CN101538703A - 玻璃基板移载装置 - Google Patents
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Abstract
本发明一种玻璃基板移载装置，包含有一箱体，箱体的上壁面设有通透部，箱体的上壁面并设有一基板支撑组，由多个设于箱体内部上壁面的支撑件所构成，所述支撑件是相隔一预定距设置使二相邻支撑件之间的距离可供一玻璃基板容置，箱体内设有一RF电极组，由多个RF电极板所构成，一接地电极组，由多个接地电极板所构成，RF电极板与接地电极板相互交错间隔的设置于箱体内，并且相邻的RF电极板与接地电极板之间的距离可以容置一玻璃基板。
Description
技术领域
本发明涉及太阳能电池的制成，特别是太阳能电池的玻璃基板移载装置。
背景技术
在太阳能电池的制造过程中有一段程序是必须要将玻璃基板置入一真空腔室中进行化学气相沉积的加工动作，目前的做法都是采取一次一片的加工方式，也就是说在一片玻璃基板进行完化学气相沉积并由真空腔室取出后才会再放入另一片玻璃基板来进行化学气相沉积。这样的加工效率实际上并不高，因为真空腔室要保持一定的真空度就必须花时间在抽气上，而真空腔室每打开一次就必须要再花一次时间来抽气，虽然市面上有将真空腔室分成低真空、高真空等等不同的多段式真空腔室的做法，但是问题还是一样，真空腔室每打开一次就必须要再花一次时间来抽气。换言之，若要加工二十片玻璃基板则真空腔室就必须开启二十次然后抽气二十次，这样的做法是相当费工且秏时的。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一于一次化学气相沉积加工时可同时对多个玻璃基板进行化学气相沉积加工的玻璃基板移载装置。
为达成上述目的，本发明玻璃基板移载装置，包含有一箱体，前后端及底部则呈开通状态，该箱体的上壁面设有通透部，可供气体流通，该箱体的上壁面设有一基板支撑组，该基板支撑组是由多个设于该箱体内部上壁面的支撑件所构成，所述支撑件是相隔一预定距设置使二相邻支撑件之间的距离可供一玻璃基板容置，该箱体内设有一RF电极组，由多个(radio frequency electrode；RF electrode)电极板所构成，一接地电极组，由多个接地电极板所构成，该RF电极板与该接地电极板相互交错间隔的设置于该箱体内，并且相邻的RF电极板与该接地电极板之间的距离可以容置玻璃基板。
为了说明本发明的特征及功效，以下兹举一实施例配合图式详细说明如后。
附图说明
图1为本发明的立体图；
图2为本发明的端面示意图；
图3为图1中3-3剖线方向的剖视图。
【主要组件符号说明】
玻璃基板1 箱体10 横杆11
电极支架12 通透部13 绝缘件14
挡部15 支撑块16 滚动件17
基板支撑组20 支撑件21 抵面22
RF电极组30 RF电极板31 接地电极组40
接地电极板41
具体实施方式
如图1至图3所示，本发明玻璃基板移载装置，用于置入于一底部设有电极支架的真空腔室，该玻璃基板移载装置包含有：
一箱体10，呈长形，具有左右上三壁面，前后端及底部则呈开通状态，该箱体的后端设有多个横杆11，跨设于该箱体左右两壁面之间，该箱体的上壁面设有通透部13，可供气体流通，该箱体的上壁面并设有一基板支撑组20，该基板支撑组是由多个设于该箱体内部上壁面的支撑件21所构成，所述支撑件是沿该箱体的长轴方向设置，并且互相隔一预定距，除了最外侧的二支撑件之外，各支撑件的两侧皆具有一抵面22，可供玻璃基板依靠，二支撑件之间的距离可供一玻璃基板1容置。
一RF电极组30以及一接地电极组40，该RF电极组是由多个RF电极板31所构成，该接地电极组则由多个接地电极板41所构成，该RF电极板与该接地电极板是相互交错间隔的设置于该箱体10内，并且相邻的RF电极板31与该接地电极板41之间的距离可以供玻璃基板1进入。所述电极板的尺寸大小则大于玻璃基板的尺寸。该RF电极(射频电极)所提供的射频频率是介于1MHz至10GHz之间，然而较佳的范围可以在10MHz至3GHz，例如13.56MHz、40.68MHz或70MHz等。在本实施例中所述RF电极板31与所述接地电极板41皆分别以一端设置于一对应的支撑件21下方，而各电极板的另一端则在该箱体置入真空腔室后可与设于该真空腔室底部的电极支架12所预设的凹槽衔接，并且在每一RF电极板的底端皆设有一绝缘件14，以隔绝RF电极板与电极支架。
此外，为使玻璃基板1在放置时不会由该箱体10的后端向外脱出，各该电极板可于接近该箱体10后端处设一挡部15，所述挡部15可设于RF电极板31的后端或设于接地电极板41的后端，同时为增加每一玻璃基板1在设置时的稳定，除最外侧的二电极板外，在每一RF电极板及接地电极板下段的两侧各设有一支撑块16，使每一玻璃基板1在设置时上方与下方皆可以获得支撑。另外，为使玻璃基板1在进出该箱体时能更为平顺，所述电极板下方另设有多个滚动件17，所述滚动件可设于RF电极板31的下方或设于接地电极板41的下方，所述滚动件可以为滚轮或滚柱，在本实施例中为滚轮，使玻璃基板1的底缘可以依靠于所述滚动件17上以方便移进或移出该箱体10。
