CN101725902A - 平面光源装置 - Google Patents

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Abstract

一种平面光源装置，其包括：多个发光元件与至少一个镜面反射元件，该多个发光元件设置在同一平面上。该镜面反射元件所处平面垂直于该多个发光元件所处平面，且该镜面反射元件围绕该多个发光元件。

Description

平面光源装置
技术领域
本发明涉及光学技术领域，尤其涉及一种平面光源装置。
背景技术
现有的平面光源装置一般采用周期性的发光元件阵列组合而成，其中最普遍者，如图1所示，其由冷阴极荧光灯管(Cold Cathode Fluorescent Lamp，CCFL)等线型发光元件组成。或如图2所示，其采用发光二极管(Light-Emitting Diode，LED)等点状发光元件组成。
目前，发光二极管(Light Emitting Diode，LED)因具有功耗低、寿命长、体积小及亮度高等特性已经被广泛应用到很多领域。在此，一种新型发光二极管可参见Daniel A.Steigerwald等人在文献IEEE Journal on Selected Topics in QuantumElectronics，Vol.8，No.2，March/April 2002中的Illumination With Solid StateLighting Technology一文。
如图3所示，假设与一线型发光元件相距D(单位长度)的受光处的光强度为1(单位强度)。如图4所示，由多个该线型发光元件数组排列而成的平面光源装置的整体光强度会增加，而靠近发光元件阵列中心处的整体光强度(A1处)约1.6(单位强度)，发光元件阵列边缘处的整体光强度(A2处)只有约1.35(单位强度)。如图5所示，靠近发光元件阵列中心处的多个发光元件的光场叠加，因此，增加了中心处(A1)光强度。如图6所示，发光元件阵列边缘处的发光元件因其另一侧缺少发光元件，因此，边缘处(A2)的光强度明显低于中心处(A1)光场强度。综上所述，发光元件光照强度随着照射距离增加而递减。排列成阵列的多个发光元件的光照强度会由其相邻的发光元件所补偿，因此，其整体光照强度会有所提升。反之，发光元件的一侧边缺少相邻的发光元件则其光照强度会明显不足。
为克服上述缺陷，一般平面光源装置在应用时牺牲边缘区域的发光面积，仅仅使用光强度较均匀的发光元件阵列的中心区域，因此，造成光源浪费且缩小了该平面光源装置的使用面积。此外，若在边缘区域增加发光元件的数量，通过提高发光元件的密度以弥补其光强度不足，从而使得增加了成本，且提高耗电量。
如图7所示，现有的平面光源装置往往在发光元件的边缘区域倾斜设置反射元件。通过反射元件反射发光元件侧面的逸出的光线。但由于反射元件的位置、倾斜角度以及反射元件使用的种类等因素的影响，以使得对发光元件阵列的边缘区域的光强度的改善效果并不显著。一般情况下，边缘区域的光强度仍低于中心区域的90％以下，且多个反射元件相连接处的光强度最弱。
有鉴于此，有必要提供一种改善边缘区域光强度不足的平面光源装置。
发明内容
本发明的主要目的在于：提供一个平面光源装置。该平面光源装置可有效弥补边缘区域光强度较低的现象，尽可能扩大该平面光源装置的使用面积，并节省发光元件的使用数量以减少耗电量，达到低成本、低功耗、高质量的高阶产品要求。
本发明的另一目的在于：提供具有镜面反射元件的平面光源装置。根据改变该镜面反射元件的使用种类、设置位置、摆设角度等的设计可以有效弥补该平面光源装置的边缘区域光强度不足的现象。
本发明的又一目的在于：平面光源装置边缘处的发光元件通过镜面反射元件产生的镜像与该发光元件形成一连续性光源，以弥补边缘处的发光元件的一侧边缺少相邻的发光元件而光照强度明显不足的现象。
鉴于上述目的，本发明揭露一个平面光源装置，其包含：多个发光元件与至少一个镜面反射元件(mirror-like reflector)，该多个发光元件设置在同一平面上。该镜面反射元件所处平面垂直于该多个发光元件所处平面，该镜面反射元件的镜位距离等于或小于发光元件间特征距离的一半。
