CN101694562B - 一种多掩模的光刻机硅片台系统 - Google Patents
一种多掩模的光刻机硅片台系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101694562B CN101694562B CN2009101729520A CN200910172952A CN101694562B CN 101694562 B CN101694562 B CN 101694562B CN 2009101729520 A CN2009101729520 A CN 2009101729520A CN 200910172952 A CN200910172952 A CN 200910172952A CN 101694562 B CN101694562 B CN 101694562B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mask
- silicon chip
- platform
- plummer
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Abstract
一种多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统。所述的掩模台系统包括掩模台基座和掩模承载台；掩模台基座长边为Y方向，短边为X方向，所述的掩模承载台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台上沿Y方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。本发明避免了现有光刻机技术的不足，在更换掩模版后需要再次对准的高精度要求等缺陷，只是在现有结构上延长了掩模台导轨行程，其系统结构复杂程度并无太大变化，与使用一台现有的光刻机相比，使整个光刻效率有一定的提高。
Description
技术领域
本发明涉及一种光刻机硅片台双台交换系统，该系统应用于半导体光刻机中，属于半导体制造设备技术领域。
背景技术
在集成电路芯片的生产过程中，芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印(光刻)是其中最重要的工序之一，该工序所用的设备称为光刻机(曝光机)。光刻机的分辨率和曝光效率极大的影响着集成电路芯片的特征线宽(分辨率)和生产率。而作为光刻机关键系统的硅片超精密运动定位系统(以下简称为硅片台)的运动精度和工作效率，又在很大程度上决定了光刻机的分辨率和曝光效率。
步进扫描投影光刻机基本原理如图1所示。来自光源45的深紫外光透过掩模版47、透镜系统49将掩模版上的一部分图形成像在硅片50的某个Chip上。掩模版和硅片反向按一定的速度比例作同步运动，最终将掩模版上的全部图形成像在硅片的特定芯片(Chip)上，目前的光刻机是在掩模台上只设有一块掩模版，曝光结束后换装其他掩模版，采用一台光刻机分多步完成就需要依次更换掩模版，每更换一次掩模，就要重新对准一次；而采用两台光刻机同时工作，就会大幅增加生产成本。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明的目的是提供一种具有多掩模的光刻机硅片台系统，以节省更换下一块掩模版后重新对准的时间和在曝光过程中一次步进的时间，降低成本，进而提高光刻机的曝光效率。
本发明的技术方案一如下：
一种多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统，其特征在于：所述的掩模台系统包括掩模台基座和掩模承载台，掩模台基座长边为Y方向，短边为X方向，所述的掩模承载台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台上沿Y方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。
上述技术方案所述的一种多掩模的光刻机硅片台系统，其特征在于：所述的掩模承载台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动采用气浮导轨和直线电机做导向驱动，或采用直线导轨、滚珠丝杠和伺服电机做导向驱动。
本发明与现有技术相比，具有以下突出性的优点：一是将多块掩模版顺次沿运动方向布置，与使用一台光刻机相比，硅片台在扫描曝光时可以减少一次步进的时间；二是多块掩模版一次安装，节省一次对准的时间，总体上，提高了工作效率。
附图说明
图1为现有光刻机工作原理示意图。
图2为本发明采用双掩模的光刻机系统的实施例的结构原理示意图。
图3为本发明采用双掩模的光刻机系统的实施例的工作原理示意图。
图中：1-基台；2-预处理硅片台；3-曝光硅片台；4-透镜；5-掩模台基座；6-掩模承载台；7a-第一掩模版；7b-第二掩模版。
具体实施方式
本发明提供的一种多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台1，至少一个硅片台，一组光学透镜4和掩模台系统，其特征在于：所述的掩模台系统包括掩模台基座5和掩模承载台6，掩模台基座5长边为Y方向，短边为X方向，所述的掩模承载台6在掩模台基座5上沿Y方向作直线运动，掩模承载台6上沿Y方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。所述的掩模承载台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动采用气浮导轨和直线电机做导向驱动，或采用直线导轨、滚珠丝杠和伺服电机做导向驱动。
图2为本发明采用双掩模的光刻机系统的实施例的结构原理示意图。该系统含有基台1，一个预处理硅片台2和一个曝光硅片台3，一组光学透镜4，两个硅片台在基台1上表面分别做预处理运动和曝光运动；在基台1的上方，设有一个掩模台系统，该掩模台系统包括一个掩模台基座5和一个掩模承载台6，设掩模台基座5长边为Y方向，短边为X方向；掩模承载台6上沿Y方向按一列布置两个掩模版安装槽，第一掩模版7a和第二掩模版7b依次安装在掩模版安装槽内；该掩模台系统的运动为单自由度直线运动，通过气浮导轨和直线电机的导向驱动，使掩模承载台6在掩模台基座上沿Y方向作直线运动采用。
图3为本发明采用双掩模的光刻机系统的实施例的工作原理示意图。在进行扫描曝光工序时，根据硅片的尺寸，预先在待刻硅片上划分出若干区域，每个这样的区域称为一个场。在曝光每一个场的过程中，首先，掩模承载台6沿着Y方向向右运动，第一掩模版7a和第二掩模版7b的依次经过投影区，但只有第一掩模版7a被扫描，同时地，硅片台做与掩模承载台6的反向运动，沿着Y方向向左运动，此时，第一掩模版7a的图案刻在硅片上，掩模承载台6减速反向，同时，冷却装置使硅片上的光刻胶急速冷却，之后，硅片台减速反向；然后，掩模承载台6沿着Y方向向左运动，第二掩模版7b、第一掩模版7a依次再经过投影区，此时只有第二掩模版7b被扫描，同时地，硅片台仍做与掩模承载台6的反向运动，沿着Y方向向右运动，这次，第二掩模版7b的图案刻在硅片上，此时完成了一场的扫描曝光，掩模承载台6减速反向，同时硅片台步进至下一场，其他的各场的曝光依次循环。
Claims (2)
1.一种多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台(1)，至少一个硅片台，一组光学透镜(4)和掩模台系统，其特征在于：所述的掩模台系统包括掩模台基座(5)和掩模承载台(6)，掩模台基座(5)长边为Y方向，短边为X方向，所述的掩模承载台(6)在掩模台基座(5)上沿Y方向作直线运动，掩模承载台(6)上沿Y方向至少设置两个掩模版安装槽，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版；
