CN101738778A - 半反半透液晶显示装置及其上基板的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种半反半透液晶显示装置其上基板的制造方法。本发明实施例的液晶显示装置的上基板色阻层侧上形成有色阻层开孔，下基板阵列侧形成有第一有机膜层和第二有机膜层突起以及第二有机膜层刻缝，在所述上基板和所述下基板结构和电场的共同作用下，夹在两基板间的液晶层可形成多畴结构。
Description
技术领域
本发明涉及一种半反半透液晶显示装置及其上基板的制造方法，特别涉及一种在现有工艺条件下降低制造成本的半反半透液晶显示装置及其上基板的制造方法。
背景技术
半反半透式液晶显示装置能够在外界光强比较大的情况下有效的利用环境光进行显示，提高了显示装置在强光下的可读性，同时也降低了背光能耗。在半反半透式显示器中，为了使入射光在反射区和透射区在液晶盒内的光程差保持一致，一般都需要制成双盒厚结构。垂直排列液晶模式(VA mode)作为一种利用液晶的双折射性进行显示的液晶模式，非常适合用于半反半透式显示模式中。对垂直取向的液晶而言，在无外加电场时，液晶盒内表面的起伏形状对液晶分子的排布状况起重要作用，并直接影响液晶响应特性和显示效果。例如形成双盒厚的有机膜层边缘等倾斜形貌，都是需要得以控制和在设计时加以考虑的方面。
图1是现有的半反半透式液晶显示装置的上基板结构的截面示意图。如图1所示，上基板包括不同颜色的色阻层102，色阻层开孔105，黑矩阵104，黑矩阵104和色阻层开孔105位于不同颜色的色阻层102的接合处。上基板还包括一层平坦化层(overcoat)101，所述平坦化层101的作用是消除色阻层102表面的断差结构，使上基板表面平坦，减少上基板表面断差对液品排向造成的影响。所述上基板还进一步包括突起(rib)103，所述突起103的作用是利用其表面的倾角结构为负性液晶分子提供预倾角。
制造所述上基板的方法，包括以下主要步骤：首先，形成黑矩阵膜，利用第一掩模板进行第一道光照，并刻蚀形成黑矩阵图案；第二，形成红色色阻层膜，利用第二掩模板进行第二道光照，并刻蚀形成红色色阻层图案；第三，形成绿色色阻层膜，利用第三掩模板进行第三道光照，并刻蚀形成绿色色阻层图案；第四，形成蓝色色阻层膜，利用第四掩模板进行第四道光照，并刻蚀形成蓝色色阻层图案；第五，形成平坦化层；第六，形成透明导电膜；第七，形成获得突起的有机膜层，利用第五掩模板进行第五道光照，并刻蚀形成突起。
如上所述，现有的半反半透式液晶显示装置的上基板的制造过程工序较多，需要的开模费和制造成本均较高，与普通的现实产品相比工艺难度与制造成本均大幅提升。
发明内容
为了克服现有技术的以上缺点，本发明公开了一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括：
上基板；
下基板，所述下基板包括：复数条相互平行的扫描线和复数条相互平行的数据线，所述扫描线和所述数据线彼此垂直并将下基板划分成复数个像素区域，每个所述像素区域包括反射区和透射区；以及
夹在所述上基板和下基板间的液晶层，所述液晶层中的液晶分子在未加电压时垂直所述上基板或下基板的表面排列；
其中，在所述上基板上形成有色阻层及色阻层开孔，所述色阻层开孔的边缘为缓坡形。
可选地，所述色阻层可以是红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层或以上的组合。
优选地，所述液晶层的液晶分子的各向介电各向异性为负。
优选地，所述反射区对应液晶层的厚度小于或等于所述透射区对应液晶层厚度的一半。
优选地，所述色阻层开孔位于所述反射区的中心位置，且所述色阻层开孔的面积小于所述反射区的面积。
可选地，所述色阻层开孔的形状可以是方形、圆形或多边形。
优选地，在所述反射区形成有第一有机膜层和第二有机膜层，所述反射区的第二有机膜层形成有突起，所述突起上形成有反射金属；所述第二有机膜层延伸至所述透射区，且位于所述透射区的第二有机膜层形成有刻缝，所述刻缝位于所述透射区的中心。
可选地，在所述反射区形成的第一有机膜的形状可以是方形、圆形或多边形。
优选地，所述延伸至透射区的第二有机膜层刻缝的面积小于所述透射区的面积。
可选地，所述位于透射区的第二有机膜层刻缝可以是方形、圆形或多边形。
本发明还包括一种制造液晶显示装置的上基板的方法，包括以下步骤：
