CN101750639B - 光学镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、待镀元件承载架及镀膜源，所述待镀元件承载架及镀膜源设置于所述真空镀膜室内。所述光学镀膜装置还包括一镀膜挡板，所述镀膜挡板设置于所述待镀元件承载架与所述镀膜源之间，且所述镀膜挡板靠近所述待镀元件承载架。所述镀膜挡板包括一第一挡板及一第二挡板，所述第一挡板可将所述真空镀膜室分隔成两个空间，所述第一挡板具有一通孔，所述通孔对应所述待镀元件承载架与镀膜源设置，以使所述镀膜源产生的镀膜材料气体通过所述通孔到达置于待镀元件承载架的待镀元件上，所述第二挡板可相对所述第一挡板移动并分别遮挡或暴露所述通孔。本发明所提供的光学镀膜装置可精确控制镀膜厚度，并提高镀膜品质。
Description
技术领域
本发明涉及光学镀膜领域，尤其涉及一种光学镀膜装置。
背景技术
随着光学产品的发展，光学镜片的应用范围越来越广。相应地，业界采用各种方法来制造光学镜片以适应市场对不同规格光学镜片的需求(请参阅“Fabrication of DiffractiveOpticai Lens for Beam splitting Using LIGA Process”，Jauh Jung Yang；Mechatronics and Automation，Proceedings of the 2006 IEEE InternationalConference on，pp.1242-1247，2006.06)。同时，为降低成本及提高效率，进行批量生产以满足对光学镜片的需求。通常来说，制造出的光学镜片需经过后续处理以获得适于应用的良好性能。
镀膜工序为后续处理中的重要步骤之一。镀膜是指以物理或化学方法在光学元件表面镀上单层或多层薄膜，利用入射、反射及透射光线在薄膜界面产生的干涉作用实现聚焦、准直、滤光、反射及折射等效果。光学元件的镀膜制程为：首先，将光学元件安装于待镀元件承载架上，待镀元件承载架设置于一镀膜腔室中；其次，密闭镀膜腔室并对其抽真空；然后，以蒸镀或溅镀等方法在光学元件需要镀膜的部位进行镀膜；最后，将经过镀膜的元件从待镀元件承载架拆卸下来。然而，在镀膜源与待镀元件承载架之间存在一定空间，即使蒸镀或溅镀源关闭，空间中仍会有残余镀膜材料或污染物镀附于基板上，影响膜厚精准性及洁净度。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可提高膜厚控制精准度，并降低杂质污染待镀元件的可能性、提高镀膜品质的光学镀膜装置。
一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、待镀元件承载架及镀膜源，所述待镀元件承载架及镀膜源设置于所述真空镀膜室内，所述光学镀膜装置还包括一镀膜挡板，所述镀膜挡板设置于所述待镀元件承载架与所述镀膜源之间，且所述镀膜挡板靠近所述待镀元件承载架，所述镀膜挡板包括一第一挡板及一第二挡板，所述第一挡板可将所述真空镀膜室分隔成两个空间，所述第一挡板具有一通孔，所述通孔对应所述待镀元件承载架与镀膜源设置，以使所述镀膜源产生的镀膜材料气体通过所述通孔到达置于待镀元件承载架的待镀元件上，所述第二挡板可相对所述第一挡板移动并分别遮挡或暴露所述通孔。
本发明所提供的光学镀膜装置，由于该镀膜挡板可将真空镀膜室分隔为两个空间且可利用镀膜挡板的开启及关闭控制镀膜材料是否进入待镀元件承载架所在空间，从而可精确控制镀膜厚度，并提高镀膜品质。
附图说明
图1是本发明第一实施例提供的光学镀膜装置的示意图。
图2是图1中光学镀膜装置的镀膜挡板在开启状态时的示意图。
图3是图1中光学镀膜装置的镀膜挡板在关闭状态时的示意图。
图4是本发明第二实施例提供的光学镀膜装置的镀膜挡板在开启状态时的示意图。
图5是图4中的镀膜挡板在关闭状态时的示意图。
具体实施方式
下面将结合附图，对本发明实施例作进一步的详细说明。
请参阅图1，本发明第一实施例提供了一种光学镀膜装置100。该光学镀膜装置100包括真空镀膜室10、待镀元件承载架20、镀膜源30及镀膜挡板40。所述待镀元件承载架20、镀膜源30及镀膜挡板40设置于真空镀膜室10内。所述光学镀膜装置100可以是蒸镀或溅镀装置，本实施例以蒸镀装置为例。
