CN101382651B - 触控式电润湿显示装置、触控式电路基板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种触控式电润湿显示装置、触控式电路基板以及触控式电路基板的制造方法。该触控式电路基板包括一透明基底、多个薄膜晶体管结构及一电容式触控结构。该透明基底包括两相对表面。该多个薄膜晶体管结构设置在该第二表面上。该电容式触控结构与该薄膜晶体管包括多条第一导电电极与多条第二导电电极。该多条第一导电电极相互平行设置在该第一表面。该多条第二导电电极相互平行设置在该第二表面上，且与该第一导电电极绝缘相交。该第一导电电极、该第二导电电极与夹在其间的透明基底构成多个感应电容。该触控式电润湿显示装置与该触控式电路基板均具有触控功能，该触控式电路基板的制造方法则用来制造该触控式电路基板。

Description

触控式电润湿显示装置、触控式电路基板及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种触控式电路基板、触控式电路基板的制造方法以及使用该触控式电路基板的触控式电润湿显示装置(Electro-wetting Display Device)。
背景技术
目前，诸多光电技术正在快速的发展且应用在下一代平板显示器上，如投影显示器(Projection Display)、可挠式显示器(Flexible Display)等。在此环境下，一种基于电湿润原理的电润湿显示装置由于其响应速度快、视角广、耗电量小、轻薄便携等优点而受到广泛的关注。
请参阅图1，是一种现有技术电润湿显示装置处于暗态时的截面结构示意图。该电润湿显示装置10包括相对设置的一第一基板11与一第二基板18以及位于该第一基板11与该第二基板18间的第一流体13、第二流体12、一疏水性绝缘层15、多个隔绝墙(Pixel Wall)16及一矩阵电路层17。该矩阵电路层17设置在该第二基板18表面，其包括多个像素电极14与多个薄膜晶体管(图未示)。该多个像素电极14呈矩阵状设置在该第二基板18表面，且与该薄膜晶体管对应电连接。该疏水性绝缘层15覆盖该矩阵电路层17。该多个隔绝墙16呈格状设置在该疏水性绝缘层15表面上，由相邻隔绝墙16界定的最小区域定义为一像素区域R，且该多个像素区域R与该多个像素电极14对应设置。该第一流体13填充在相邻隔绝墙16之间，其材料通常为不透明彩油或类似十六烷的烷烃。该第二流体12填充在该第一流体13与该第一基板11之间，其为一与该第一流体13互不相溶的透明导电液体，可为水或者盐溶液，如水与乙醇混合物中的氯化钾(KCl)溶液。
分别施加电压至该第二流体12与该像素电极14，当该第二流体12与该像素电极14间的电压差小于临界电压时，该第二流体12与该第一流体13层叠设置，且该第一流体13平坦设置在该疏水性绝缘层15上，此时，入射光被该第一流体13吸收，从而使该电润湿显示装置10的像素区域R处于暗态。
请一并参阅图2，是该电润湿显示装置10的一像素区域R处于亮态时的截面示意图。当该第二流体12与该像素电极14间的电压差大于临界电压时，该第二流体12的表面张力发生改变，其挤压该像素区域R内的第一流体13，使该第一流体13移向相邻的隔绝墙16一侧，入射光可自该第二流体12出射，从而使该电润湿显示装置10的相应像素区域R处于亮态。
然而，随着触控技术的日益盛行，越来越多的消费者均要求诸如移动电话、个人数字助理及自动终端处理机等电子信息设备能够具备触控功能，以加强人机接口间的互动功能。  因此，对在具备触控功能的电润湿显示装置的需求也应运而生。
发明内容
为了解决现有技术电润湿显示装置不具备触控功能的问题，有必要提供一种具有触控功能的触控式电路基板。
另外，为了解决现有技术电润湿显示装置不具备触控功能的问题，也有必要提供一种上述触控式电路基板的制造方法。
再者，为了解决现有技术电润湿显示装置不具备触控功能的问题，还有必要提供一种具触控功能的触控式电润湿显示装置。