首先，形成黑矩阵膜，利用第一掩模板进行第一道光照，并刻蚀形成黑矩阵图案；第二二，形成红色色阻层膜，利用第二掩模板进行第二道光照，并刻蚀形成红色色阻层图案；第三，形成绿色色阻层膜，利用第三掩模板进行第三道光照，并刻蚀形成绿色色阻层图案；第四，形成蓝色色阻层膜，利用第四掩模板进行第四道光照，并刻蚀形成蓝色色阻层图案；第五，形成透明导电膜层；其特征在于，在形成所述不同颜色色阻层的过程中，自然形成了色阻层开孔。
可选地，所述色阻层开孔位于不同颜色色阻层的接合处或位于任意颜色色阻层上，或位于以上组合上。
本发明还包括另一种制造液晶显示装置的上基板的方法，包括以下步骤：
首先，形成黑矩阵膜，利用第一掩模板进行第一道光照，并刻蚀形成黑矩阵图案；第二，形成红色色阻层膜，利用第二掩模板进行第二道光照，并刻蚀形成红色色阻层图案；第三，形成绿色色阻层膜，利用第三掩模板进行第三道光照，并刻蚀形成绿色色阻层图案；第四，形成蓝色色阻层膜，利用第四掩模板进行第四道光照，并刻蚀形成蓝色色阻层图案；第五，利用第五掩模板进行第五道光照，在所述色阻层上形成开孔；第六，形成透明导电膜层；
可选地，所述色阻层开孔位于不同颜色色阻层的接合处或任意颜色色阻层上，或位于以上组合上。
附图说明
图1是现有的半反半透式液晶晶显示装置的上基板结构的截面示意图。
图2a是根据本发明实施例的半反半透液晶显示装置的上基板的俯视图。
图2b是根据本发明实施例的半反半透液晶显示装置的下基板的俯视图。
图3是本发明半反半透液晶显示装置沿图2a和图2b中所示方向A和方向B的截面示意图。
图4所示为在透明导电膜上施加电压时液晶盒内的电场线分布示意图。
图5所示为在外加电场和上基板及下基板表面预倾的共同作用下液晶分子的转向情况的示意图。
具体实施方式
下面根据附图详细说明本发明的实施例。
图2a是根据本发明实施例的半反半透液晶显示装置的上基板的俯视图，图2b是根据本发明实施例的半反半透液晶显示装置的下基板的俯视图。如图2a和图2b所示，在所述上基板上形成有色阻层201和色阻层开孔203，所述色阻层开孔203的边缘是缓坡形，且所述色阻层开孔203对应于下基板的反射区205的中心位置形成，并且所述色阻层开孔203的面积小于反射区205的面积，本实施例优选的色阻层开孔203的形状为方形。
图3是本发明半反半透液晶显示装置沿图2a和图2b中所示方向A和方向B的截面示意图。如图3所示，所述上基板还形成有透明导电膜层202，且在所述色阻层201和色阻层开孔203的区域均形成有透明导电膜层202。
如图2b和图3所示，在所述下基板上形成有反射区205和透射区207，在所述反射区205形成有第一有机膜层208和第二有机膜层突起209。在所述透射区207形成有第二有机膜层210和第二有机膜层刻缝211。所述第二有机膜层突起209由第二有机膜层210延伸形成。且在第一有机膜层208和第二有机膜层210之间形成有下基板的透明导电膜212，在第二有机膜层突起209上形成有反射金属层213。在本实施例中，所述第一有机膜层208和第二有机膜层刻缝211的形状优选地为方形，且第二有机膜层刻缝211的面积优选地小于透射区207的面积。
一种制造本发明实施例的上基板的方法，包括以下步骤：首先，形成黑矩阵膜，利用第一掩模板进行第一道光照，并刻蚀形成黑矩阵图案；第二，形成红色色阻层膜，利用第二掩模板进行第二道光照，并刻蚀形成红色色阻层图案；第三，形成绿色色阻层膜，利用第三掩模板进行第三道光照，并刻蚀形成绿色色阻层图案；第四，形成蓝色色阻层膜，利用第四掩模板进行第四道光照，并刻蚀形成蓝色色阻层图案；第五，形成透明导电膜层；在形成所述不同颜色色阻层的过程中，自然形成色阻层开孔。
所述色阻层开孔位于不同颜色色阻层的接合处或任意颜色色阻层上，或位于以上组合上。
如上所述，形成本发明实施例的上基板的上述方法，只需要四块掩模板进行四道光照，比形成现有技术的上基板要简单，省去了平坦化层的形成，省去了获得突起的膜形成和光照，以及少了获得突起的一块掩模板，简化了工艺步骤并降低了成本。
另一种制造本发明实施例的上基板的方法，包括以下步骤：首先，形成黑矩阵膜，利用第一掩模板进行第一道光照，并刻蚀形成黑矩阵图案；第二，形成红色色阻层膜，利用第二掩模板进行第二道光照，并刻蚀形成红色色阻层图案；第三，形成绿色色阻层膜，利用第三掩模板进行第三道光照，并刻蚀形成绿色色阻层图案；第四，形成蓝色色阻层膜，利用第四掩模板进行第四道光照，并刻蚀形成蓝色色阻层图案；第五，利用第五掩模板进行第五道光照，在所述色阻层上形成开孔；第六，形成透明导电膜层。
所述色阻层开孔位于不同颜色色阻层的接合处或任意颜色色阻层上，或位于以上组合上。
如上所述，形成本发明实施例的上基板的上述方法，可以通过增加一块掩模板，省去平坦化层的形成，以及省去获得突起的膜形成和光照的工艺步骤。
