CN101791726A - 圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法 - Google Patents

圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101791726A
CN101791726A CN 201010152891 CN201010152891A CN101791726A CN 101791726 A CN101791726 A CN 101791726A CN 201010152891 CN201010152891 CN 201010152891 CN 201010152891 A CN201010152891 A CN 201010152891A CN 101791726 A CN101791726 A CN 101791726A
Authority
CN
China
Prior art keywords
processing
column
sleeve
shielding film
micro
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN 201010152891
Other languages
English (en)
Inventor
王莉
丁玉成
郝秀清
郭方亮
王权岱
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xian Jiaotong University
Original Assignee
Xian Jiaotong University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xian Jiaotong University filed Critical Xian Jiaotong University
Priority to CN 201010152891 priority Critical patent/CN101791726A/zh
Publication of CN101791726A publication Critical patent/CN101791726A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

本发明公开了一种圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法,属于电化学加工领域。该方法采用浸渍涂胶及滚动光刻的方式使曲面零件表面图形化,或者采用激光等加工平面柔性绝缘屏蔽薄膜,并将其固定于曲面零件表面的方法,然后将圆柱体零件作为阳极,套筒作为阴极进行微细电解加工,从而在曲面表面形成微细结构。这种方法解决了曲面零件外表面具有复杂精细微结构的制造难题,能加工大面积的曲面微结构,特别是具有复杂图形及小尺寸的微结构。采用本发明所加工的曲面微细结构具有加工面积大,加工精度高,可加工复杂小尺寸微细结构的优点,且操作简单,效率高,加工成本低。