所述镜位距离是指该镜面反射元件与其最邻近的发光元件之间的距离。所述特征距离是指与镜位距离同方向上的一个发光元件和同方向上与该发光元件最邻近的另一发光元件之间的距离。如图8所示，一发光元件111的中心位置与其相邻的另一发光元件112的中心位置之间的距离为一特征距离X，一镜面反射元件12的光反射面121与其相邻的一发光元件111的中心位置之间的距离为一镜位距离Y。可以理解的是，该镜面反射元件的镜位距离等于或小于发光元件的特征距离的一半，即：与该镜面反射元件最邻近的发光元件与该发光元件的镜像距离小于或等于特征距离。该镜像是指该发光元件通过该镜面反射元件所产生的影像。镜像距离是指该镜像至该镜面反射元件间的距离。
所述发光元件可为一线型发光元件，如气体放电灯管、水银灯管(mercury-vaporlamp)、荧光灯管(fluorescent lamp)、紧凑型荧光灯管(compact fluorescent lamp，CFL)、冷阴极荧光灯管(cold cathode fluorescent lamp，CCFL)等。该线型发光元件为圆管型元件，其光场为一垂直于轴心并向外发散的圆柱型光场。所述发光元件也可以为点状发光元件，其光场为朗伯(Lambertian)光场分布。该点状发光元件可以是发光二极管(Lihgt-Emitting Diode)或发光二极管芯片。该发光二极管可以为单一芯片(single chip)封装的发光二极管，或单一芯片加上荧光粉(phosphor)封装的白光发光二极管，或多芯片(multi-chips)封装以产生不同色光的发光二极管，当然，也可以为阵列排布的发光二极管芯片。
所述镜面反射元件是指任一平面元件可对光源形成镜像的元件，即该镜面反射元件具有一表面光滑的光反射面，光源经由该镜面反射元件可形成一清晰成像。该镜面反射元件为一具有反射膜层的反射板，如具有表面光滑、平坦的银或铝金属反射膜(reflective metalfilm)的反射板，且该反射膜层与该多个发光元件相对设置。当然，该镜面反射元件也可以为一个表面光滑、平坦的金属板，如铝板或是银板，或是一个玻璃镜(reflective mirror)。该玻璃镜是指一面附着高反射率金属(如银、铝)的玻璃板，如一般的更衣镜。可以理解的是，该玻璃板也可以用任何透明材料如压克力板、塑料板、石英板等所取代。
如图9所示，平面光源装置中发光元件阵列的边缘处的发光元件的另一侧具有一镜面反射元件，且该镜面反射元件的光反射率为80％的情况，与该平面光源装置的距离为单位长度D处的光场强度分布图。该镜面反射元件的镜位距离Y为特征距离X的一半，即Y＝(X/2)，且该镜面反射元件垂直该发光元件阵列所在平面。该镜面反射元件将发光元件阵列发出的光反射用以弥补其边缘处A2光强度。其与图6相比，该镜面反射元件可弥补边缘处发光元件的一侧边缺少发光元件而使得其边缘处A2光强度较低的现象，且其光强度改善趋近于图5中所示的光强度。可以理解的是，若镜面反射元件不垂直于发光元件阵列所在平面则无法达到此效果。
一般镜面反射元件的光反射率R皆小于100％，为了弥补光反射率R不足100％所造成的光强度损失，镜面反射元件的镜位距离Y可以小于发光元件间特征距离X的一半，即Y＜(X/2)，由于镜面反射元件与其相邻的发光元件间距离缩短，因此，可进一步提升边缘处光强度。如图10所示，曲线a表示不具有镜面反射元件的平面光源装置的光强度分布。曲线b表示具有光反射率为80％的镜面反射元件的平面光源装置的光强度分布，且镜面反射元件的镜位距离为其特征距离的一半。曲线c表示包含光反射率为80％的镜面反射元件的平面光源装置的光强度分布，且该镜面反射元件的镜位距离Y为(X/2)*85％。通过比较光强度分布曲线a、b以及c，可发现光强度分布c的边缘处A2的光强度有明显的提升。
与现有技术相比，本发明所揭露的平面光源装置，其镜面反射元件可有效增加该平面光源装置的边缘处光强度，且增加了平面光源装置的使用面积。且当该镜面反射元件与其最邻近的发光元件之间的镜位距离小于等于同一方向上的相邻的两个发光元件之间的特征距离时，其效果更明显。
附图说明
图1是现有技术中由线状光源组成的平面光源装置的示意图。
图2是现有技术中由点状光源组成的平面光源装置的示意图。
图3是线状光源的光场强度分布示意图。