一种触控式电路基板，其包括一透明基底、多个薄膜晶体管结构及一电容式触控结构。该透明基底包括相对的第一表面与第二表面。该多个薄膜晶体管结构设置在该透明基底的第二表面上。该电容式触控结构包括多条第一导电电极与多条第二导电电极，该多条第一导电电极相互平行设置在该透明基底的第一表面上，该多条第二导电电极相互平行设置在该透明基底的第二表面上，且与该第一导电电极绝缘相交，该多条第一导电电极、多条第二导电电极及夹在其间的透明基底构成多个感应电容。
一种触控式电润湿显示装置，其包括一承载基板、一触控式电路基板、一疏水性绝缘层、非导电的第一流体及导电的第二流体。该触控式电路基板与该承载基板相对设置，其包括一透明基底、多个薄膜晶体管结构及一电容式触控结构。该透明基底包括相对的第一表面与第二表面。该多个薄膜晶体管结构设置在该透明基底的第二表面上。该电容式触控结构包括多条第一导电电极与多条第二导电电极，该多条第一导电电极相互平行设置在该透明基底的第一表面上，该多条第二导电电极相互平行设置在该透明基底的第二表面上，且与该第一导电电极绝缘相交，该多条第一导电电极、多条第二导电电极及夹在其间的透明基底构成多个感应电容。该疏水性绝缘层覆盖该触控式电路基板。该非导电的第一流体设置在该疏水性绝缘层与该承载基板之间。该导电的第二流体与该第一流体互不相溶，且设置在该第一流体与该承载基板之间。
一种触控式电路基板，其包括一透明基底、多条平行排列的第一导电电极及多个像素区域。该透明基底包括相对设置的一第一表面与一第二表面。该第一导电电极设置在该透明基底的第一表面上。该多个像素区域呈矩阵状分布在该透明基底的第二表面上，每一像素区域包括一公共线、至少一第一绝缘层及一存储电容。该公共线与该第一导电电极相互垂直，并贯穿该像素区域。该至少一第一绝缘层覆盖该公共线。该存储电容包括一第二金属电极、至少一第二绝缘层及一像素电极。该第二金属电极对应该公共线设置在该第一绝缘层表面。该至少一第二绝缘层覆盖该第二金属电极表面。该像素电极，其设置在该像素区域内，并覆盖该第二绝缘层。该公共线也作为第二导电电极，该第二导电电极、该第一公共电极及夹在其间的透明基底构成一感应电容。
一种触控式电路基板的制造方法，其包括如下步骤：提供一透明基底，该透明基底包括相对设置的第一表面与第二表面，并界定有矩阵状分布的多个像素区域；在该第一表面形成多个平行排列的第一导电电极；每一像素区域对应的第二表面上依次形成：一栅极与一公共线，使两者分别设置在像素区域的两侧，且该公共线垂直该第一导电电极设置，其同时作为一第二导电电极；  至少一第一绝缘层，以覆盖该栅极、该公共线及该内表面；一第一半导体层，其对应该栅极设置在该第一绝缘层上；一源极、一漏极及一第二金属层，该源极与漏极相对设置在该半导体层上，该第二金属层与部分公共线对应设置在该第一绝缘层上。
一种触控式电路基板的制造方法，其包括如下步骤：提供一透明基底，该透明基底包括相对设置的第一表面与第二表面，并界定有矩阵状分布的多个像素区域；在该第一表面形成多条平行排列的第一导电电极；每一像素区域对应的第二表面上形成一薄膜晶体管与一垂直于该第一导电电极的公共线，该公共线同时作为一第二导电电极，从而使该公共线、该第一导电电极以及夹在其间的透明基底构成一感应电容，并在该公共线上形成一存储电容。
上述触控式电润湿显示装置、触控式电路基板及其制造方法将原本位于承载基板上用来控制像素区域明、暗态间切换的薄膜晶体管结构与一电容式触控结构整合在作为显示面的透明基底上，在无需增加显示器基板的前提下，即可实现具有电容式触控功能的触控式电润湿显示装置，同时，也提供一种可适用在其它具有主动矩阵电路显示装置上的触控式电路基板。
附图说明
图1是一种现有技术电润湿显示装置处于暗态时的截面结构示意图。
图2是图1所示电润湿显示装置的一像素区域处于亮态的截面示意图。
图3是本发明触控式电润湿显示装置一较佳实施方式的一像素区域处于暗态时的结构示意图。
图4是图3所示触控式电润湿显示装置的触控式电路基板的一像素区域的平面结构示意图。
图5是图4沿V-V方向的剖视放大图。
