CN101349579A - 测量系统的校正装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种测量系统的校正装置，该校正装置包括：传感器，用于捕捉测量系统中的干涉光并形成明暗条纹；影像分析模块，对干涉光形成的明暗条纹的偏差方向进行计算；控制模块，根据影像分析模块的计算值对测量系统中的偏差元件进行偏差量的校正。采用本发明的测量系统的校正装置能对测量系统中的参考镜进行校正，避免产生测量误差。

Description

测量系统的校正装置
技术领域
本发明涉及一种测量系统的校正装置，特别涉及测量系统中的参考镜的校正装置。
背景技术
半导体测量系统的自动对焦系统通常采用垂直光路光学干涉的原理进行图形对焦行为。首先把一个光源发出的光束分为两束，然后再使它们相遇并满足一定条件：(1)两束光的频率相同；(2)两束光的振动方向相同；(3)在叠加出两束光的振动有恒定的位相差的两列相干光波相遇叠加，在叠加区域某些点的光振动始终加强，某些点的光振动始终减弱，即在干涉区域内振动强度有稳定的空间分布。一束光到达被测物后反射，另一束光到达参考镜后反射。通过电荷耦合装置(Charge Coupled Device，CCD)相机的捕捉上述反射的两束光影像并进行灰度分析，决定最佳焦平面。
参考镜的位置是干涉中的关键环节，作用是对其中一束光做反射，但是参考镜的位置有可能产生移动，移动后与原始的安装位置存在偏差，通常无法直接被发现，更不能进一步判断是X或者Y方向的位置偏差。由于上述的偏差会使最佳焦平面不准确，从而影响半导体测量结果。
发明内容
本发明的目的在于提供一种测量系统的校正装置，通过该校正装置能对测量系统中的偏差元件进行校正，避免产生测量误差。
为了达到所述的目的，本发明提供了一种用于测量系统的校正装置，该校正装置包括：传感器，用于捕捉测量系统中的干涉光并形成明暗条纹；影像分析模块，对干涉光形成的明暗条纹的偏差方向进行计算；控制模块，根据影像分析模块的计算值对测量系统中的偏差元件进行偏差量的校正。
在上述的测量系统的校正装置，所述的传感器为电荷耦合装置。
在上述的测量系统的校正装置，所述的偏差元件为参考镜。
在上述的测量系统的校正装置，所述的测量系统包括光源，分光镜，物镜和参考镜；其中分光镜将光源发出的入射光分为两束光，一束光垂直入射光的传播方向通过物镜照射到被测对象，另一束光沿着入射光的传播方向照射到参考镜。
在上述的测量系统的校正装置，所述的分光镜到参考镜和到被测对象的距离相等。
在上述的测量系统的校正装置，所述的被测对象为晶圆。
在上述的测量系统的校正装置，所述的两束光的频率相同。
在上述的测量系统的校正装置，所述的两束光的振动方向相同。
在上述的测量系统的校正装置，所述的两束光的振动有恒定的位相差。
本发明由于采用了上述的技术方案，使之与现有技术相比，具有以下的优点和积极效果：通过该校正装置能对测量系统中的参考镜进行校正，避免参考镜的移动所产生的测量误差，可以做到实时调整，保证对焦质量。
附图说明
本发明的测量系统的校正装置由以下的实施例及附图给出。
图1为本发明的校正装置与测量系统示意图；
图2A、2B为CCD测得的X、Y方向二维灰度影像图。
具体实施方式
以下将对本发明的校正装置作进一步的详细描述。
测量系统包括一光源1；一分光镜2，该分光镜2将光源1发出的入射光分为两束光；一物镜3，一束光垂直入射光的传播方向通过物镜3照射到被测对象4上，该被测对象4为晶圆；一参考镜5，另一束光沿着入射光的传播方向照射到参考镜5；上述两束光在晶圆4和参考镜5上被反射并沿原光路再经过分光镜2，向上形成干涉光，干涉光最后形成明暗条纹。本发明的测量系统的校正装置包括一传感器6，该传感器6为电荷耦合装置(CCD)6，CCD6捕捉上述干涉光，也就是反射的两束光影像并形成明暗条纹；影像分析模块7，对明暗条纹的偏差方向进行计算，确定最佳平面，实现自动对焦；控制模块8，根据影像分析模块7的计算值对参考镜位置进行偏差量(X、Y方向)的校正。
其中，从分光镜2发出的两束光满足以下条件：(1)两束光的频率相同；(2)两束光的振动方向相同；(3)干涉条件：在叠加出两束光的振动有恒定的位相差。两列相干光波相遇叠加，在叠加区域某些点的光振动始终加强，某些点的光振动始终减弱，即在干涉区域内振动强度有稳定的空间分布。
为满足第(3)干涉条件--叠加出两束光的振动有恒定的位相差，要求分光镜2到参考镜5和到晶圆4的距离相等。相干光波相遇叠加，在叠加区域某些点的光振动始终加强，某些点的光振动始终减弱，即在干涉区域内振动强度有稳定的空间分布，再从CCD6影像上形成明暗相交替的竖状条纹，条纹的方向和明暗程度是可以和参考镜5的X，Y机械安装方向的偏差方向(X或Y)定性的对应。由分析模块7对明暗灰度进行判断，确定最佳平面，实现自动对焦。
图2A、2B为CCD测得的X、Y方向二维灰度影像，其中APOLM02曲线代表了参考镜5在X、Y方向的偏差，通过安装影像分析模块7，本发明根据理论基础，对参考镜的偏差进行计算，通过控制模块8，对参考镜5进行校正，也就是进行偏差量(XY方向)的相应调整，此时可以做到实时的调整，保证对焦质量。
以上介绍的仅仅是基于本发明的较佳实施例，并不能以此来限定本发明的范围，本发明还可以应用于其它类似校正装置。任何对本发明的校正装置作本技术领域内熟知的步骤的替换、组合、分立，以及对本发明实施步骤作本技术领域内熟知的等同改变或替换均不超出本发明的揭露以及保护范围。