图4是现有技术中距离平面光源装置单位D单位处的光场强度分布示意图。
图5是图4中平面光源装置的中心区域光场强度的分布示意图。
图6是图4中平面光源装置的边缘区域光场强度的分布示意图。
图7是现有技术的包括有反射元件的平面光源装置的剖面示意图。
图8是本发明提供的平面光源装置中的镜位距离与特征距离示意图。
图9是本发明提供的平面光源装置的边缘区域的光场强度分布示意图。
图10是本发明提供的平面光源装置的光场强度分布示意图。
图11是本发明第一实施例提供的平面光源装置的结构示意图。
图12是图11中平面光源装置的光场强度分布示意图。
图13是图11中镜面反射元件为玻璃镜的结构结构示意图。
图14是图11中的平面光源装置的发光元件包括中间发光部与两端承载部的结构示意图。
图15是本发明第二实施例提供的平面光源装置结构示意图。
图16是图15的平面光源装置的俯视图。
图17是不具有镜面反射元件且包括10×5的发光元件阵列的平面光源装置的光场强度示意图。
图18是具有光反射率为80％的镜面反射元件且包括10×5的发光元件阵列的平面光源装置的光场强度示意图。
图19是具有光反射率为80％的镜面反射元件，镜位距离Y＝0.7(X/2)，且包括10×5的发光元件阵列的平面光源装置的光场强度示意图。
图20是本发明第二实施例提供的平面光源装置的结构示意图。
图21是本发明第三实施例提供的平面光源装置的结构示意图。
图22是本发明第四实施例提供的平面光源装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明实施方式作进一步的详细说明。
如图11所示，本发明第一实施例所述的平面光源装置20，其包含：多个发光元件21以及多个镜面反射元件22。
该多个发光元件21位于同一平面，其为一线型发光元件，如气体放电灯管、水银灯管(mercury-vapor lamp)、荧光灯管(fluorescent lamp)、紧凑型荧光灯管(compactfluorescent lamp，CFL)、冷阴极荧光灯管(cold cathode fluorescent lamp，CCFL)等。相邻的两个发光元件21之间的特征距离为X。所述特征距离X是指与镜位距离同方向上的一个发光元件和同方向上与该发光元件最邻近的另一发光元件之间的距离。
该镜面反射元件22所处平面垂直于该多个发光元件21所在平面。所述镜面反射元件22是一个金属板，光源通过该镜面反射元件22反射后可形成一清晰成像。其中，该镜面反射元件22包括与该发光元件21平行放置的第一镜面反射元件221以及与该发光元件21垂直放置的第二镜面反射元件222。可理解的是，该第一镜面反射元件221、第二镜面反射元件222的光反射面与该发光元件21相对设置。镜面反射元件22和与其邻近的发光元件21之间的镜位距离为Y。所述镜位距离Y是指该镜面反射元件与其相邻最近的发光元件之间的距离。该镜面反射元件的镜位距离Y等于或小于发光元件的特征距离X，即0≤Y≤X，优选的，0≤Y≤X/2。
如图12所示，曲线a表示不具有镜面反射元件的平面光源装置的光强度分布。曲线b表示该第一镜面反射元件221与第一邻近发光元件211的镜位距离Y等于特征距离X一半的光场强度分布，且该第一镜面反射元件221的光反射率为80％。曲线c表示镜位距离Y小于特征距离X的一半的光场强度分布，且该第一镜面反射元件221的光反射率为80％。通过比较光强度分布曲线a、b以及c可知，第一镜面反射元件221对该平面光源装置20的边缘处光场A2有较明显的光强度补偿作用，且该第一镜面反射元件221的镜位距离Y越小，该平面光源装置20的边缘处的光强度补强作用越明显。同时，通过改变该第一镜面反射元件221的光反射率，其镜位距离也随之改变。例如，该第一镜面反射元件221的光反射率增加，则该第一镜面反射元件221的镜位距离亦随的增加。