图6是图4沿VI-VI方向的剖视放大图。
图7是图3所示触控式电润湿显示装置的等效电路图。
图8是图4所示触控式电路基板制造方法的步骤流程图。
图9至图13是图8所示触控式电路基板制造方法各步骤的示意图。
具体实施方式
请参阅图3，是本发明触控式电润湿显示装置一较佳实施方式的一像素区域处于暗态时的结构示意图。该触控式电润湿显示装置20包括一透明承载基板21、一触控式电路基板22、一疏水性绝缘层23、多个隔绝墙24、不透光的第一流体25以及透光的第二流体26。该透明承载基板21与该触控式电路基板22相对设置，且该触控式电路基板22为一具有构成电容式触控结构的触控元件(图未示)以及用来控制电润湿显示装置处于亮态与暗态的控制元件(图未示)的透明基板。该疏水性绝缘层23覆盖该触控式电路基板22邻近该透明承载基板21表面，其材料为斥水性的透明非晶态含氟聚合物，如AF1600。该多个隔绝墙24呈格状设置在该疏水性绝缘层23上，其相邻隔绝墙24界定的最小区域定义为一像素区域P。该第一流体25均匀分布在像素区域P内的该疏水性绝缘层23上，其材料可为彩油或类似十六烷的烷烃。该第二流体26填充在该第一流体25与该透明承载基板21之间，其为一与该第一流体25互不相溶的透明导电液体，可为水或者盐溶液，如水与乙醇混合物中的氯化钾溶液。
请一并参阅图4、图5及图6，图4是该触控式电润湿显示装置20的触控式电路基板22的一像素区域P的平面结构示意图，图5是图4沿V-V方向的剖视放大图，图6是图4沿VI-VI方向的剖视放大图。该触控式电路基板22包括一透明基底220、多条设置在该透明基底220第二表面且水平排列的扫描线231、多条与该扫描线231垂直绝缘相交的数据线232、多条公共线233以及对应该多条数据线232设置在该透明基底220第一表面上的多条驱动线234。该驱动线234作为该触控式电润湿显示装置20沿Y方向的第一导电电极。该多条公共线233相互平行，且分别设置在相邻两扫描线231之间，其也作为该触控式电润湿显示装置20沿X方向的第二导电电极，则该公共线233、该驱动线234以及夹在两者间的透明基底220形成实现触控功能的感应电容Csense。该感应电容Csense、该公共线233以及该驱动线234构成一电容式触控结构。
该数据线232与该扫描线231相交构成的最小区域与该像素区域P对应设置。每一像素区域P对应包括一薄膜晶体管240、一像素电极250、一第二绝缘层246及一二极管260。
该薄膜晶体管240设置在远离该公共线233一侧的数据线232与该扫描线231相交处，每一薄膜晶体管240包括一栅极241、一第一绝缘层242、一第一半导体层243、一源极244及一漏极245。该栅极241设置在该透明基底220的第二表面上，其与该扫描线231相连。该第一绝缘层242覆盖该栅极241、该公共线233以及该透明基底220的第二表面。该第一半导体层243设置在该栅极241对应的第一绝缘层24 表面。该源极244连接至该数据线232，并与该漏极245相对设置在该第一半导体层243两侧。
该二极管260对应该公共线233设置，其包括一第一金属电极261、一第二绝缘层262、一第二半导体层263、一第二金属电极264及一第一连接孔265。该第一金属电极261为公共线233的一部分，其被该第一绝缘层242覆盖。该第一连接孔265贯穿该第一绝缘层242设置在邻近该像素区域P边缘处。该第二金属电极264对应该第一金属电极261设置在该第一绝缘层242表面，其经由该第一连接孔265与该第一金属电极261实现电连接，可与该薄膜晶体管240的源极244与漏极245在同一道制造步骤中形成。该第二金属电极264具有一开口268。该第二半导体层263设置在该开口268处的第一绝缘层242上，位于该开口268两侧的第二金属电极264与该第二半导体263部分交叠，从而通过该第二半导体层263实现电连接，其中，与该第一连接孔265相连的第二金属电极264部分作为该二极管260的阳极，另一部分则作为该二极管260的阴极。