Description

圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法
技术领域
本发明中的圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法,属于电化学加工领域。
背景技术
随着科学技术的发展,解决能源日益紧张的问题成为各国工作者的研究热点,减小摩擦提高能源效率始终是摩擦学工作者追求的目标。传统摩擦学研究认为,相互接触的两个表面越光滑摩擦系数和磨损量越小。而近年来的研究表明,表面并非越光滑就越耐磨,而是具有一定非光滑形态,即表面织构的表面具有更好的耐磨性能。所谓表面织构,是指在摩擦副表面通过一定的加工技术加工出具有一定尺寸和排列的凹坑、沟槽或凸包等微结构图案的阵列。
摩擦副表面微结构的制造已引起国内外研究人员的普遍关注,曲面摩擦副(如轴/轴承,活塞环/缸体之间的摩擦副)作为摩擦副的一种,其表面微细结构的加工比平面微细结构的加工要更加困难。目前金属表面微结构的加工方法主要包括激光加工、LIGA/准LIAG技术、超精密机械加工技术以及特种加工技术等,但能用于曲面微结构的加工方式比较少,比较代表性的有:机床自激振动加工技术、激光珩磨技术、振动冲击加工方法、超声加工及陶瓷球喷射技术等,但这几种方法都存在表面质量不高,加工工艺繁琐,制造成本过高等问题。
微细电解加工是基于金属电化学溶解的原理,加工过程是以离子形式进行的,因而从原理上讲可以实现微纳米级的加工精度。其主要优点包括:加工工件表面不存在热变形、内应力和微裂纹等缺陷;可实现批量加工,成本低;与材料硬度无关等。由于原理上的优势,微细电解加工技术在微纳米制造领域有着巨大的发展潜力,目前已在微纳米制造技术群中占据重要位置。本专利正是基于微细电解加工的原理,提出一种大面积、高效率、低成本、高质量的曲面微结构加工方案。
发明内容
本发明的目的是针对现有圆柱件外曲面微细结构加工的不足,提供一种操作简单、高效率、低成本、大面积的微细结构加工方法。
一种圆柱件外曲面有掩膜微结构的电解加工方法,(1)制作绝缘屏蔽膜:采用两种方式:平面加工和曲面加工,平面加工绝缘屏蔽膜要求制得的绝缘屏蔽膜必须是柔性绝缘薄膜,其表面微结构的制作通过刻蚀、激光加工方法,将平面加工柔性屏蔽膜固定于圆柱件外表面,制得附着在圆柱件上的绝缘屏蔽膜;曲面加工屏蔽膜通过浸渍涂胶及滚动光刻相结合的方法在圆柱件外表面制作微结构图形,制得绝缘屏蔽膜;
(2)用夹持装置固定圆柱件与套筒,控制它们之间的间隙,间隙的大小可为微米到分米级;
(3)用恒流泵控制电解液流动,使电解液充满圆柱件与套筒之间的间隙,并能够均匀地流动于圆柱件与套筒之间的间隙;
(4)将圆柱件作为电解阳极,套筒作为电解阴极,分别与电源正负极连接,通电实施电解;
(5)电解结束时,先断电,然后停止电解液的流动,从套筒中退出圆柱件,并从夹持装置上卸下;
(6)去除绝缘屏蔽膜,完成加工。
在圆柱件表面形成的绝缘屏蔽膜微结构的截面形状为方形、圆形、菱形,尺寸大小可从微米级到毫米级。
圆柱件与套筒对电极的固定采用端面定位与同轴控制相结合的方式。
在套筒外部上面加工四个周向均布的出液孔同时出液,下面加工四个周向均布的进液孔同时进液,进液孔与出液孔在周向相差45°。
采用平面柔性绝缘屏蔽膜或浸渍涂胶及滚动光刻相结合的方法,在圆柱体表面制作具有微细结构图形的绝缘屏蔽膜,利用微细电解加工的方式,最终能在圆柱件表面形成精确的微细结构。
可见,本发明的特点是:
Figure 27013DEST_PATH_IMAGE001
本发明采用浸渍涂胶及滚动光刻相结合的方式,使圆柱件表面图形化,或者采用平面加工柔性绝缘屏蔽薄膜,并将其固定于圆柱件表面。这种方法解决了曲面零件外表面具有复杂精细微结构的电解屏蔽膜的制造难题,能形成大面积的曲面微结构,特别是具有复杂图形及小尺寸的微结构。
Figure 107708DEST_PATH_IMAGE002