当然，该镜面反射元件22也可以为一玻璃镜，如图13所示。该玻璃镜具有一个金属层2211与一个透光层2212。该金属层2211的靠近该透光层2212的表面为光反射面2213，其用以反射该多个发光元件21发出的光。该金属层2211设置在该透光层21的远离该多个发光元件21的一侧。该发光元件21产生的光经过该透光层2212入射至该金属层2211的光反射面2213发生反射，并再次经过该透光层2212发射出去。该透光层2212的光折射率为n，厚度为Z。该镜面反射元件22的透光层2212表面相距最邻近的发光元件211中心位置的镜位距离为Y，该多个发光元件21的特征距离为X，因此，发光元件211的镜像211a与光反射面2213之间的距离为(Z+Yn)/n，发光元件211与其镜像211a之间的距离为(1+1/n)Z+2Y。所以，该镜面反射元件221的镜位距离Y的最佳距离为0≤Y≤[X-(1+1/n)Z]/2。
可以理解的是，在本实施例中，该镜面反射元件22所处平面与该多个发光元件21所处平面垂直。当该第二镜面反射元件222与该多个发光元件21的镜位距离Y趋于0时为最佳镜位距离，即该第二镜面反射元件222与该多个发光元件21相邻且相接触。如图14所示，为了使该第二镜面反射元件222与该多个发光元件21相邻且相接触，一般使用的发光元件21包括一个中间发光部21a以及位于两端的承载部21b，则该第二镜面反射元件222与该发光元件21的位置关系可根据该发光元件21的中间发光部位21a调整。具体的，将该第二镜面反射元件222上形成多个与该发光元件21外型相匹配的通孔2221，该发光元件21的承载部21b穿过该第二镜面反射元件222的通孔2221，即可将该第二镜面反射元件222与该多个发光元件21相邻且相接触。
如图15所示，本发明第二实施例所述的平面光源装置30，该平面光源装置30包含：多个发光元件31以及多个镜面反射元件32。
该多个发光元件31均为一点状发光元件，其成阵列排布在同一平面上。该多个发光元件31的光场为朗伯(Lambertian)光场分布。该点状发光元件可以是发光二极管或发光二极管芯片。该发光二极管可以为单一芯片(single chip)封装的发光二极管，或单一芯片加上荧光粉(phosphor)封装的白光发光二极管，或多芯片(multi-chips)封装以产生不同色光的发光二极管，当然，也可以为多个阵列的发光二极管芯片。
如图16所示，该多个发光元件31分别沿第一方向B、第二方向C方向阵列排布，且沿第一方向B方向与第二方向C方向阵列的发光元件31之间的特征距离均为X，该镜面反射元件32与该发光元件31之间的镜位距离均为Y。该镜面反射元件32为金属板时，该镜位距离Y与特征距离X之间的关系为：0≤Y≤X，优选的，0≤Y≤X/2。当然，该镜面反射元件32也可以是玻璃镜，则优选的，0≤Y≤[X-(1+1/n)Z]/2。
当该平面光源装置30包括的多个发光元件31呈10×5的阵列排布，该镜面反射元件32为一个表面光滑平整的金属板，且其光反射率为R。其中，图17为不具有镜面反射元件的平面光源装置的光场强度分布图，其边缘处光场强度明显低于中心处光场强度。图18为具有镜面反射元件的平面光源装置30的光场强度分布图，且镜面反射元件的光反射率为80％，Y＝X/2，该平面光源装置30的边缘处光场强度得到改善，其与中心处光场强度差距不大。图19为具有镜面反射元件的平面光源装置30的光场强度分布图，且镜面反射元件的光反射率为80％，Y＝0.7(X/2)，即镜面反射元件32与相邻的发光元件31的距离更近，该平面光源装置30的边缘处光场强度与中心处光场强度非常接近，从而有效补偿了该平面光源装置30的边缘处光场强度不足的现象。
可以理解的是，该多个发光元件31也可以为不等距离的阵列排布，如图20所示。即：该多个发光元件31分别沿第一方向B、第二方向C方向阵列排布，且沿第一方向B方向阵列的发光元件31之间的特征距离为X1，镜位距离为Y1。沿第二方向C方向阵列的发光元件31之间的特征距离为X2，镜位距离为Y2，其中，X2≠X1。若该镜面反射元件32为金属板，则，0≤Y1≤X1，0≤Y2≤X2，优选的，0≤Y1≤X1/2，0≤Y2≤X2/2。若该镜面反射元件32为一个玻璃镜，则优选的，0≤Y1≤[X1-(1+1/n1)Z1]/2，0≤Y2≤[X2-(1+1/n2)Z2]/2，其中，垂直于第一方向B的镜面反射元件32的透光层的光折射率为n1，厚度为Z1，垂直于第二方向C的镜面反射元件32的透光层的光折射率为n2，厚度为Z2。
如图21所示，本发明第三实施例所述的平面光源装置40，其与第二实施例基本相同，本实施例与第二实施例不同之处在于：该多个发光元件41交错排布。