该第二绝缘层246覆盖该薄膜晶体管240，并延伸覆盖该第一绝缘层242与该二极管260表面，用来保护该薄膜晶体管240与该二极管260，且在该漏极245对应处具有一贯穿该第二绝缘层246的第二连接孔247。该像素电极250覆盖该漏极245对应的第二绝缘层246，并延伸覆盖该二极管260的阴极表面，且该像素电极250经由该第二连接孔247与该漏极245实现电连接。同时，该像素电极250、该第二金属电极264及夹在两者间的第二绝缘层262构成一存储电容Cst。
请参阅图7，是该触控式电润湿显示装置20的等效电路图。持续加载一公共电压至该第二流体26，经由该扫描线231传送的扫描电压控制该薄膜晶体管240的导通与截止，当该薄膜晶体管240导通时，数据电压依次经由该数据线232、该薄膜晶体管240的源极244、漏极245施加至该像素电极250，当该像素电极250与该第二流体26间的电压差小于一临界电压时，该第一流体25与第二流体26层叠设置，从而使入射光被该第一流体25所吸收，该触控式电润湿显示装置20处于暗态。反之，当该像素电极250与该第二流体26间的电压差大于该临界电压时，该第二流体26挤压该第一流体25，使其汇聚至该薄膜晶体管240所在处，从而使入射光经由该第二流体26通过，则该触控式电润湿显示装置20的相应像素区域P工作于亮态。
同时，利用外部控制电路使作为电容式触控结构沿Y方向的第二导电电极的公共线233以及作为X方向的第一导电电极的驱动线234交替进行扫描，当未有任何触碰动作时，该触控式电路基板22各像素区域P的感应电容Csense的电容值一定；而当用手指或其它触控元件(如，触控笔)触碰该触控式电路基板22时，手指或其它触控元件与该电容式触控结构产生一触碰电容(图未示)，该触碰电容使得触碰区域的感应电容Csense电容值发生变化，从而确定出触压区域的位置。由在该公共线233作为电容式触控结构的第二导电电极，当该公共线233在扫描时，该扫描信号使该二极管260导通，使该扫描信号加载至该存储电容Cst的一电极端，即该二极管260的第二金属电极264上，从而为该存储电容Cst提供一公共电压准位；当该公共线233暂停扫描时，该二极管260截止，从而保持该存触电容Cst维持该公共电压准位而不受影响。
请参阅图8，是该触控式电路基板22制造方法的步骤流程图。该触控式电路基板22制造方法包括如下步骤：
步骤S1，提供一透明基底220，在该透明基底220上形成多条平行排列的驱动线234。
该透明基底220包括两相对的第一表面与第二表面，利用涂布法或溅镀法形成一透明电极层在该透明基底220的第一表面上，利用一道黄光及刻蚀制造工艺处理该透明电极层，从而形成多条平行排列的驱动线234，该透明电极层的材料可为氧化铟锡或氧化铟锌。
步骤S2，翻转该透明基底220，在该透明基底220的第二表面上一并形成栅极241与第一金属电极261。
如图9所示，在该透明基底220的第二表面上镀上一金属层，经由黄光与刻蚀制造工艺，图案化该金属层，从而形成岛状的栅极241与条状的第一金属电极261。该金属层的材料可为钼(Mo)、钛(Ti)金属或钼铝钛合金。
步骤S3，形成一覆盖该栅极241、该第一金属电极261的第一绝缘层242，其中，该第一绝缘层242的材料可为氧化硅(SiO2)。
步骤S4，形成一第一连接孔265。
如图10所示，利用一道黄光与刻蚀制造工艺在邻近该第一金属电极261边侧处形成一贯穿该第一绝缘层242的第一连接孔265，从而在该第一连接孔265处曝露出部分第一金属电极261。
步骤S5，形成一第一半导体层243与一第二半导体层263在该第一绝缘层242的预定位置处。
如图11所示，利用化学气相沉积法在该第一绝缘层242表面依次形成一非晶硅薄膜与n型非晶硅薄膜，再利用一黄光与刻蚀制造工艺图案化该非晶硅薄膜与n型非晶硅薄膜，从而在该栅极241对应位置处形成该第一半导体层243，在邻近该第一连接孔265的第一绝缘层242上形成该第二半导体层263。