Claims (9)

1、一种测量系统的校正装置，其特征在于，包括：传感器，用于捕捉测量系统中的干涉光并形成明暗条纹；影像分析模块，对干涉光形成的明暗条纹的偏差方向进行计算；控制模块，根据影像分析模块的计算值对测量系统中的偏差元件进行偏差量的校正。
2、如权利要求1所述的测量系统的校正装置，其特征在于：所述的传感器为电荷耦合装置。
3、如权利要求1所述的测量系统的校正装置，其特征在于：所述的偏差元件为参考镜。
4、如权利要求1所述的测量系统的校正装置，其特征在于：所述的测量系统包括光源，分光镜，物镜和参考镜；其中分光镜将光源发出的入射光分为两束光，一束光垂直入射光的传播方向通过物镜照射到被测对象，另一束光沿着入射光的传播方向照射到参考镜。
5、如权利要求4所述的测量系统的校正装置，其特征在于：所述的分光镜到参考镜和到被测对象的距离相等。
6、如权利要求4或5所述的测量系统的校正装置，其特征在于：所述的被测对象为晶圆。
7、如权利要求4所述的测量系统的校正装置，其特征在于：所述的两束光的频率相同。
8、如权利要求4所述的测量系统的校正装置，其特征在于：所述的两束光的振动方向相同。
9、如权利要求4所述的测量系统的校正装置，其特征在于：所述的两束光的振动有恒定的位相差。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104330021A (zh) * 2014-11-25 2015-02-04 中国科学院光电研究院 基于声光外差移相的平晶自标定共光路干涉仪
CN104764477A (zh) * 2014-01-08 2015-07-08 致茂电子(苏州)有限公司 具有在线校正功能的光学检测装置
CN106154762A (zh) * 2015-04-15 2016-11-23 上海微电子装备有限公司 一种干涉仪误差校准装置及校准方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104764477A (zh) * 2014-01-08 2015-07-08 致茂电子(苏州)有限公司 具有在线校正功能的光学检测装置
CN104764477B (zh) * 2014-01-08 2018-01-12 致茂电子(苏州)有限公司 具有在线校正功能的光学检测装置
CN104330021A (zh) * 2014-11-25 2015-02-04 中国科学院光电研究院 基于声光外差移相的平晶自标定共光路干涉仪
CN104330021B (zh) * 2014-11-25 2017-06-09 中国科学院光电研究院 基于声光外差移相的平晶自标定共光路干涉仪
CN106154762A (zh) * 2015-04-15 2016-11-23 上海微电子装备有限公司 一种干涉仪误差校准装置及校准方法
CN106154762B (zh) * 2015-04-15 2019-08-23 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种干涉仪误差校准装置及校准方法

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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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