具体的，该多个发光元件41沿第一方向D组成奇数列光源411与偶数列光源412，该奇数列光源411与该偶数列光源412包括的多个发光元件41交错排布。组成该奇数列光源411的多个发光元件41之间的特征距离为X1，且相邻的两个奇数列光源411之间的特征距离也是X1，即邻近的4个该奇数列光源411的发光元件41组成一个正四边形，该偶数列光源412的多个发光元件41分别设置在该多个正四边形的对角线上。且组成该奇数列光源411的发光元件41与其相邻的组成该偶数列光源412的发光元件41之间的连线距离为X2。
在本实施例中，镜面反射元件42为金属板，且靠近发光元件的表面为反射面。镜位距离Y趋近于零，即该镜面反射元件42和与其相邻的发光元件41尽可能靠近或是紧密接触。具体的，该镜面反射元件42和与其相邻的周边区域的发光元件413、414、417、418尽可能靠近。由于与镜面反射元件42相邻的发光元件413、414、417、418通过镜面反射元件42形成的镜像与其本身的亮度几乎相同，因此，该多个发光元件413、414、417、418分别与其镜像可视为单一光源，由此将该多个发光元件413、414、417、418的亮度调整为远离该镜面反射元件42的中心区域的发光元件(如发光元件412、415、416等)的输出光强度的40％至70％，优选50％。同时，由于发光元件411位于两个镜面反射元件42相连接处，因此，其亮度可以调整为发光元件412、415、416等的输出光强度的20％至50％，优选为25％。通过对与镜面反射元件42相邻的发光元件411、413、414、417、418的输出光强度的降低，并通过镜面反射元件42反射，以使得各发光元分别与其镜像组合成光强度基本相同且连接扩展的光源，有效的补偿该平面光源装置40边缘区域的光强度不足的现象。
如图22所示，本发明第四实施例所述的平面光源装置50，其与第三实施例基本相同，本实施例与第三实施例不同之处在于：该多个发光元件51呈正三角形排布，即多个发光元件51之间的间距相同，均为W。
由于在平面光源装置50中，对边缘区域的光强度补偿时，其最佳镜位距离Y趋近于0，即镜面反射元件52与其相邻的发光元件51尽可能靠近。具体的，发光元件515靠设在镜面反射元件521上，发光元件512、514靠设在镜面反射元件522上，发光元件511靠设在镜面反射元件521与镜面反射元件522的相连接处。
由于在平面光源装置中，其边缘处的发光元件通过镜面反射元件产生的镜像与该发光元件可以形成一连续性光源。因此，在本实施例中，发光元件511、515、512、514分别与通过镜面反射元件521、522形成的镜像可以形成一连续性光源。
如果发光元件511、515、512、514维持原输出光强度会造成光场强度过大，因此，将发光元件512、514、515的光强度调整为远离镜面反射元件521、522的中心区域的发光元件，如发光元件513、517、518、519的光强度的40％至70％。同时，由于发光元件511与镜面反射元件521、522相接触，因此，将其光强度调整为为远离镜面反射元件521、522的中心区域的发光元件，如发光元件513、517、518、519的光强度的20％至50％。
当然，在本实施例中，如果将与镜面反射元件521、522次相邻的发光元件，如发光元件513、516、517的镜位距离Y调整为小于或等于特征距离X的一半，该特征距离X是指与镜位距离Y同方向上的一个发光元件与同方向上的相邻的另一个发光元件之间的距离。此时，发光元件513通过镜面反射元件521产生的镜像5331与该发光元件513的距离小于或等于发光元件513与发光元件517之间的距离。发光元件513通过镜面反射元件522产生的镜像5332与该发光元件513的距离小于或等于发光元件513与发光元件516之间的距离。因此，可以有效的改善该平面光源装置50的边缘处光强度不足的现象。