步骤S6，在预定位置处形成一源极244、一漏极245及一第二金属电极264，从而构成一薄膜晶体管240与一二极管260。
如图12所示，利用溅镀法形成一第二金属层以覆盖形成有该第一半导体层243、该第二半导体层263及该第一连接孔265的透明基底220，再利用一道黄光与刻蚀制造工艺图案化该第二金属层，从而在该第一半导体层243处形成两相对设置的源极244与漏极245，且该源极244、漏极245与该第一半导体层243部分交叠，从而构成一薄膜晶体管240。同时，在该第二半导体层263两侧形成第二金属电极264，该第二金属电极264也与该第二半导体层263部分交叠且填充该第一连接孔265，从而构成一二极管260，且与该第一连接孔265相连的部分第二金属电极264作为该二极管260的阳极，另一部分第二金属电极264则作为该二极管260的阴极。
步骤S7，形成一第二绝缘层246以覆盖具有该薄膜晶体管240与该二极管260的透明基底220。
如图13所示，利用化学气相沉积法形成一覆盖上述结构的绝缘材料层，再利用一道黄光刻蚀制造工艺图案化该绝缘材料层，形成覆盖该薄膜晶体管240、该第一绝缘层242以及该二极管260的第二绝缘层246，其材料可为氮化硅(SiNx)。
步骤S8，形成一第二连接孔247与一像素电极250，从而构成具有电容式触控功能的触控式电路基板22。
利用一道黄光刻蚀制造工艺图案化处理该第二绝缘层246，从而在该漏极245对应处形成一贯穿该第二绝缘层246的第二连接孔247，最后利用一薄膜模组溅镀一透明电极材料，再以黄光及刻蚀制造工艺图案化该透明电极材料，从而在该漏极245对应的第二绝缘层246、该第一绝缘层242及该二极管260的阴极形成像素电极250，构成如图6所示的触控式电路基板22。
上述触控式电润湿显示装置20与触控式电路基板22将原本位于透明承载基板21上用在控制像素区域P明、暗态间切换的薄膜晶体管结构与一电容式触控结构整合在作为观察面的透明基底220上，在无需增加显示器基板的前提下，即可实现具有电容式触控功能的触控式电润湿显示装置20，同时，也提供一种具有电容式触控功能的触控式电路基板22以及该触控式电路基板22的制造方法。
上述触控式电路基板22也可用在其它具有薄膜晶体管结构的主动式显示装置上，如薄膜晶体管液晶显示器(TFT LCD)上。

Claims (31)

1.一种触控式电路基板，其包括一透明基底，该透明基底包括相对的第一表面与第二表面，其特征在于：该触控式电路基板进一步包括多个薄膜晶体管结构与一电容式触控结构，该多个薄膜晶体管结构设置在第二表面上，该电容式触控结构包括多条第一导电电极与多条第二导电电极，该多条第一导电电极相互平行设置在该透明基底的第一表面上，该多条第二导电电极相互平行设置在该透明基底的第二表面上，且与该第一导电电极绝缘相交，该多条第一导电电极、多条第二导电电极及夹在其间的透明基底构成多个感应电容。
2.如权利要求1所述的触控式电路基板，其特征在于：该触控式电路基板进一步包括设置在该第二表面上的多条水平排列的扫描线，多条与该扫描线垂直绝缘相交的数据线，该多个薄膜晶体管结构设置在该数据线与该扫描线相交处。
3.如权利要求2所述的触控式电路基板，其特征在于：该触控式电路基板进一步包括多条公共线，该多条公共线分别设置在相邻两扫描线之间，且远离该薄膜晶体管结构一侧，该电容式触控结构的第二导电电极为该公共线的一部分。
4.如权利要求2所述的触控式电路基板，其特征在于：该多条第一导电电极与该多条数据线对应设置。
5.如权利要求1所述的触控式电路基板，其特征在于：该触控式电路基板进一步包括多个二极管，该多个二极管设置在该第二导电电极上。
6.如权利要求5所述的触控式电路基板，其特征在于：该二极管包括一第二半导体层与一第二金属电极，该第二金属电极与该第二导电电极，且该第二金属电极包括一开口，位于该开口两侧的第二金属电极通过该第二半导体层相连。
7.如权利要求6所述的触控式电路基板，其特征在于：该第二金属电极与该第二导电电极之间进一步包括一第一绝缘层。