屏蔽膜微结构的特点在于截面形状可为方形、圆形、菱形等任意形状,尺寸为微米级到毫米级。
Figure 859764DEST_PATH_IMAGE003
圆柱件与套筒对电极同轴度要求高,控制在5微米以内,以形成均匀稳定的电场,有利于提高加工精度与微结构的一致性,但对间隙大小要求不严格,可为微米级到分米级。
Figure 869177DEST_PATH_IMAGE004
圆柱件与套筒对电极的固定采用端面定位与同轴控制相结合的方式。⑤电解液的流动采用恒流泵驱动的方式,为了使间隙内电解液流动均匀,在套筒外部上面加工四个周向均布的工艺孔同时进液,下面加工四个周向均布的工艺孔同时出液,进液孔与出液孔在周向相差45°。
Figure 73893DEST_PATH_IMAGE005
利用本发明所加工的曲面微细结构具有加工面积大,加工精度高,可加工复杂小尺寸微细结构的优点,且操作简单,效率高,加工成本低。
附图说明
图1是平面柔性绝缘屏蔽膜表面微结构主视图;
图2是通过浸渍涂胶与滚动光刻相结合的方法制作电解绝缘屏蔽膜示意图;
图3是显影和固定柔性绝缘屏蔽膜后圆柱件表面附着电解绝缘屏蔽膜结构示意图;
图4是采用圆柱对电极实施电解的结构剖视图。
图1—4中标号名称:1、掩模板,2、采用浸渍光刻后的圆柱件(电解阳极),3、显影后的电解屏蔽膜(即未曝光区域),4、曝光区域,5、圆柱件夹持装置,6、出液孔-45度方向均布4个,7、电解阴极(套筒),8、套筒底部定位密封装置,9、进液孔-90度方向均布4个,10、套筒顶部密封装置,11、电解液,12、进给装置。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步详细说明。
参照图1所示,在圆柱件表面形成的绝缘屏蔽膜微结构的截面形状可为方形、圆形、菱形等任意形状,尺寸大小可从微米级到毫米级。
参照图2所示,通过采用浸渍涂胶与滚动光刻相结合的方法制作绝缘屏蔽膜,对涂有光刻胶的圆柱件2通过紫外光曝光复制掩模板1上的微结构图形,即曝光区域4,显影后剩下未曝光区域3,此方法使得绝缘屏蔽膜与圆柱件紧密贴合,有利于电解加工。
参照图3所示,通过采用浸渍涂胶与滚动光刻相结合的方法制作绝缘屏蔽膜3,或者将平面加工柔性绝缘屏蔽膜3固定于圆柱件外曲面,加工精度高,且能加工大面积的微机构。
参照图4所示,电解加工时,通过密封装置8和10进行密封,通过进给装置11控制圆柱件的位置,关键在于严格控制圆柱件2与套筒7的同轴度与间隙大小,以圆柱件2为电解阳极,套筒7为阴极分别与电源正负极连接通电实施电解,以实现微结构的稳定均匀加工。
轴颈及活塞等表面的微小凹槽能够起到磨损颗粒吸收、蓄油等作用,从而能够减小摩擦磨损。一种圆柱件外曲面微结构的制造方法,即在轴颈曲面上制造出微结构阵列,在电解加工过程中,仅采用一次电解成形即可在轴颈曲面表面得到所需的微结构。结合图1-4,具体的加工实施过程依次经过以下步骤:
(1)、制作绝缘屏蔽膜。屏蔽膜的制作通过平面加工和曲面加工两种方式。平面加工的屏蔽膜是柔性绝缘薄膜,其表面微结构的制作通过激光加工的方法加工,得到图1所示结构。曲面加工屏蔽膜通过浸渍光刻的方法,通过采用浸入式涂胶,进而采用滚动光刻在轴颈外表面制作微结构图形(3);
(2)、将平面柔性屏蔽膜固定于轴颈外表面,若采用浸渍光刻方法,则无此步骤;
(3)、采用电解加工结构中的进给装置(11)使圆柱件(2)与工作台平面接触,用夹持装置(5)固定圆柱件与套筒(7),控制它们之间的间隙,间隙的大小可为微米到分米级;
(4)、用恒流泵控制电解液流动,使电解液充满轴颈与套筒之间的间隙,并能够均匀地流动于轴颈与套筒之间的间隙;
(5)、将圆柱件作为电解阳极,套筒作为阴极,分别与电源正负极连接,控制时间通电实施电解;
(6)、电解结束时,先断电,然后停止电解液的流动,从套筒中退出圆柱件,并从夹持装置上卸下;
(7)、若采用的是平面柔性屏蔽膜,将屏蔽膜取下即可;若采用的是光刻胶屏蔽膜,则将轴颈浸入相应的溶剂即可去除,完成加工。