本实施例中，下基板的主要工艺步骤为：首先是薄膜晶体管开关元件(未示出)的各层的形成和定义步骤，包括栅极层的沉积和光照，栅绝缘层的沉积，有源层的沉积和光照，源/漏极的沉积，以及利用掩模板对源/漏极进行光照以形成导电沟道。接下来是过孔的形成步骤，包括源/漏极绝缘层的沉积，第一有机膜层208的形成和光照以定义其图形形状，对源/漏极绝缘层和第一有机膜层208进行光照以形成过孔。接下来是下基板的透明导电膜层212和第二有机膜层210的形成。最后是反射金属层213以及取向膜(未示出)的形成。考虑到电场分布，第一有机膜层208和下基板的透明导电膜层212的形成顺序也可以颠倒。
所述第一有机膜层208具有特定的形状，如本实施例优选地采用方形，该第一有机膜层208的作用是定义反射区205，并且形成反射区205和透射区207的盒厚差；对应反射区205形成有第二有机膜层突起209，所述第二有机膜层突起209和反射金属层213使反射区205的入射光线发生漫反射；所述第二有机膜层刻缝211可以为透射区207的液晶分子提供预倾方向；在本实施例中，上基板和下基板与液晶层接触的表面还涂敷有表面取向膜，其作用是使液晶分子具有垂直基板的锚定方向。
下面具体说明本发明的半反半透液晶显示装置的运作方式。
当不施加外电场时，上基板色阻层201与色阻层开孔203之间的缓坡形可以为液晶分子提供第一方向的预倾，下基板第二有机膜层210的边缘倾斜部215可以为液晶分子提供第二方向的预倾。当在上基板的透明导电膜202和下基板的透明导电膜212上施加电压时，两个方向的预倾可以让液晶分子在电场作用下朝预定的方向倾斜，这样可以防止液晶分子因为杂乱无章的倾斜而减慢状态转换速度，从而提高了液晶分子的响应时间。同时多个方向的预倾能够使垂直排列的液晶分子在多个观察方向上的视觉特性获得补偿，提高了视角特性。
在黑态情况下，色阻层开孔203与第二有机膜层边缘倾斜部215处的液晶分子会被表面的取向膜(PI)锚定到一定角度，从而产生光程差；但该区域在设计上均位于反射区205，由于反射金属213的遮挡，背光源照射的光线不能进入人眼，故将不会产生漏光。
图4所示为在透明导电膜上施加电压时液晶盒内的电场线分布示意图。
图5所示为在外加电场和上基板及下基板表面预倾的共同作用下液晶分子的转向情况的示意图。图中虚直线所示为液晶分子分布的畴线，如图5所示，色阻层201和色阻层开孔203之间的倾斜可以为液晶分子提供第一方向的预倾，在该第一方向的预倾、第二有机膜层突起209以及电场的共同作用下，在色阻层开孔203的中心位置形成有畴线501。在第二有机膜层的边缘倾斜部215可以为液晶分子提供第二方向的预倾，在该第二方向的预倾、第二有机膜层刻缝211以及电场的共同作用下，在第二有机膜层刻缝211的中心位置形成有畴线503。以畴线501和畴线503为对称轴形成了稳定的多畴结构。
畴线是两个不同方向相对的倾斜区域的交界，是显示不良区域，其位置必须得到严格控制。由于液晶分子转向的特点，仅仅靠第二有机膜层突起209和电场的作用，畴线501的位置将得不到控制。同样，仅仅靠第二有机膜层边缘倾斜部215形成的第二方向的预倾和电场的作用，畴线503的位置也得不到控制。在本发明中通过控制色阻层开孔203和第二有机膜层刻缝211的位置和大小，可以有效控制畴线501和畴线503的位置，从而可以避免不良显示，提高显示装置的显示品质。
在反射区205，由于色阻层具有开孔203而又没有涂布平坦化层101，所以在反射区205存在两种盒厚，考虑到部分入射光两次经过色阻层201，部分入射光一次经过色阻层201而部分入射光完全不经过色阻层201；所以反射区205盒厚的计算一般采用优化后的一个平均值。在本实施例中，考虑整体效果光程的计算将由经过一次色阻层201的光来决定，因此，反射区205的盒厚d′优选地小于透射区207盒厚d的1/2。而为适应红绿蓝子像素各自对应的光波长所需要满足的盒厚条件和色度要求不同，色阻层开孔203的面积也可相应不同。
在本发明中，上基板色阻层侧省去了突起层与平坦化层；通过色阻层与色阻层开孔的缓坡形实现原有的突起达到制造预倾角的效果。还可以通过对制造色阻层图案的掩模板的设计，自然形成色阻层开孔，以减少VA半反半透式液晶显示装置制作中色阻层侧的开模的费用，简化制造工艺并降低制造成本。
以上详述了本发明的优选实施例，显然，本发明不受参照附图说明的上述实施例限定，本领域的技术人员可以对本发明进行各种变更、置换或其同等的处理，而不脱离所附权利要求书的范围及其宗旨。
Claims (24)
1.一种半反半透液晶显示装置，包括：
上基板；
