CN101664268A - 安全易清洗的压力锅 - Google Patents

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CN101664268A CN200910175058A CN200910175058A CN101664268A CN 101664268 A CN101664268 A CN 101664268A CN 200910175058 A CN200910175058 A CN 200910175058A CN 200910175058 A CN200910175058 A CN 200910175058A CN 101664268 A CN101664268 A CN 101664268A
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邓祎昕
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Abstract

本发明公开了一种安全易清洗的压力锅,其特征在于:锅盖8的开口端内壁有一圈内径小外径大的凹槽,将平板密封圈9对外全封闭镶嵌在此槽内,并使凹槽的下环形平面14与锅体5上环形平面15在一个水平面上,且之间距离很小,平板密封圈9就“架”在它们之间,用一个平面密封它们之间的这条线;锅盖8上钻一个内径φ10毫米以上的大孔,仅用一个限压锥体10将其堵塞,从而彻底推翻了世界上传统的压力锅密封技术,结束了压力锅自发明以来330多年一直无法清洗干净,藏污纳垢、霉变致癌、密封圈被冲出蒸汽伤人以及因限压阀堵塞爆炸的历史。

Description

安全易清洗的压力锅
技术领域
本发明涉及烹饪炊具。具体地说,本发明涉及一种安全易清洗的压力锅。
背景技术
现有的压力锅无论是电热的还是燃气的,一般都主要由锅体、锅盖、密封圈、限压阀、安全阀组成,就现代最先进最高档的压力锅它使用的密封圈也还是古老的横截面为
Figure G2009101750589D00011
形的橡胶密封圈,它的限压安全手段也千遍一律采用小孔泄压,在锅盖上钻孔,用螺丝、螺帽、垫圈,将限压阀、安全阀、报警阀、自锁阀等固定在锅盖上,以致造成锅盖上凹凸不平;
Figure G2009101750589D00012
密封圈上的凹槽是一圈外较宽内不足3毫米宽的狭窄缝,抹布、刷子均难于进入其内,诸阀上的螺纹、小孔、螺帽、垫圈等之间的间隙更是不言而喻,根本不可能清洗干净,残渣污垢、细菌繁殖、霉变、化学反应生成各种致癌物质,给人类造成潜在的严重危害。尽管锅盖上采用多阀措施,但由于各阀的通径都只有3-5毫米,很容易被食物堵塞引起爆炸。形密封圈对外不能全封闭固定在锅盖上,时常未到额定压力暴露部分就被冲出,造成烫伤人事故,而且由于不能限制密封圈的伸长,所以其使用寿命短。
人类盼望着一种新的压力锅出现。
发明目的
本发明的目的是提供一种安全易清洗的压力锅,其构造简单,而且能适应各种不同的热源。
技术解决方案
为达到上述目的,本发明采用了一种用金属制成的压力锅,主要由锅体、锅盖、平板密封圈、限压锥体组成,其特征在于:圆形拱顶锅盖的开口端内壁有一圈内径小外径大的凹槽,凹槽内的上表面与下环形平面相距一定距离,上表面与下环形平面以及凹槽内的外径弧形表面三者密闭与整个锅盖成一体,平板密封圈的一半镶嵌在凹槽内;锅盖的顶部开设一个内径φ10毫米以上的通孔,限压锥体从外往里插入通孔中,将其堵塞;锅体由一个圆桶体和一个位于圆桶体顶部开口处的圆环形外缘构成,圆桶体圆环形外缘的顶面是一个圆环形平面,圆环形外缘的外径和圆环形平面的外径相同,略小于锅盖下环形平面的内径。
将锅盖扣在锅体上并旋转一定角度,使锅盖上的上齿与锅体的下齿啮合,限压垫圈套在限压锥体上,弹簧丝压在限压锥体上。
优点或积极效果
就在这种特定的结构条件下,使本发明产生出积极的效果:<1>构造简单。现有的压力锅需多对上下齿啮合,本发明只要两对,原因是锅盖的密闭凹槽结构大大加强了锅盖的强度,使其不易产生形变。现有的锅盖上需安设诸多的阀,本发明的锅盖上只有一大孔一限压锥体;现有横截面形的密封圈不易制造,本发明横截面
Figure G2009101750589D00032
形的平板密封圈容易制造。<2>安全。现有技术的锅盖上尽管安设诸多的阀,但由于其每个阀的有效通径都在3-5毫米左右,特别容易被堵塞引起爆炸,本发明的锅盖上虽然只有一个孔,但其孔径一般都在16毫米左右,更令人放心的是限压锥体的尖端在锅盖内,既能有效地分解了由锅内压强产生的对锥体的排出压力又能确保在额定压力外永远不可能被堵塞。现有技术的密封圈对外只有部分被封在锅盖内,其余部分未被封闭暴露可见,这部分常常由于橡胶没有受到约束而未达到额定压力就被高温蒸汽冲出烫伤人,本发明的橡胶平板密封圈对外是全密闭的,不会出现这种现象。<3>密封效果好。现有技术的横截面
Figure G2009101750589D00033
形密封圈在压力作用下,
Figure G2009101750589D00034
形口张开,上帖锅盖端口环面,下帖锅体端口环面,其必须紧帖上下两个面,如因橡胶局部伸缩不均或锅盖与锅体略有错位它就无法帖平两个面因而造成密封不严。本发明的技术特征是:当压力锅工作状态时,锅盖凹槽的下环形平面与锅体端口处的环形平面在一个水平面上,且之间的距离只有0点几毫米,平板密封圈“架”在它们之间,平帖这两个平面,也就是说现有技术要密封两个面,而本发明技术只要密封一条线。<4>卫生。现有技术的锅盖上凹凸不平、孔隙繁多,密封圈沟槽狭窄,根本无法清洗干净,细菌繁殖、残渣霉变、化学反应生成各种如黄曲霉素、3.4苯并芘等致癌物质,本发明的锅体、锅盖、平板密封圈、限压锥体等每件都是里外光溜,每件都容易拆装、没有藏污纳垢之处。
本发明产生的积极效果主要是以上4条。
下面结合附图对本发明的实施例作进一步的描述。
图面说明
图1是本发明安全易清洗的压力锅实施例的总装图;
图2是本发明安全易清洗的压力锅说明书摘要附图;
图3是本发明安全易清洗的压力锅锅体部件图;
图4是本发明安全易清洗的压力锅锅盖部件图;
图5是本发明安全易清洗的压力锅限压锥体零件图;
图6是本发明安全易清洗的压力锅弹簧丝零件图;
图7是本发明安全易清洗的压力锅垫圈零件图;
图8是本发明安全易清洗的压力锅密封圈零件图。
实施方案
由图1可知,本发明主要是由锅体5和锅盖8两大部件组成。如图3所示,锅体5由一个圆桶体和一个位于圆桶体顶部开口处的圆环形外缘构成,圆环形外缘的顶面是一个圆环形平面15,圆环形外缘的外径和圆环形平面15的外径相同,略小于锅盖8下环形平面14的内径。圆桶体上部安设有用以将锅盖8跟锅体5结合的下齿17和下齿17′,下齿17和下齿17′的位置在一条水平连线上,对称分居锅体5圆桶体上部外壁两侧、圆环形外缘的下方。锅体5的圆桶体上部还安有手柄20和副手柄18,手柄20和副手柄18位置在一条水平连线上,对称分居锅体圆桶体上部外壁两侧、下齿17和下齿17′的下方。
如图1、图4、图8、图5、图6、图7所示,圆形拱顶锅盖8的开口端内壁有一圈内径小外径大的凹槽,凹槽内的上表面13与下环形平面14相距一定距离,上表面13与下环形平面14以及凹槽的外径弧形表面25三者密闭与锅盖8制成一体;平板密封圈9部分镶嵌在凹槽内;锅盖8的顶部开一个内径φ10毫米以上的通孔26,限压锥体10从锅盖8的外表面往里插入通孔26中,将其堵塞;锅盖8顶部外表面上固定一个挂钩23,当锅盖8离开锅体5时侧翻勾挂在锅体5的外缘上,以便使用。锅盖8的顶部外表面,上齿16′的上方还固定了一个上手柄19,弹簧丝11的闭合端用螺栓24固定在上手柄19上,敞口端两弹簧丝张开夹住限压锥体10的上圆柱往下弹压限压锥体10,垫圈12套在限压锥体10上。限压锥体10三圆柱中最大直径圆柱的上表面加工出斜面21和斜面22。
本发明彻底推翻了世界上传统的压力锅密封技术,结束了压力锅自发明以来330多年一直无法清洗干净,藏污纳垢、霉变致癌、密封圈被蒸汽冲出烫伤人以及因限压阀堵塞爆炸的历史,将对人类产生深远的影响。
以上仅是本发明的示范性实施例,并不代表请求专利保护的全部范围。

