CN101332371A - 印染废水处理用反冲洗自洁过滤器 - Google Patents

印染废水处理用反冲洗自洁过滤器 Download PDF

Info

Publication number
CN101332371A
CN101332371A CNA200810063764XA CN200810063764A CN101332371A CN 101332371 A CN101332371 A CN 101332371A CN A200810063764X A CNA200810063764X A CN A200810063764XA CN 200810063764 A CN200810063764 A CN 200810063764A CN 101332371 A CN101332371 A CN 101332371A
Authority
CN
China
Prior art keywords
filter
cleaning filter
material layer
filter material
self
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA200810063764XA
Other languages
English (en)
Inventor
龚先木
朱树军
申长远
张新华
李国丽
龚先国
龚涤铭
张修飞
沈钢星
李剑
Original Assignee
龚先木
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 龚先木 filed Critical 龚先木
Priority to CNA200810063764XA priority Critical patent/CN101332371A/zh
Publication of CN101332371A publication Critical patent/CN101332371A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Water Treatment By Sorption (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)

Abstract

一种印染废水处理用反冲洗自洁过滤器,属印染废水处理回用设备的制造技术领域,主要由自上而下依次设置的清水箱(1),虹吸管(2),上封盖(8),顶部带挡板(7)的进水管(6),滤料层(3),多孔滤头(4),底层清水区(10),置于滤料层(3)与反冲洗自洁过滤器(16)内壁之间分别与底层清水区(10)和清水箱(1)连通的出水区(11)等构成。设计合理,整体结构紧凑,通过滤料层滤料的多层过滤,将清污水中的悬浮物及胶体物质进行拦截过滤,过滤后的清污水由底层清水区至清水箱平稳自流至下一节工艺,能连续运行,当滤料层上的污泥层到一定厚度时,虹吸管自动将污泥层自动排出,处理效果明显。

Description

印染废水处理用反冲洗自洁过滤器
技术领域
本发明涉及一种印染废水处理用反冲洗自洁过滤器,属印染废水处理回用设备的制造技术领域。
背景技术
印染行业是工业排水行业中的大户,所排放的废水数量大、有机污染物含量高、色度深、碱性大、可生化性较差,属于难处理的工业废水之一。近年来,随着新型化学纤维、仿真丝、印染整理技术的发展,聚乙烯醇新型助剂等难生物降解有机物大量进入废水中,给废水处理增加了难度,使原有生物处理系统的去除效率明显降低。因为印染废水的上述特点,不仅使废水处理达标难度增大,处理成本增高,而且影响到废水的回用。近年来人们针对染色废水回用技术做了许多探索,现有与本发明相关的处理技术主要有:
1、印染及染色废水→混凝→气浮→砂滤→活性炭吸附→回用。该方案完全是物化技术的组合,能较有针对性地去除胶体物质,使出水达到回用要求,但不足之处主要是无法适应染色污水水质变化大的特点。
2、废水处理站出水→生物过滤→臭氧脱色→双层滤料过滤→阳离子交换树脂软化出水→回用。该方案是较为典型的各种处理方法的组合,不足之处在于运行成本偏高,在水源充足地区难以推广。
3、印染废水→加酸调节pH值→铁碳过滤→加碱中和→间歇式活性污泥法(SBR)→回用。铁碳过滤系统采用主要成分为铁和碳的废铁屑,经预处理和活化后可作为填料,该工艺优点是以废治废,运行稳定,不足之处是pH值必须来回调节测定。
4、二沉池出水→一级砂滤→ClO2氧化→二级过滤→活性炭→回用。该工艺操作简便,特别在色度去除上效果较好,但是该工艺的成本高,厂方必须拥有一定规模的印染废水处理工艺,而且该处理工艺的进水已经能够达标排放,具有一定的局限性。
发明内容
本发明的目的是提供一种设计合理,整体结构紧凑,处理效果好,节约能源的印染废水处理用反冲洗自洁过滤器。
本发明为印染废水处理用反冲洗自洁过滤器,其特征在于包括自上而下依次设置的清水箱,虹吸管,上封盖,顶部带挡板的进水管,滤料层,多孔滤头,底层清水区,滤料层与反冲洗自洁过滤器内壁之间设有分别与底层清水区和清水箱连通的出水区。
所述反冲洗自洁过滤器的底部还可设有放空口,用于检修应急时的排放。所述反冲洗自洁过滤器的侧面还可设有维修孔,用于维修并更换滤料。
本发明设计合理,整体结构紧凑。通过滤料层滤料的多层过滤,将清污水中的悬浮物及胶体物质进行拦截过滤,过滤后的清污水由底层清水区至清水箱平稳自流至下一节工艺,能连续运行,当滤料层上的污泥层到一定厚度时,虹吸管自动将污泥层自动排出,长期保证水质的清洁。处理效果明显,稳定,无需人工操作,保证水质效果。
将本发明与自动分流技术、移动床生物反应器、脱色氧化、高效净化等工序配套结合使用。可选择性地对印染废水进行深度处理并回用,处理效果好,经处理后的水质能达到回用水质要求,满足企业生产要求,净化所产生的污泥经板框压滤机处理后,干化污泥综合利用。经实际运行化学需氧CODcr≤100mg/L、浊度≤5度、色度≤15倍、PH:7-7.5。处理后的回用水用于前处理染色漂洗等各工序中,节能减排,减少取水量,节约水资源,保护自然资源。
附图说明
图1是本发明的正面结构剖视图;
图2是本发明的俯视结构示意图。
具体实施方式
本发明主要由自上而下依次设置的清水箱1,虹吸管2,上封盖8,顶部带挡板7的进水管6,滤料层3,多孔滤头4,底层清水区10,置于滤料层3与反冲洗自洁过滤器16内壁之间分别与底层清水区10和清水箱1连通的出水区11等构成;虹吸管2与污泥浓缩池相连接,底部的放空口5用于检修应急时的排放,侧面的维修孔9用于维修并更换滤料。
本发明的运行与印染车间生产操作同步进行,经前道工序处理后的清污水由进水管6进入上封盖8和滤料层3之间,通过滤料层3经多层过滤脱色吸附,滤料层3中的滤料采用石英砂、无烟煤、活性炭,除过滤外还有脱色的效果。其中压力到一定时,滤料层3自动将污泥自动反冲,清污水经多孔滤头4进行过滤后至底层清水区10、再由出水区11经清水箱1平稳自流至回用水池。当滤料层3上自动反冲的污泥层到一定厚度时,虹吸管2自动将污泥层排出,使滤料层3长期保持干净状态,保证处理效果,提高出水回用率,虹吸管2排出的污泥至污泥浓缩池综合利用。