8.如权利要求7所述的触控式电路基板，其特征在于：该第一绝缘层上具有一连接该第二金属电极与该第二导电电极的连接孔。
9.如权利要求8所述的触控式电路基板，其特征在于：该薄膜晶体管结构包括一栅极、一源极、一漏极及一第一半导体层，该栅极设置在该透明基底第二表面，该第一绝缘层延伸覆盖该栅极，该第一半导体层设置在该栅极对应的第一绝缘层表面，该源极与该漏极相对设置，且与该第一半导体层部分交叠。
10.如权利要求9所述的触控式电路基板，其特征在于：该触控式电路基板进一步包括一像素电极，该像素电极与该漏极相连，并设置在未与该第二导电电极电连接的部分第二金属电极上。
11.如权利要求10所述的触控式电路基板，其特征在于：第二金属电极与该像素电极间进一步包括一第二绝缘层。
12.如权利要求11所述的触控式电路基板，其特征在于：该第二金属电极、该像素电极及夹在两者间的第二绝缘层构成一存触电容。
13.一种触控式电润湿显示装置，其包括一承载基板、一触控式电路基板、一疏水性绝缘层、非导电的第一流体及导电的第二流体，该触控式电路基板与该承载基板相对设置，该疏水性绝缘层覆盖该触控式电路基板，该第一流体设置在该疏水性绝缘层与该承载基板之间，该第二流体与该第一流体互不相溶，且设置在该第一流体与该承载基板之间，其特征在于：该触控式电路基板为权利要求1至12中任意一项所述的触控式电路基板，且该触控式电路基板的透明基底的第二表面朝向该承载基板设置。
14.一种触控式电路基板，其包括一透明基底，该透明基底包括相对设置的一第一表面与一第二表面，其特征在于：该触控式电路基板进一步包括多条平行排列的第一导电电极与多个像素区域，该多条第一导电电极设置在该透明基底的第一表面，该多个像素区域呈矩阵状分布在该透明基底上，每一像素区域包括一公共线、至少一第一绝缘层及一存储电容，该公共线与该第一导电电极相互垂直，并贯穿该像素区域设置在该第二表面上，其同时作为第二导电电极，该至少一第一绝缘层覆盖该公共线，该存储电容包括一第二金属电极、至少一第二绝缘层及一像素电极，该第二金属电极对应该公共线设置在该第一绝缘层表面，该至少一第二绝缘层覆盖该第二金属电极表面，该像素电极设置在该像素区域内，并且覆盖该第二绝缘层，该公共线、该第一导电电极及夹在其间的透明基底构成一感应电容。
15.如权利要求14所述的触控式电路基板，其特征在于：该触控式电路基板进一步包括一二极管，该二极管对应该公共线设置。
16.如权利要求15所述的触控式电路基板，其特征在于：该二极管包括一第二半导体层与一第二金属电极，该第二金属电极设置在该第二导电电极上方，且该第二金属电极包括一开口，位于该开口两侧的第二金属电极通过该第二半导体层相连。
17.如权利要求16所述的触控式电路基板，其特征在于：该第二金属电极与该第二导电电极之间进一步包括一第一绝缘层。
18.如权利要求17所述的触控式电路基板，其特征在于：该第一绝缘层上具有一连接该第二金属电极与该第二导电电极的连接孔。
19.一种触控式电路基板的制造方法，其特征在于：该触控式电路基板包括如下步骤：提供一透明基底，该透明基底包括相对设置的一第一表面与一第二表面，并界定有矩阵状分布的多个像素区域；在该第一表面形成多条平行排列的第一导电电极；在每一像素区域对应的第二表面上依次形成：一栅极与一公共线，使该栅极与该公共线分别设置在像素区域的两侧，且该公共线垂直该第一导电电极设置，其同时作为一第二导电电极；至少一第一绝缘层，以覆盖该栅极、该公共线及该第二表面；一第一半导体层，其对应该栅极设置在该第一绝缘层上；一源极、一漏极及一第二金属层，该源极与漏极相对设置在该第一半导体层上，该第二金属层与部分公共线对应设置在该第一绝缘层上。
20.如权利要求19所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：该触控式电路基板的制造方法进一步包括在每一像素区域中形成一二极管的步骤，该二极管的制造方法步骤包括：形成该第一半导体层同时，在部分公共线对应的第一绝缘层表面形成一第二半导体层；形成该第二金属层同时，图案化该第二金属层，使其在该第二半导体层对应处形成一开口，且位于该开口两侧的第二金属层与该第二半导体层部分交叠。
