CN101876866A - 一种具有触摸屏的有机发光器件的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，直接将触摸屏本体直接安装到显示器件的OLED封装盖板上，然后将带有触摸屏的盖板与制作好OLED本体的OLED玻璃基板对位贴合，使带有触摸屏的盖板与基板粘合，进行密封。通过触摸屏和OLED封装盖板结合起来，使现有的带触摸屏的有机发光器件结构简化，省去了触摸屏基板、触摸屏盖板，并且简化了现有的工艺。
Description
技术领域
本发明属于有机发光器件领域，涉及一种具有触摸屏的有机发光器件的制备方法。
背景技术
电脑数码产品通常包括处理器、显示器和输入外设，随着时代的发展该产品越来越向轻、薄及便于携带的方向发展，将输入和输出整合在也是发展的潮流，从而带动了触摸屏显示器的发展。触摸屏技术有很多种，包括电阻式、电容式、红外式、光学式等。应用到的显示器可以是CRT、LCD、OLED、E-Paper等。其中，OLED可以是被动也可以是主动显示器件，被动OLED是在镀有导电膜的基板上面制作像素隔离层，然后沉积有机材料，有机材料上面再沉积导电薄膜，两个导电膜间通以电流，有机材料即可发光。主动OLED是在制作好TFT的基板上面沉积导电膜，导电膜的要求就是电阻率低，依据器件光的出射类型决定导电膜是否透光。
目前触摸屏显示器通常是显示器和触摸屏分开来做，然后再将二者结合起来。常规触摸显示屏通常要有四层结构，分别是OLED基板、OLED盖板、触摸屏基板、触摸屏盖板；OLED基板与OLED盖板之间是OLED本体，触摸屏基板与触摸屏盖板之间是触摸屏本体。这样就导致触摸屏显示器总体厚度较厚，不符合轻、薄的要求，更重要的是随着器件厚度的增加，光的损耗随之增大。
发明内容
本发明解决的技术问题在于提供一种具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，通过将触摸屏和OLED封装盖板结合起来，并使其结构简化，降低成本。
本发明是通过以下技术方案来实现：
一种具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，包括以下步骤：
1)在清洗干净的ITO玻璃基板上面溅射形成具有反射功能的金属电极层，在金属电极层上刻蚀形成阳极图案后，在阳极图案之上制作隔开功能层的像素绝缘层，之后形成阳极图案的金属电极层上沉积有机功能层，再在有机功能层上面沉积透明的阴极电极而构成OLED本体，将OLED导线与金属电极层连接，并伸出ITO玻璃基板上的密封区域；然后通过低温溅射的方法在OLED本体上沉积一层无机薄膜密封层；
2)在作为OLED封装盖板的玻璃板上依次沉积触摸屏的平坦化层、绝缘层和电极层，完成触摸屏本体的制备，然后用触摸屏引线与电极层线路连接，并伸出OLED封装盖板的密封区域；再通过低温溅射的方法在触摸屏本体上沉积一层无机薄膜密封层；
3)在OLED本体制作完成的ITO玻璃基板显示区域四周的密封区域涂覆紫外密封胶，紫外密封胶干燥后形成一个环状的密封结构，然后在环状的密封结构内部填充有机密封剂，待其干燥固化后，将ITO玻璃基板和触摸屏本体制作完成的OLED封装盖板对位，紫外线照射下硬化涂覆的紫外密封胶，使ITO玻璃基板与OLED封装盖板密封粘合。
所述的有机功能层依次为空穴注入层、空穴传输层、色素的发光层、电子传输层和电子注入层。
所述的沉积的无机薄膜密封层为Al2O3，SiO2或SiN中的一种，厚度为100～200nm。
所述的有机密封剂为聚对二甲苯或聚脲。
所述的步骤1)～3)均在真空环境下进行。
与现有技术相比，本发明具有以下有益的技术效果：
本发明减少了原有触摸显示屏的触摸屏基板和触摸屏盖板，直接将触摸屏本体直接安装到显示器件的OLED封装盖板上，然后将带有触摸屏的盖板与制作好OLED本体的OLED玻璃基板对位贴合，使带有触摸屏的盖板与基板粘合，进行密封。
利用这样的方法制备的具有触摸屏的有机发光器件，降低了整个器件的厚度，简化了目前触摸屏显示器通常是显示器和触摸屏分开来做，然后再将二者结合起来的工艺流程；将触摸屏直接整合安装到OLED封装盖板上，使得器件的结构简化，且保留原有器件的功能。而且由于减少了器件的组成，使得光的外部耦合效率得以提升。
附图说明
图1为本发明的制作工艺流程图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步详细描述，所述是对本发明的解释而不是限定。本发明提供一种具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，通过触摸屏和OLED封装盖板结合起来，使现有的带触摸屏的有机发光器件结构简化，省去了触摸屏基板、触摸屏盖板，并且简化了现有的工艺；而OLED器件和触摸屏的制作工艺可以按照现有的制备方法来完成。
