CN101513800A - 织物喷墨打印装置 - Google Patents

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王红
施敏超
杨鲲
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    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J3/00—Typewriters or selective printing or marking mechanisms characterised by the purpose for which they are constructed
    • B41J3/407—Typewriters or selective printing or marking mechanisms characterised by the purpose for which they are constructed for marking on special material
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Abstract

本发明打印机及其零部件，尤其涉及一种带有辐射加热装置的织物喷墨打印装置。它包括机架及设置在机架上的打印单元，以及设置在机架上的相对打印单元和机架往复移动的用于置放织物的托盘，所述机架上还设置用于对打印后的织物进行加热以固化打印的图文的辐射加热装置。本发明由于在机架上设置了辐射加热装置，因此可以对印花后的织物直接进行辐射加热，省去了现有技术中复杂、庞大而笨重的蒸汽加热设备，节约了成本。

Description

织物喷墨打印装置
技术领域
本发明打印机及其零部件，尤其涉及一种带有辐射加热装置的织物喷墨打印装置。
背景技术
现有的织物印花设备中，织物被印花后需另行经过蒸汽加热装置，以固化印在织物表面的图案，这种结构的缺陷是工艺复杂，控制难度大，且蒸汽加热机构具有较大的重量和体积。
发明内容
本发明的目的是提供一种织物喷墨打印装置，它包括机架及设置在机架上的打印单元，以及设置在机架上的相对打印单元和机架往复移动的用于置放织物的托盘，所述机架上还设置用于对打印后的织物进行加热以固化打印的图文的辐射加热装置。
上述辐射加热装置设置在靠近打印单元位置，且在托盘移动轨迹的正上方；所述辐射加热装置是卤素灯管、紫外线灯管、红外线灯管、电阻丝或钨丝灯管；灯管还设置有防护罩。
本发明由于在机架上设置了辐射加热装置，因此可以对印花后的织物直接进行辐射加热，省去了现有技术中复杂、庞大而笨重的蒸汽加热设备，节约了成本。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，本发明的织物喷墨打印装置包括机架1及设置在机架1上的打印单元2，以及设置在机架1上的相对打印单元2和机1架往复移动的用于置放织物的托盘3，所述机架1上还设置用于对打印后的织物进行加热以固化打印的图文的辐射加热装置4。
上述辐射加热装置4包括卤素灯管5，卤素灯管5上还设置防护罩6，紫外线灯管5设置在靠近打印单元2位置的机架1上，且在托盘移动轨迹的正上方。
实际中，辐射加热装置还可以是紫外线灯管、红外线灯管或钨丝灯管、电阻丝等。
本发明由于在机架上设置了辐射加热装置，因此可以对印花后的织物直接进行辐射加热，省去了现有技术中复杂、庞大而笨重的蒸汽加热设备，节约了成本。
由于辐射加热装置设置在托盘轨迹的正上方，因此可直接与打印工序衔接，实现了边打印边加热的效果；由于辐射加热装置带有防护罩，因此对环境不会有光污染，且防止了灰尘的落积，提高了辐射加热装置及整个织物喷墨印花设备的可靠性和试用寿命。

Claims (8)

1.一种织物喷墨打印装置，它包括机架及设置在机架上的打印单元，以及设置在机架上的相对打印单元和机架往复移动的用于放置被打印物的托盘，其特征在于，所述机架上还设置用于对打印后的被打印物进行加热以固化打印的图文的辐射加热装置。
2.根据权利要求1所述的织物喷墨打印装置，其特征在于所述辐射加热装置设置在靠近打印单元位置，且在托盘移动轨迹的正上方。
3.根据权利要求1或2所述的织物喷墨打印装置，其特征在于所述辐射加热装置是卤素灯管。
4.根据权利要求3所述的织物喷墨打印装置，其特征在于所述卤素灯管还设置有防护罩。
5.根据权利要求1或2所述的织物喷墨打印装置，其特征在于所述辐射加热装置是钨丝灯管。
6.根据权利要求1或2所述的织物织物喷墨打印装置，其特征在于所述辐射加热装置是红外线灯管。
7.根据权利要求1或2所述的织物喷墨打印装置，其特征在于所述辐射加热装置是紫外线灯管。
8.根据权利要求1或2所述的织物喷墨打印装置，其特征在于所述辐射加热装置是电阻丝。
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Date Code Title Description
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20090826