Claims (5)

1.一种用金属制成的压力锅,主要由锅体5、锅盖8、平板密封圈9、限压锥体10组成,其特征在于:圆形拱顶锅盖8的开口端内壁有一圈内径小外径大的凹槽,凹槽内的上表面13与下环形平面14相距一定距离,上表面13与下环形平面14以及凹槽的外径弧形表面25三者密闭与整个锅盖8制成一体;平板密封圈9部分镶嵌在凹槽内;锅盖8的顶部开一个内径Φ10毫米以上的通孔26,限压锥体10从锅盖8的外表面往里插入通孔26中,将其堵塞;锅体5由一个圆桶体和一个位于圆桶体顶部开口处的圆环形外缘构成,圆桶体圆环形外缘的顶面是一个圆环形平面15,圆环形外圆的外径和圆环形平面15的外径相同,略小于锅盖8下环形平面14的内径。
2.根据权利要求1所述的锅盖8,其特征在于:锅盖8顶部外表面上固定一个挂钩23,弹簧丝11直接或间接固定在锅盖8的外表面上,上齿16和上齿16′的位置在一条水平连线上,对称分居锅盖8端口处外侧,与锅盖8制成一体。
3.根据权利要求1所述的锅体5,其特征在于:下齿17和下齿17′的位置在一条水平连线上,对称分居锅体5圆桶体上部外壁、圆环形平面15的下方,与锅体5制成一体。
4.根据权利要求1所述的限压锥体10,其特征在于:限压锥体10插入锅盖8内的部分是圆锥体或棱形锥体。
5.根据权利要求1所述的平板密封圈9,其特征在于:平板密封圈9是由柔性材料制成至少有一个环形平面的圆环片。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103371727A (zh) * 2012-04-19 2013-10-30 成都骏元科技发展有限责任公司 一种饭煲的煲盖

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Addressee: Deng Daicuan

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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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