方式中为6个)和配置在下游侧的多个下游侧光罩保持部171b(本实施方式中为6个)构成，在装置基座2的Y方向两侧纵置的柱部112(参照图20)之间，经由光罩驱动部172分别支撑在上游侧和下游侧各架设有2根的主框架113处。各光罩保持部171具有在Z方向贯通的开口177，并且在其周边部下面真空吸附有光罩M。

光罩驱动部172具有：安装于主框架113并沿X方向移动的X方向驱动部173；安装于X方向驱动部173的前端并向Z方向驱动的Z方向驱动部174；安装于Z方向驱动部174并向Y方向驱动的Y方向驱动部175；和安装于Y方向驱动部175并向θ方向驱动的θ方向驱动部176，在θ方向驱动部176的前端安装有光罩保持部171。

多个照射部180如图24和图25所示，具有：在筐体181内具有与第一实施方式同样构成的光照射装置80A、积分透镜74、光学控制部76、凹面镜77、以及曝光控制用挡板78，并且，具有配置在光源部73A与曝光控制用挡板78之间，以及积分透镜74与凹面镜77之间的平面镜280、281、和282。此外，在凹面镜77或者作为折叠式反射镜的平面镜282上，也可以设置能够手动或者自动改变镜曲率的偏角补偿装置。

光照射装置80A分别包含超高压水银灯71和反射镜72，例如，具有直线状地排列有3个闸盒81A的框架82A，该闸盒81A包含4段2列的8个光源部73。与第一实施方式相同，在闸盒81A，通过将灯压紧外罩84安装于支撑8个光源部73的光源支撑部83上，定位光源部73以使得从8个光源部73的光所照射的各照射面，到8个光源部73的光所射入的积分透镜74的入射面为止的各光轴L的距离为大致一定。此外，如图25所示，通过在框架82A的多个闸盒安装部90上安装各闸盒81A，定位各闸盒81A，以使得从全部的光源部73的光所照射的各照射面，到该光源部73的光所射入的积分透镜74的入射面为止的各光轴L的距离为大致一定。此外，来自各光源部73的配线的处理和框架内的冷却结构，构成与第一实施方式相同，而且灯71的点亮控制方法也与第一实施方式相同。

多个遮光装置190如图22所示，具有改变倾斜角度的一对板状遮帘部件208、209，通过遮帘驱动单元192改变一对遮帘部件208、209的倾斜角度。由此，在光罩保持部171所保持的光罩M的附近，遮挡从照射部180射出的曝光用光L，并且能够改变在遮挡曝光用光L的规定方向的遮光宽度，即，从Z方向看到的投影面积。

再者，通过向Y方向驱动保持光罩M的一对光罩托架部(未图示)，将用于更换保持在上游侧和下游侧的光罩保持部171a、171b上的光罩M的光罩转换器220，设置在接近式扫描曝光装置101上，并且更换光罩之前，一边压紧相对于光罩托架部悬浮支撑的光罩M，一边设置通过将定位销(未图示)抵靠于光罩M进行预校准的光罩预校准装置240。

进而，如图22所示，在接近式扫描曝光装置101配置有：激光位移计260、光罩校准用相机(未图示)、追踪用相机(未图示)、追踪用照明273等各种检测装置。

其次，使用按如上所述来构成的接近式扫描曝光装置101，对基板W的光刻进行说明。再者，本实施方式中，对于描画了基础图案(例如，黑矩阵)的彩色滤光器基板W，关于描画R(红)、G(绿)、B(蓝)的任意图案的情况进行说明。

接近式扫描曝光装置101通过未图示出的加载器等，使被搬运到基板搬入区域IA的基板W利用来自排气气垫123的空气来悬浮并被支撑，执行基板W的预校准操作、校准操作之后，将用基板驱动单元140的保持部件141卡住的基板W搬运到光罩配置区域EA。

其后，基板W通过驱动基板驱动单元140的驱动电机143沿导轨142向X方向移动。并且，使基板W移动到设于光罩配置区域EA的排气气垫124和吸排气气垫125a、125b上，在尽可能排除了震动的状态下使其悬浮支撑。此外，从照射部180内的光源射出曝光用光L的话，则相关的曝光用光L穿过保持于光罩保持部171的光罩M，将图案光刻到基板W。

并且，由于该曝光装置101具有追随用相机(未图示)和激光位移计260，在曝光动作中，检测光罩M和基板W的相对位置偏移，根据检测到的相对位置偏移，驱动光罩驱动部172，使光罩M的位置即时地追随基板W。同时，检测光罩M与基板W的间隙，根据检测到的间隙驱动光罩驱动部172，即时地对光罩M和基板W的间隙进行修正。

以上，同样地，通过连续曝光，能够对基板W整体进行图案的曝光。保持于光罩保持部171的光罩M，由于呈交错地配置，因此即使保持于上游侧或下游侧的光罩保持部171a、171b的光罩M间隔排列，也能够在基板W上形成没有间隙的图案。

此外，从基板W运出多个面板的情况，在对应于相邻的面板之间的区域，形成不照射曝光用光的非曝光区域。因此，曝光动作中，开 启和关闭一对遮帘部件208、209，与基板W的进给速度一致向与基板W的进给方向相同的方向移动遮帘部件208、209，以使得遮帘部件208、209位于非曝光区域。