下基板，所述下基板包括：复数条相互平行的扫描线和复数条相互平行的数据线，所述扫描线和所述数据线彼此垂直并将下基板划分成复数个像素区域，每个所述像素区域包括反射区和透射区；以及
夹在所述上基板和下基板间的液晶层，所述液晶层中的液晶分子在未加电压时垂直所述上基板或下基板的表面排列；
其中，在所述上基板上形成有色阻层及色阻层开孔，所述色阻层开孔的边缘为缓坡形。
2.如权利要求1所述的半反半透液晶显示装置，其中所述液晶分子的介电各向异性为负。
3.如权利要求1所述的半反半透液晶显示装置，其中所述反射区对应液晶层的厚度小于或等于所述透射区对应液晶层厚度的一半。
4.如权利要求1所述的半反半透液晶显示装置，其中所述色阻层可以是红色色阻层、蓝色色阻层和绿色色阻层或它们的组合。
5.如权利要求1所述的半反半透液晶显示装置，其中所述色阻层开孔位于所述反射区。
6.如权利要求5所述的半反半透液晶显示装置，其中所述色阻层开孔位于所述反射区的中心位置。
7.如权利要求5所述的半反半透液晶显示装置，其中所述色阻层开孔的面积小于所述反射区的面积。
8.如权利要求1所述的半反半透液晶显示装置，其中所述色阻层开孔的形状可以是方形、圆形或多边形。
9.如权利要求1所述的半反半透液晶显示装置，其中在所述反射区形成有第一有机膜层和第二有机膜层。
10.如权利要求9所述的半反半透液晶显示装置，其中位于所述反射区的第一有机膜层的形状可以是方形、圆形或多边形。
11.如权利要求9所述的半反半透液晶显示装置，其中位于所述反射区的第二有机膜层形成有突起。
12.如权利要求11所述的半反半透液晶显示装置，其中位于所述反射区的第二有机膜层突起上形成有反射金属。
13.如权利要求9所述的半反半透液晶显示装置，其中所述反射区的第二有机膜层延伸至所述透射区，并且位于所述透射区的第二有机膜层上形成有刻缝。
14.如权利要求13所述的半反半透液晶显示装置，其中位于所述透射区的第二有机膜层刻缝位于所述透射区的中心。
15.如权利要求13所述的半反半透液晶显示装置，其中位于所述透射区的第二有机膜层刻缝的面积小于所述透射区的面积。
16.如权利要求13所述的半反半透液晶显示装置，其中位于所述透射区的第二有机膜层刻缝可以是方形、圆形或多边形。
17.一种制造液晶显示装置的上基板的方法，包括以下步骤：
首先，形成黑矩阵膜，利用第一掩模板进行第一道光照，并刻蚀形成黑矩阵图案；
第二，形成红色色阻层膜，利用第二掩模板进行第二道光照，并刻蚀形成红色色阻层图案；
第三，形成绿色色阻层膜，利用第三掩模板进行第三道光照，并刻蚀形成绿色色阻层图案；
第四，形成蓝色色阻层膜，利用第四掩模板进行第四道光照，并刻蚀形成蓝色色阻层图案；
第五，形成透明导电膜层；
其特征在于，在形成所述不同颜色色阻层的过程中，自然形成了色阻层开孔。
18.如权利要求17所述的制造液晶显示装置的方法，其特征在于，所述色阻层开孔位于不同颜色色阻层的接合处。
19.如权利要求17所述的制造液晶显示装置的方法，其特征在于，所述色阻层开孔位于红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层中的任意色阻层上。
20.如权利要求17所述的制造液晶显示装置的方法，其特征在于，所述色阻层开孔的位置可以是不同颜色色阻层的接合处和红色色阻层、绿色色阻层或蓝色色阻层上的组合。
21.一种制造液晶显示装置的上基板的方法，包括以下步骤：
首先，形成黑矩阵膜，利用第一掩模板进行第一道光照，并刻蚀形成黑矩阵图案；
第二，形成红色色阻层膜，利用第二掩模板进行第二道光照，并刻蚀形成红色色阻层图案；
第三，形成绿色色阻层膜，利用第三掩模板进行第三道光照，并刻蚀形成绿色色阻层图案；
第四，形成蓝色色阻层膜，利用第四掩模板进行第四道光照，并刻蚀形成蓝色色阻层图案；
第五，利用第五掩模板进行第五道光照，在所述色阻层上形成开孔；
第六，形成透明导电膜层。
22.如权利要求21所述的制造液晶显示装置的方法，其特征在于，所述色阻层开孔位于不同颜色色阻层的接合处。
23.如权利要求21所述的制造液晶显示装置的方法，其特征在于，所述色阻层开孔位于红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层中的任意色阻层上。
24.如权利要求21所述的制造液晶显示装置的方法，其特征在于，所述色阻层开孔的位置可以是不同颜色色阻层的接合处和红色色阻层、绿色色阻层、蓝色色阻层上的组合。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102778781A (zh) * | 2012-07-27 | 2012-11-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置 |