OLED显示器件可以是PMOLED也可以是AMOLED，优先考虑顶发光。如果是PMOLED，可以沉积两层结构的导电层；如果是AMOLED要在基板上面制作TFT驱动线路，然后再沉积两层结构的导电层。PMOLED是在镀有导电膜的基板上面制作像素隔离层，然后沉积有机功能层，有机功能层上面再沉积阴极导电薄膜，两个导电膜间通以电流，有机功能层即可发光。AMOLED是在制作好TFT的基板上面沉积导电膜，导电膜的要求就是电阻率低，依据器件的出光方式来选择导电膜是否透明。OLED器件的基板可以是带有TFT或者没有TFT的玻璃或其它柔性塑料片。而触摸屏可以采用电容式、电阻式、红外式、光学式等任一种技术。触摸屏的制作工艺可参考其它专利或文献中公开的制作方法。
下面结合图1所示的工艺流程图，以制备顶发光的OLED显示器件结合电容式的触摸屏来说明，具体包括以下步骤：
1)在清洗干净的ITO玻璃基板上面溅射形成具有反射功能的金属电极层，在金属电极层上刻蚀形成阳极图案后，在阳极图案之上制作隔开功能层的像素绝缘层，之后形成阳极图案的金属电极层上沉积有机功能层，所述的有机功能层依次为空穴注入层、空穴传输层、色素的发光层、电子传输层和电子注入层；再在有机功能层上面沉积透明的阴极电极而构成OLED本体，将OLED导线与金属电极层连接，并伸出ITO玻璃基板上的密封区域；然后通过低温溅射的方法在OLED本体上沉积一层无机薄膜密封层；
2)在作为OLED封装盖板的玻璃板上依次沉积触摸屏的平坦化层、绝缘层和电极层，完成触摸屏本体的制备，然后用触摸屏引线与电极层线路连接，并伸出OLED封装盖板的密封区域；再通过低温溅射的方法在触摸屏本体上沉积一层无机薄膜密封层；
通过两层无机薄膜密封层将OLED本体、触摸屏本体和以后填充的有机密封剂隔开；所述的无机薄膜密封层为Al2O3，SiO2或SiN中的一种，厚度为100～200nm；而OLED导线、触摸屏引线伸出密封区域后分别与驱动连接。
3)在OLED本体制作完成的ITO玻璃基板显示区域四周的密封区域涂覆紫外密封胶，紫外密封胶干燥后形成一个环状的密封结构，然后在环状的密封结构内部填充有机密封剂，所述的有机密封剂为聚对二甲苯(Parylene)或聚脲(Polyurea)；待其干燥固化后，将ITO玻璃基板和触摸屏本体制作完成的OLED封装盖板对位，紫外线照射下硬化涂覆的紫外密封胶，使ITO玻璃基板与OLED封装盖板密封粘合。
以上的所有步骤均在真空环境下进行。封装完成后，使内部的敏感材料与外部的水氧隔绝，即可以从真空腔体内取出。
Claims (5)
1.一种具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)在清洗干净的ITO玻璃基板上面溅射形成具有反射功能的金属电极层，在金属电极层上刻蚀形成阳极图案后，在阳极图案之上制作隔开功能层的像素绝缘层，之后形成阳极图案的金属电极层上沉积有机功能层，再在有机功能层上面沉积透明的阴极电极而构成OLED本体，将OLED导线与金属电极层连接，并伸出ITO玻璃基板上的密封区域；然后通过低温溅射的方法在OLED本体上沉积一层无机薄膜密封层；
2)在作为OLED封装盖板的玻璃板上依次沉积触摸屏的平坦化层、绝缘层和电极层，完成触摸屏本体的制备，然后用触摸屏引线与电极层线路连接，并伸出OLED封装盖板的密封区域；再通过低温溅射的方法在触摸屏本体上沉积一层无机薄膜密封层；
3)在OLED本体制作完成的ITO玻璃基板显示区域四周的密封区域涂覆紫外密封胶，紫外密封胶干燥后形成一个环状的密封结构，然后在环状的密封结构内部填充有机密封剂，待其干燥固化后，将ITO玻璃基板和触摸屏本体制作完成的OLED封装盖板对位，紫外线照射下硬化涂覆的紫外密封胶，使ITO玻璃基板与OLED封装盖板密封粘合。
2.如权利要求1所述的具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，其特征在于，所述的有机功能层依次为空穴注入层、空穴传输层、色素的发光层、电子传输层和电子注入层。
3.如权利要求1所述的具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，其特征在于，所述的沉积的无机薄膜密封层为Al2O3，SiO2或SiN中的一种，厚度为100～200nm。
4.如权利要求1所述的具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，其特征在于，所述的有机密封剂为聚对二甲苯或聚脲。
5.如权利要求1所述的具有触摸屏的有机发光器件的制备方法，其特征在于，所述的步骤1)～3)均在真空环境下进行。
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