Claims (4)

1.一种圆柱件外曲面有掩膜微结构的电解加工方法,其特征在于,包括下列步骤:
(1)制作绝缘屏蔽膜:采用两种方式:平面加工和曲面加工,平面加工绝缘屏蔽膜要求制得的绝缘屏蔽膜必须是柔性绝缘薄膜,其表面微结构的制作通过刻蚀、激光加工方法,将平面加工柔性屏蔽膜固定于圆柱件外表面,制得附着在圆柱件上的绝缘屏蔽膜;曲面加工屏蔽膜通过浸渍涂胶及滚动光刻相结合的方法在圆柱件外表面制作微结构图形,制得绝缘屏蔽膜;
(2)用夹持装置固定圆柱件与套筒,控制它们之间的间隙,间隙的大小可为微米到分米级;
(3)用恒流泵控制电解液流动,使电解液充满圆柱件与套筒之间的间隙,并能够均匀地流动于圆柱件与套筒之间的间隙;
(4)将圆柱件作为电解阳极,套筒作为电解阴极,分别与电源正负极连接,通电实施电解;
(5)电解结束时,先断电,然后停止电解液的流动,从套筒中退出圆柱件,并从夹持装置上卸下;
(6)去除绝缘屏蔽膜,完成加工。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:在圆柱件表面形成的绝缘屏蔽膜微结构的截面形状为方形、圆形、菱形,尺寸大小可从微米级到毫米级。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:圆柱件与套筒对电极的固定采用端面定位与同轴控制相结合的方式。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:在套筒外部上面加工四个周向均布的出液孔同时出液,下面加工四个周向均布的进液孔同时进液,进液孔与出液孔在周向相差45°。
CN 201010152891 2010-04-22 2010-04-22 圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法 Pending CN101791726A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201010152891 CN101791726A (zh) 2010-04-22 2010-04-22 圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201010152891 CN101791726A (zh) 2010-04-22 2010-04-22 圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101791726A true CN101791726A (zh) 2010-08-04

Family

ID=42584760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201010152891 Pending CN101791726A (zh) 2010-04-22 2010-04-22 圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101791726A (zh)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103706899A (zh) * 2013-12-12 2014-04-09 西安理工大学 用于微细电解加工的线电极阵列结构制备方法
CN103769700A (zh) * 2014-01-14 2014-05-07 南通大学 高电位惰性金属模板表面织构电解加工方法
CN104526093A (zh) * 2014-08-22 2015-04-22 华侨大学 一种表面织构微细电解加工用阴极的制作方法
CN105598537A (zh) * 2016-01-07 2016-05-25 大连理工大学 一种电液束工艺加工具有高粘附微图案超疏水表面的方法
CN106378500A (zh) * 2016-10-08 2017-02-08 大连理工大学 一种可调楔形间隙掩膜电解加工微流道装置
CN107557852A (zh) * 2017-09-26 2018-01-09 西北农林科技大学 一种高分子材料机械密封端面表面织构的加工方法
CN107585736A (zh) * 2017-08-28 2018-01-16 宁夏软件工程院有限公司 一种曲面疏水微结构的制备方法
CN107598315A (zh) * 2017-09-05 2018-01-19 河南理工大学 一种用于圆柱面掩膜电解加工的装置
CN108436205A (zh) * 2018-03-07 2018-08-24 大连海事大学 一种电解加工气缸套表面微织构的装置及方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1958206A (zh) * 2006-10-10 2007-05-09 南京航空航天大学 蜂窝状微坑结构电解加工方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1958206A (zh) * 2006-10-10 2007-05-09 南京航空航天大学 蜂窝状微坑结构电解加工方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
《中国矿业大学学报》 20091130 刘一静 等 表面织构对发动机活塞/缸套摩擦性能的影响 第866-871页 第38卷, 第6期 *
《机械科学与技术》 20091231 袁明超 等 利用表面织构提高活塞环/缸套摩擦性能的实验研究 第1630-1638页 第28卷, 第12期 *
《蜂窝状微坑结构的电化学加工研究》 20070430 王光强 等 蜂窝状微坑结构的电化学加工研究 第32-34页 , 第2期 *