| CN103927046A (zh) * | 2013-12-30 | 2014-07-16 | 上海天马微电子有限公司 | 触控显示面板及触控显示装置 |
| CN107357076A (zh) * | 2017-08-16 | 2017-11-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 透反式液晶显示装置及其制作方法 |
| WO2019041480A1 (zh) * | 2017-09-04 | 2019-03-07 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Coa显示面板及其制作方法、coa显示装置 |
| US10578784B2 (en) | 2017-09-04 | 2020-03-03 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Color-filter on array (COA) display panel, manufacturing method thereof and COA display device |
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2008
- 2008-11-07 CN CN200810043913A patent/CN101738778A/zh active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102778781A (zh) * | 2012-07-27 | 2012-11-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置 |
| WO2014015605A1 (zh) * | 2012-07-27 | 2014-01-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置 |
| CN102778781B (zh) * | 2012-07-27 | 2015-05-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置 |
| US9158047B2 (en) | 2012-07-27 | 2015-10-13 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Method for manufacturing color filter substrate, color filter substrate and transflective liquid crystal display device |
| CN103927046A (zh) * | 2013-12-30 | 2014-07-16 | 上海天马微电子有限公司 | 触控显示面板及触控显示装置 |
| CN103927046B (zh) * | 2013-12-30 | 2017-01-04 | 上海天马微电子有限公司 | 触控显示面板及触控显示装置 |
| CN107357076A (zh) * | 2017-08-16 | 2017-11-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 透反式液晶显示装置及其制作方法 |
| WO2019041480A1 (zh) * | 2017-09-04 | 2019-03-07 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Coa显示面板及其制作方法、coa显示装置 |
| US10578784B2 (en) | 2017-09-04 | 2020-03-03 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Color-filter on array (COA) display panel, manufacturing method thereof and COA display device |
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