可以理解的是，在本实施例中，镜面反射元件的镜位距离方向上的第一相邻发光元件与次相邻的发光元件的距离小于发光元件间的特征距离。具体的，将发光元件511、512、514及同一线性方向上所有的发光元件沿镜面反射元件522的镜位距离方向且朝向发光元件518移动，发光元件511、515及同一线性方向上所有的发光元件沿镜面反射元件521的镜位距离方向且朝向发光元件519移动，通过缩小与镜面反射元件的第一相邻发光元件与次相邻发光元件之间的距离也可以有效的补偿该平面光源装置50的边缘处光场强度不足的现象。
本发明揭示的平面光源装置均可应用于照明灯具的光源模块，平面显示器的光源模块，或广告牌的光源模块等。因此，上述各平面光源装置可进一步包括一个框体(housing，plastic housing)，至少一个光学元件以及电路系统。该框体用于覆盖多个发光元件。该反射元件可进一步依附于该框体。该光学元件包括扩散板，导光板，透镜等均光元件。该电路系统与该多个发光元件电连接，其包括电源，电路板，驱动IC等装置。
由于本发明所揭示的平面光源装置包括的镜面反射元件可有效的补偿平面光源装置的边缘处的光强度不足的现象，增加该平面光源装置的使用面积，且提升了其产品的竞争力。如镜面反射元件的镜位距离Y等于发光元件间的特征距离X，即Y＝X，且与镜面反射元件相邻的发光元件的输出光强度为远离该镜面反射元件的中心区域的发光元件的输出光强度的两倍，或是镜面反射元件的镜位距离Y约略等于一半的特征距离X，此类变化对于该平面光源装置边缘处的出光光场也有部分的补强效果。然而，镜面反射元件距离该发光元件太远，而使得通过镜面反射元件反射回的光强度较弱，且由于与镜面反射元件相邻的发光元件输出光强度增加会造成该平面光源装置的整体输出光强度增加，因此，会造成能源上的浪费与损耗。上述各种变化皆属于本发明精神所揭露内容。另外，本领域技术人员还可于本发明精神内做其它变化用于本发明的设计，只要其不偏离本发明的技术效果均可。这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (15)

1.一种平面光源装置，其包括：多个发光元件与至少一个镜面反射元件，该多个发光元件设置在同一平面上，其特征在于：该镜面反射元件所处平面垂直于该多个发光元件所处平面，且该镜面反射元件围绕该多个发光元件。
2.如权利要求1所述的平面光源装置，其特征在于，该镜面反射元件和与其最邻近的发光元件之间的距离小于等于同一方向上的相邻的两个发光元件之间特征距离的距离的一半。
3.如权利要求1所述的平面光源装置，其特征在于，该镜面反射元件为一个金属板，或为具有反射膜层的反射板。
4.如权利要求1所述的平面光源装置，其特征在于，该镜面反射元件为一个玻璃镜，该玻璃镜具有一个金属反射层与一个透光层，该金属反射层设置在该透光层的远离该多个发光元件的一侧。
5.如权利要求1所述的平面光源装置，其特征在于，该发光元件为一个线状光源。
6.如权利要求5所述的平面光源装置，其特征在于，该线状光源为气体放电灯管、荧光灯管。
7.如权利要求5所述的平面光源装置，其特征在于，该线状光源包括一个中间发光部与两端的承载部，该镜面反射元件上具有多个通孔，该线状发光元件穿过该通孔，以使该线状光源的中间发光部与该镜面反射元件相邻且相接触。
8.如权利要求1所述的平面光源装置，其特征在于，该发光元件为点状光源。
9.如权利要求8所述的平面光源装置，其特征在于，该多个点状光源阵列排布。
10.如权利要求8所述的平面光源装置，其特征在于，该点状光源沿第一方向组成奇数列与偶数列，该奇数列与该偶数列交错排布。
11.如权利要求8所述的平面光源装置，其特征在于，该点状光源为发光二极管。
12.如权利要求8所述的平面光源装置，其特征在于，该多个点状光源呈正三角形排布。
13.如权利要求11所述的平面光源装置，其特征在于，与该镜面反射元件最相邻的多个点状光源靠设在该镜面反射元件上。
14.如权利要求1所述的平面光源装置，其特征在于，该镜面反射元件和与其次邻近的发光元件之间的距离小于等于同一方向上的相邻的两个发光元件之间的距离的一半。
15.如权利要求14所述的平面光源装置，其特征在于，与该镜面反射元件相邻的周边区域的发光元件的亮度为远离镜面反射元件的中心区域的发光元件的亮度的40％至70％，位于两个镜面反射元件相接处的发光元件的亮度为中心区域亮度的20％至50％。
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