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103706899B (zh) * 2013-12-12 2016-01-20 西安理工大学 用于微细电解加工的线电极阵列结构制备方法
CN103706899A (zh) * 2013-12-12 2014-04-09 西安理工大学 用于微细电解加工的线电极阵列结构制备方法
CN103769700A (zh) * 2014-01-14 2014-05-07 南通大学 高电位惰性金属模板表面织构电解加工方法
CN103769700B (zh) * 2014-01-14 2016-04-27 南通大学 高电位惰性金属模板表面织构电解加工方法
CN104526093B (zh) * 2014-08-22 2017-01-11 华侨大学 一种表面织构微细电解加工用阴极的制作方法
CN104526093A (zh) * 2014-08-22 2015-04-22 华侨大学 一种表面织构微细电解加工用阴极的制作方法
CN105598537B (zh) * 2016-01-07 2017-08-01 大连理工大学 一种电液束工艺加工具有高粘附微图案超疏水表面的方法
CN105598537A (zh) * 2016-01-07 2016-05-25 大连理工大学 一种电液束工艺加工具有高粘附微图案超疏水表面的方法
CN106378500A (zh) * 2016-10-08 2017-02-08 大连理工大学 一种可调楔形间隙掩膜电解加工微流道装置
CN106378500B (zh) * 2016-10-08 2018-01-16 大连理工大学 一种可调楔形间隙掩膜电解加工微流道装置
CN107585736A (zh) * 2017-08-28 2018-01-16 宁夏软件工程院有限公司 一种曲面疏水微结构的制备方法
CN107585736B (zh) * 2017-08-28 2022-07-12 宁夏软件工程院有限公司 一种曲面疏水微结构的制备方法
CN107598315A (zh) * 2017-09-05 2018-01-19 河南理工大学 一种用于圆柱面掩膜电解加工的装置
CN107557852A (zh) * 2017-09-26 2018-01-09 西北农林科技大学 一种高分子材料机械密封端面表面织构的加工方法
CN108436205A (zh) * 2018-03-07 2018-08-24 大连海事大学 一种电解加工气缸套表面微织构的装置及方法
CN108436205B (zh) * 2018-03-07 2019-09-17 大连海事大学 一种电解加工气缸套表面微织构的装置及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101791726A (zh) 圆柱件外曲面有掩膜微结构的加工方法
CN204397104U (zh) 孔板电极扫描式掩膜电解加工装置
CN106637359B (zh) 轮毂型电镀超薄金刚石切割砂轮的制造方法
US20210261405A1 (en) Preparation method of bionic adhesive material with tip-expanded microstructural array
Qu et al. Electrochemical micromachining of micro-dimple arrays on cylindrical inner surfaces using a dry-film photoresist
CN103042375B (zh) 一种金属基体或涂层表面制备规则微织构的加工方法
CN103317198B (zh) 金属材料表面超疏水微纳结构的一步制备方法
CN103706899B (zh) 用于微细电解加工的线电极阵列结构制备方法
CN106881507B (zh) 一种用于电解加工平面曲折群沟槽的装置及电解加工方法
CN103433579B (zh) 一种套筒类零件内表面微凸起的电解加工方法
CN102240984B (zh) 叶序排布磨料圆柱超硬磨料砂轮及其生产方法
CN104499023B (zh) 含盲孔零件的阳极氧化方法
CN102179579A (zh) 复杂凹凸型面旋印电解加工方法及系统
CN108723525B (zh) 一种用于内壁环槽的电解加工阴极
CN101804488A (zh) 套筒类零件内曲面无掩膜微结构的加工方法
CN104191053A (zh) 一种微细电解阴极活动模板的制备方法
CN106141339A (zh) 一种多电极微细电火花成形加工方法和装置
CN105803493A (zh) 复杂薄壁型面制造的微幅运动镂空阳极电铸系统及方法
CN107999908B (zh) 一种微坑阵列的制作方法
CN205085510U (zh) 一种盘型扫描电极掩膜微电解放电加工系统
CN105127526A (zh) 一种盘型扫描电极掩膜微电解放电加工系统及加工方法
CN102671730A (zh) 一种集成镍柱微阵列的聚合物微流控芯片及其制备方法
Jiang et al. Improvement of thickness deposition uniformity in nickel electroforming for micro mold inserts
CN209276624U (zh) 一种偏心镀膜夹具
CN112831810B (zh) 一种采用无掩模定域性电沉积方法制备微柱状结构的工艺

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20100804