以本发明的箱体结构可以一次装载多个需要加工的玻璃基板，再将所述玻璃基板连同箱体同时一并的送入真空腔室中进行化学气相沉积的加工动作，如此一来，便可以让数个玻璃基板同时进行加工然后再将所述玻璃基板同时一并的移出腔室，以节省真空腔室的腔门重复开关的动作次数，并且也可以省下真空腔室关闭后必须进行抽气的次数与等等时间及能源的加工成本。
Claims (10)
1.一玻璃基板移载装置，其特征在于包含有：
一箱体，具有左右上三壁面，前后端及底部则呈开通状态，该箱体的上壁面设有通透部，供气体流通，该箱体的上壁面并设有一基板支撑组，该基板支撑组由多个设于该箱体内部上壁面的支撑件所构成，所述支撑件相隔一预定距设置，使二相邻支撑件之间的距离可供玻璃基板容置；
一RF电极组，由多个RF电极板所构成，一接地电极组，由多个接地电极板所构成，该RF电极板与该接地电极板相互交错间隔的设置于该箱体内，并且相邻的RF电极板与该接地电极板之间的距离可以容置玻璃基板。
2.依据权利要求1所述玻璃基板移载装置，其特征在于，所述RF电极板与所述接地电极板皆分别以一端设置于一对应的支撑件下方。
3.依据权利要求2所述玻璃基板移载装置，其特征在于，所述每一RF电极的底缘皆设有一绝缘件。
4.依据权利要求2所述玻璃基板移载装置，其特征在于，该箱体置入于一底部设有电极支架的真空腔室，各该电极板的另一端在该箱体置入真空腔室后则与设于该真空腔室底部的电极支架衔接。
5.依据权利要求1所述玻璃基板移载装置，其特征在于，所述各支撑件的两侧皆具有一抵面，供玻璃基板依靠。
6.依据权利要求1所述玻璃基板移载装置，其特征在于，所述每一RF电极板及接地电极板下段的两侧各设有一支撑块，使每一玻璃基板在设置时上方与下方皆可以获得支撑。
7.依据权利要求1所述玻璃基板移载装置，其特征在于，所述电极板下方另设有多个滚动件，使玻璃基板的底缘依靠于所述滚动件上以方便移进或移出该箱体。
8.依据权利要求7所述玻璃基板移载装置，其特征在于，各所述滚动件设于RF电极板下方。
9.依据权利要求7所述玻璃基板移载装置，其特征在于，各所述滚动件设于接地电极板下方。
10.依据权利要求1所述玻璃基板移载装置，其特征在于，各该电极板接近该箱体后端处设一挡部。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200810087340A CN101538703A (zh) | 2008-03-21 | 2008-03-21 | 玻璃基板移载装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200810087340A CN101538703A (zh) | 2008-03-21 | 2008-03-21 | 玻璃基板移载装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101538703A true CN101538703A (zh) | 2009-09-23 |
Family
ID=41122084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN200810087340A Pending CN101538703A (zh) | 2008-03-21 | 2008-03-21 | 玻璃基板移载装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101538703A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021109814A1 (zh) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 | 镀膜设备及其电极装置和应用 |
| WO2021218760A1 (zh) * | 2020-04-30 | 2021-11-04 | 苏州迈正科技有限公司 | 传送载板、真空镀膜设备及真空镀膜方法 |
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2008
- 2008-03-21 CN CN200810087340A patent/CN101538703A/zh active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021109814A1 (zh) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 | 镀膜设备及其电极装置和应用 |
| TWI755161B (zh) * | 2019-12-04 | 2022-02-11 | 大陸商江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司 | 鍍膜設備和鍍膜設備的工作方法及其電極裝置和應用 |
| WO2021218760A1 (zh) * | 2020-04-30 | 2021-11-04 | 苏州迈正科技有限公司 | 传送载板、真空镀膜设备及真空镀膜方法 |
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| PB01 | Publication | ||
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20090923 |