在进行扫描曝光工序时，根据硅片的尺寸，预先在待刻硅片上划分出若干区域，每个这样的区域称为一个场；在曝光每一个场的过程中，首先，掩模承载台(6)沿着Y方向向右运动，所述至少两个掩模版(7a，7b)依次经过投影区，但只有第一掩模版（7a）被扫描，同时地，曝光硅片台做与掩模承载台(6)的反向运动，沿着Y方向向左运动，此时，第一掩模版(7a)的图案刻在硅片上，掩模承载台(6)减速反向，同时，冷却装置使硅片上的光刻胶急速冷却，之后，曝光硅片台减速反向；然后，掩模承载台(6)沿着Y方向向左运动，所述至少两个掩模版(7a，7b)依次再经过投影区，此时只有第二掩模版(7b)被扫描，同时地，曝光硅片台仍做与掩模承载台(6)的反向运动，沿着Y方向向右运动，这次，第二掩模版(7b)的图案刻在硅片上，掩模承载台(6)减速反向，同时，冷却装置使待刻硅片上的光刻胶急速冷却，之后，曝光硅片台减速反向；然后同样依次扫描其它掩膜版，使其它掩膜版的图案刻在硅片上；所述至少两个掩模版在同一个场都扫描完成后，所述曝光硅片台(3)步进至下一场继续曝光，并依次循环曝光其它场。
2.按照权利要求1所述的一种多掩模的光刻机硅片台系统，其特征在于：所述的掩模承载台(6)在掩模台基座(5)上沿Y方向作直线运动采用气浮导轨和直线电机做导向驱动，或采用直线导轨、滚珠丝杠和伺服电机做导向驱动。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2009101729520A CN101694562B (zh) | 2009-06-30 | 2009-09-11 | 一种多掩模的光刻机硅片台系统 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200910087966.2 | 2009-06-30 | ||
| CN200910087966 | 2009-06-30 | ||
| CN2009101729520A CN101694562B (zh) | 2009-06-30 | 2009-09-11 | 一种多掩模的光刻机硅片台系统 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101694562A CN101694562A (zh) | 2010-04-14 |
| CN101694562B true CN101694562B (zh) | 2011-08-17 |
Family
ID=42093538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2009101729520A Active CN101694562B (zh) | 2009-06-30 | 2009-09-11 | 一种多掩模的光刻机硅片台系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101694562B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102681363B (zh) * | 2012-05-11 | 2014-02-19 | 清华大学 | 一种多工位硅片台多台交换系统及其交换方法 |
| CN103045996A (zh) * | 2012-12-10 | 2013-04-17 | 陕西科技大学 | 一种有机电致发光器件蒸镀用掩模板调节装置 |
-
2009
- 2009-09-11 CN CN2009101729520A patent/CN101694562B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101694562A (zh) | 2010-04-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100470379C (zh) | 一种光刻机硅片台双台交换系统 | |
| CN101571676B (zh) | 一种光刻机硅片台双台交换系统 | |
| CN201364459Y (zh) | 一种光刻机硅片台双台交换装置 | |
| CN101609265B (zh) | 采用磁悬浮平面电机的硅片台多台交换系统 | |
| CN101551598B (zh) | 一种光刻机硅片台双台交换系统 | |
| CN102681363B (zh) | 一种多工位硅片台多台交换系统及其交换方法 | |
| CN101727019B (zh) | 光刻机硅片台双台交换系统及其交换方法 | |
| CN100504614C (zh) | 步进扫描光刻机双台交换定位系统 | |
| US9547245B2 (en) | Dual wafer stage switching system for a lithography machine | |
| CN101551599B (zh) | 一种光刻机硅片台双台交换系统 | |
| CN1200321C (zh) | 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统 | |
| CN201364460Y (zh) | 一种光刻机硅片台双台交换装置 | |
| CN101718959B (zh) | 一种光刻机硅片台双台交换方法及系统 | |
| CN104375388A (zh) | 一种多工件台直写光刻系统 | |
| CN201503535U (zh) | 呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统 | |
| CN201583783U (zh) | 具有多掩模的光刻机硅片台系统 | |
| CN101694562B (zh) | 一种多掩模的光刻机硅片台系统 | |
| CN101231471B (zh) | 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统 | |
| CN100570496C (zh) | 一种采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换系统 | |
| CN101694563B (zh) | 一种呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统 | |
| CN101694561B (zh) | 一种具有多掩模的光刻机硅片台系统 | |
| CN101661221A (zh) | 用于同一图层曝光的掩膜版及其多重曝光方法 | |
| CN201527541U (zh) | 多掩模的光刻机硅片台系统 | |
| CN201181388Y (zh) | 采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换装置 | |
| CN101770181A (zh) | 光刻机的双工件台系统 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20151110 Address after: 100084 Beijing box office,,, Tsinghua University Patentee after: Tsinghua University Patentee after: U-PRECISION TECH CO., LTD. Address before: 100084 Beijing box office,,, Tsinghua University Patentee before: Tsinghua University |