所述待镀元件承载架20通过一转动轴21安装在所述真空镀膜室10的顶部11，所述待镀元件承载架20与所述转动轴21固定连接，且所述待镀元件承载架20可绕所述转动轴21转动。本实施例中采用螺丝将所述待镀元件承载架20连接于所述转动轴21上。所述待镀元件承载架20上包括多块基板60，所述基板60载有待镀元件70。本实施例中，所述待镀元件承载架20为伞形。当然，所述待镀元件承载架20不限于这种形状，其也可以为平板状。
所述镀膜源30固定在所述真空镀膜室10的底部12。所述镀膜源30为一蒸镀源，其通常采用一坩埚31，将镀膜材料32装置于坩埚31中，再使用一电子枪33击打坩埚31中的镀膜材料32至其蒸发，从而向上冲击至待镀元件承载架20，在待镀元件70相应的表面上镀膜。
所述镀膜挡板40设置在所述待镀元件承载架20与镀膜源30之间，接近待镀元件承载架20而不接触到待镀元件承载架20，且远离所述镀膜源30而设置。本实施例中，所述镀膜挡板40位于所述待镀元件承载架20的正下方。
请一并参阅图2及图3，所述镀膜挡板40包括一第一挡板41及一第二挡板42。所述第一挡板41中央具有一通孔411。所述通孔411对应所述待镀元件承载架20与镀膜源30设置，以使所述镀膜源30产生的镀膜材料32蒸气通过所述通孔411到达置于待镀元件承载架30的待镀元件70上。所述第一挡板41固定于所述真空镀膜室10内壁13上。在本实施例中，所述真空镀膜室10内壁13上设置有环绕所述内壁13的凹槽14。本实施例是在所述内壁13上直接加工出一个凹槽。所述凹槽14的位置位于待镀元件承载架20与镀膜源30之间，且靠近待镀元件承载架10。本实施例中，所述真空镀膜室10为圆柱形，所述第一挡板41的形状与所述真空镀膜室10的横截面形状相同且略小于所述真空镀膜室10的横截面的直径。这样，所述第一挡板41即可固定于所述凹槽14中，且将所述真空镀膜室10分割为上下两个空间即第一空间15及第二空间16。
可以理解的是，所述第一挡板41可以采用其他方式固定，所述凹槽14也非必须。例如，可采用两个对称设置的支撑柱竖立在第一挡板41的下方将第一挡板41固定于真空镀膜室10中，支撑柱固定在真空镀膜室10的底部12上。这种情况下，所述真空镀膜室10的内壁13上即可不必设置凹槽14。
所述第二挡板42可活动地固定于所述第一挡板41上，且可通过一驱动件(图未示)来使所述第二挡板42分别遮住所述通孔411或使所述通孔411暴露出来。在本实施例中，所述第二挡板42通过一旋转轴421固定于所述第一挡板上，且所述第二挡板42可绕旋转轴421旋转一定角度。当所述第二挡板42向远离通孔411的方向旋转并使通孔411完全暴露出来时，所述镀膜挡板40即处于开启状态，这时，可以进行镀膜。当所述第二挡板42旋转至当所述第二挡板42遮挡住通孔411时，所述镀膜挡板40即处于关闭状态，这时，镀膜材料32便被挡在第二空间16内。
可以理解，所述镀膜挡板40的形状可根据实际需要而设置。所述镀膜挡板40的第一挡板41应选择与所述真空镀膜室10的横截面形状相配合的形状，以使第一挡板41可以完全将第一空间15与第二空间16分隔开。另外，所述通孔411的形状也可以根据实际需要而设置，例如，设置为方形或菱形等。在本实施例中，所述第二挡板42的大小应不小于通孔411的大小，以可以遮住通孔411为准。
所述光学镀膜装置可包括一遮盖50，所述遮盖50固定于镀膜源30正上方，镀膜时，所述遮盖50可关闭或开启以阻挡或使所述镀膜源30的镀膜材料32蒸发出来。所述遮盖50用于控制镀膜厚度，而本发明所提供的镀膜挡板40可辅助所述遮盖50，使镀膜结束后，关闭镀膜挡板40，即可将位于遮盖50上方而处于待镀元件承载架20下方的镀膜材料32阻隔在待镀元件承载架20之外，从而使镀膜厚度得到精确控制且避免其他污染物污染待镀元件。