21.如权利要求20所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：在形成该第一绝缘层的步骤后，进一步包括形成一贯穿该第一绝缘层的第一连接孔的步骤，设置在该开口两侧的第二金属层通过该第一连接孔与该公共线连接。
22.如权利要求21所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：在形成该第二金属层后，进一步包括在该源极、该漏极、该第一半导体层、该二极管以及该第一绝缘层表面形成一第二绝缘层的步骤。
23.如权利要求22所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：在形成该第二绝缘层后，进一步包括在该漏极对应处形成一贯穿该第二绝缘层的第二连接孔的步骤。
24.如权利要求23所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：在形成该第二连接孔后，进一步包括形成一像素电极，并使该像素电极形成在该漏极与部分第二金属层对应的第二绝缘层表面，并通过该第二连接孔与该漏极电连接。
25.一种触控式电路基板的制造方法，其特征在于：该触控式电路基板的制造方法包括如下步骤：提供一透明基底，该透明基底包括相对设置的一第一表面与一第二表面，并界定有矩阵状分布的多个像素区域；在该第一表面形成多条平行排列的第一导电电极；每一像素区域对应的第二表面上形成：一薄膜晶体管与一垂直在该第一导电电极的公共线，该公共线同时作为一第二导电电极，从而使该公共线、该第一导电电极以及夹在其间的透明基底构成一感应电容，并在该公共线上形成一存储电容。
26.如权利要求25所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：形成该薄膜晶体管结构进一步包括如下步骤：形成一栅极，其与该公共线一并形成在第二表面上；形成一第一绝缘层，以覆盖该栅极、该公共线及该第二表面；形成一第一半导体层，在该栅极对应的第一绝缘层上；及形成一源极与一漏极，并使两者相对设置在该第一半导体层上。
27.如权利要求26所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：该存储电容的制造方法步骤包括：形成一第二金属层在部分公共线对应的第一绝缘层上；形成一第二绝缘层在该第二金属层上；及形成一像素电极在部分漏极与部分第二绝缘层对应的第二绝缘层上，从而使该第二金属层、像素电极以及夹在其间的第二绝缘层构成该存储电容。
28.如权利要求27所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：该第二金属层与该薄膜晶体管的源极与漏极在同一道制造工艺中形成。
29.如权利要求28所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：在形成该第一绝缘层的步骤后，进一步包括形成一贯穿该第一绝缘层的第一连接孔的步骤。
30.如权利要求29所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：形成该存储电容与该薄膜晶体管结构的同时进一步包括形成一二极管的步骤，该二极管与该存储电容相连，其制造方法步骤包括：在部分公共线对应的第一绝缘层表面形成一第二半导体层；在该第二半导体层对应的第二金属层上形成一开口，并使位于开口两侧的第二金属层与该第二半导体层部分交叠，且该第二金属层填充该第一连接孔与该公共线相接触。
31.如权利要求30所述的触控式电路基板的制造方法，其特征在于：该第二半导体层与该第一半导体层在同一道制造方法中形成。
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