因此，如本实施方式的接近式扫描曝光装置中，更换光源部73时要对每个闸盒81进行更换。在各闸盒81，规定数量的光源部73被事先定位，并且，将来自各光源部73的配线97连接于连接器98。由此，通过将需要更换的闸盒81A嵌接于框架82A的闸盒用凹部90b并安装在框架82上，完成闸盒81内的光源部73的校准。并且，通过将其他的配线99连接到连接器98，可以完成配线的操作，所以能够简单地进行光源部73的更换操作。

此外，本发明并不局限于上述的实施方式，可以进行适当的变形、改良等。

例如，本实施方式的灯压紧外罩84设置为凹状的箱形，但是并不局限于此，只要是通过抵靠部能够将光源部定位固定的就可以，例如，网眼形状也可以。并且，在将各光源部73嵌接在光源支撑部83并且固定时，可以构成为不设置灯压紧外罩84。并且，框架外罩92的形状也对应于照明光学系统70的配置，可以任意设计。

此外，配置于闸盒81的光源部73设置为8个以上，配置在框架82的全部光源部为8个～约800个。达到800个的程度的话，实用性和效率更好。进而，优选：安装在框架82的闸盒81的数量为光源部73整体数量的4％以下，此时，配置在1个闸盒81的光源部73的数量为4％以上。

另外，例如，在上述实施方式，作为曝光装置对分区逐次接近式曝光装置和扫描接近式曝光装置进行了说明，但是本发明并不局限于此，也可以使用于镜像投影式曝光装置、透镜投影式曝光装置、粘合 式曝光装置。并且，本发明也可以适用于汇总式、逐次式、扫描式等的任意一种曝光方法。

Claims (12)

1.一种用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，具备：

多个光源部，该多个光源部分别包含发光部和反射光学系统，该反射光学系统使从该发光部发出的光具有指向性并射出；

多个闸盒，在该多个闸盒中，可分别安装规定数量的所述光源部；

框架，在该框架中，可安装该多个闸盒；以及

控制部，该控制部控制所述多个光源部的点亮或熄灭，

所述控制部控制所述各闸盒内的所述规定数量的光源部以点对称的方式点亮。

2.根据权利要求1所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

所述控制部通过控制所述多个闸盒的所述规定数量的光源部以相同的点亮模式点对称地同时点亮，以使得所述全部的光源部点对称地点亮。

3.根据权利要求1或2所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

所述控制部具备多个点亮模式组，在该多个点亮模式组中，所述闸盒内的规定数量的光源部之中点亮的光源部的数量不相同，并且，该各点亮模式组分别具有所述光源部以点对称方式点亮的多个点亮模式。

4.根据权利要求3所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

还具备对所述各光源部的点亮时间进行计时的计时器，

所述控制部按照期望的照度，选择所述多个点亮模式组中的任一个，并且，在所选择的点亮模式组之中，根据所述光源部的点亮时间选择所述点亮模式。

5.根据权利要求3所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

还具备对所述各光源部的点亮时间进行计时的计时器，

所述控制部根据所述各光源部的点亮时间以及点亮时所提供的电压或电力，来计算所述多个光源部的剩余寿命，

所述控制部按照期望的照度，选择所述多个点亮模式组中的任一个，并且，在所选择的点亮模式组之中，根据所述光源部的剩余寿命选择所述点亮模式。

6.根据权利要求4所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

所述期望的照度与通过所述多个点亮模式组所得到的照度不同时，选择能够得到与所述期望的照度接近的照度的点亮模式组，并且调整提供给所述点亮的光源部的电压或电力。

7.根据权利要求1所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

所述闸盒具有支撑所述规定数量的光源部的光源支撑部，

所述光源支撑部被形成为：从所述规定数量的光源部的光所照射的各照射面至所述规定数量的光源部的光所射入的积分透镜的入射面为止的各光轴的距离为大致一定。

8.根据权利要求7所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

所述框架具有分别安装所述多个闸盒的多个闸盒安装部，

所述多个闸盒安装部被形成为：从所述全部光源部的光所照射的各照射面至所述全部光源部的光所射入的积分透镜的入射面为止的各光轴的距离为大致一定。

9.根据权利要求8所述的用于曝光装置的光照射装置，其特征在于，

所述多个闸盒安装部分别具备所述闸盒的光源支撑部所面对的开口部以及与形成于该光源支撑部的周围的平面部相抵靠的平面，

排列于规定方向的所述多个闸盒安装部的各平面以规定的角度交叉。

10.一种曝光装置，其特征在于，具备：

基板保持部，该基板保持部保持作为被曝光材料的基板；

光罩保持部，该光罩保持部将光罩保持为与所述基板相对；以及

照明光学系统，该照明光学系统具有权利要求1所述的光照射装置和从该光照射装置的多个光源部射出的光所射入的积分透镜，

并且，该曝光装置将来自所述照明光学系统的光经由所述光罩照射到所述基板上。

11.一种基板，其特征在于，被使用权利要求10所述的曝光装置进行曝光。

12.一种用于曝光装置的光照射装置的点亮控制方法，所述用于曝光装置的光照射装置具备：

多个光源部，该多个光源部分别包含发光部和反射光学系统，该反射光学系统使从该发光部发出的光具有指向性并射出；

多个闸盒，在该多个闸盒中，可分别安装规定数量的所述光源部；

框架，在该框架中，可安装该多个闸盒；以及

控制部，该控制部控制所述多个光源部的点亮或熄灭，

该点亮控制方法的特征在于，所述控制部控制所述各闸盒内的所述规定数量的光源部以点对称的方式点亮。

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