请参阅图4及图5，本发明第二实施例提供的光学镀膜装置(图未示)与第一实施例提供的光学镀膜装置100的主要区别在于：第二实施例的光学镀膜装置所采用的镀膜挡板240与第一实施例中的镀膜挡板40结构不同，其主要区别在于：所述镀膜挡板240的第二挡板242由多个子挡板2421组成，所述多个子挡板2421形状相同。在本实施例中，所述多个子挡板2421为扇叶形。各个子挡板2421分别通过一旋转轴2422固定于第一挡板241上，且各个子挡板2421可绕旋转轴2422旋转一定角度。通过一驱动件(图未示)可以驱动所述子挡板2421旋转以使所述镀膜挡板240分别处于开启及关闭状态。当所述子挡板2421全部向远离通孔2411的方向旋转并使通孔2411完全暴露出来时，所述镀膜挡板240即处于开启状态，这时，可以进行镀膜。当所述子挡板2421旋转至遮挡住通孔2411时，所述镀膜挡板240即处于关闭状态，这时，镀膜材料被挡在镀膜挡板240下方而无法进入待镀元件承载架所在空间内。由此，即可防止镀膜材料污染待镀元件，从而可增加膜厚控制的精确度及洁净度，从而改善镀膜品质。
可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (7)
1.一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、待镀元件承载架及镀膜源，所述待镀元件承载架及镀膜源设置于所述真空镀膜室内，其特征在于，所述光学镀膜装置还包括一镀膜挡板，所述镀膜挡板设置于所述待镀元件承载架与所述镀膜源之间，所述镀膜挡板接近所述待镀元件承载架而远离所述镀膜源而设置，将所述真空镀膜室分隔成两个空间，所述镀膜挡板包括一第一挡板及一第二挡板，所述第一挡板具有一通孔，所述通孔对应所述待镀元件承载架与镀膜源设置，以使所述镀膜源产生的镀膜材料气体通过所述通孔到达置于待镀元件承载架的待镀元件上，所述第二挡板可相对所述第一挡板移动并分别遮挡或暴露所述通孔。
2.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，所述第二挡板可转动地固定于所述第一挡板上。
3.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，所述真空镀膜室具有一内壁，所述第一挡板固定于所述真空镀膜室的内壁上。
4.如权利要求3所述的光学镀膜装置，其特征在于，所述内壁上具有一凹槽，所述第一挡板固定于所述凹槽中。
5.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于，所述第二挡板包括多个子挡板，所述多个子挡板可相对所述第一挡板转动从而使所述通孔被遮挡或暴露。
6.如权利要求5所述的光学镀膜装置，其特征在于，所述多个子挡板分别通过一旋转轴固定于所述第一挡板上。
7.如权利要求5所述的光学镀膜装置，其特征在于，所述多个子挡板的形状为扇叶形。
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2743366Y (zh) * | 2004-09-22 | 2005-11-30 | 吉林大学 | 有定向及自控制功能的真空镀膜机 |
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Patent Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| CN2743366Y (zh) * | 2004-09-22 | 2005-11-30 | 吉林大学 | 有定向及自控制功能的真空镀膜机 |
| CN1718851A (zh) * | 2005-08-09 | 2006-01-11 | 华中科技大学 | 光学膜系制备的监控装置 |
| CN200992574Y (zh) * | 2006-12-29 | 2007-12-19 | 上海工程技术大学 | 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置 |
Non-Patent Citations (2)
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