Claims (3)

1、一种印染废水处理用反冲洗自洁过滤器,其特征在于包括自上而下依次设置的清水箱(1),虹吸管(2),上封盖(8),顶部带挡板(7)的进水管(6),滤料层(3),多孔滤头(4),底层清水区(10),滤料层(3)与反冲洗自洁过滤器(16)内壁之间设有分别与底层清水区(10)和清水箱(1)连通的出水区(11)。
2、按权利要求1所述的印染废水处理用反冲洗自洁过滤器,其特征在于所述反冲洗自洁过滤器的底部还设有放空口(5)。
3、按权利要求1所述的印染废水处理用反冲洗自洁过滤器,其特征在于所述反冲洗自洁过滤器的侧面还设有维修孔(9)。
CNA200810063764XA 2008-07-29 2008-07-29 印染废水处理用反冲洗自洁过滤器 Pending CN101332371A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA200810063764XA CN101332371A (zh) 2008-07-29 2008-07-29 印染废水处理用反冲洗自洁过滤器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA200810063764XA CN101332371A (zh) 2008-07-29 2008-07-29 印染废水处理用反冲洗自洁过滤器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101332371A true CN101332371A (zh) 2008-12-31

Family

ID=40195412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA200810063764XA Pending CN101332371A (zh) 2008-07-29 2008-07-29 印染废水处理用反冲洗自洁过滤器

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101332371A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107973487A (zh) * 2017-11-14 2018-05-01 东华大学 一种染整废水层级处理工艺及装置
CN110270132A (zh) * 2018-07-20 2019-09-24 何晴雪 一种甜叶菊糖液提取装置的使用方法
CN111558254A (zh) * 2020-04-07 2020-08-21 华东理工大学 一种去除制革及毛皮加工废水中短毛纤维的方法及系统

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107973487A (zh) * 2017-11-14 2018-05-01 东华大学 一种染整废水层级处理工艺及装置
CN110270132A (zh) * 2018-07-20 2019-09-24 何晴雪 一种甜叶菊糖液提取装置的使用方法
CN111558254A (zh) * 2020-04-07 2020-08-21 华东理工大学 一种去除制革及毛皮加工废水中短毛纤维的方法及系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101700943B (zh) 一种印染废水深度处理回用方法
CN101333055B (zh) 印染轻污染废水处理回用成套设备
CN105060636B (zh) 一种分质处理印染废水中水回用系统及工艺
CN104671502A (zh) 一种在线化学氧化动态膜废水处理系统
CN201280490Y (zh) 一种全膜法中水回用装置
CN204752397U (zh) 一种造纸废水深度处理系统
CN100484886C (zh) 废纸造纸废水的处理方法
CN113087314A (zh) 一种废水处理系统及处理工艺
CN102583651A (zh) 一种节水型超/微滤净化水装置
CN207596617U (zh) 一种工业废水净化处理装置
CN101332371A (zh) 印染废水处理用反冲洗自洁过滤器
CN201250159Y (zh) 印染轻污染废水处理回用成套设备
CN202751857U (zh) 污水过滤装置
CN201249059Y (zh) 印染废水处理用反冲洗自洁过滤器
CN107875708B (zh) 过滤管道及其过滤装置
CN203112611U (zh) 一种絮体膜与中空纤维膜结合的污水处理装置
CN204952387U (zh) 一种有效降低cod悬浮物ss的污水处理装置
CN211198965U (zh) 一种bio-lace接触曝气槽及其废水处理系统
CN211141755U (zh) 便捷集成式喷漆废水处理及回用系统
CN210150850U (zh) 一种污水循环处理装置
CN105152491A (zh) 制浆尾水回用及零排放预处理工艺
CN204625369U (zh) 印染废水的水回用装置
CN211004754U (zh) 一种膜生物反应净化装置
CN220834291U (zh) 一种降低膜处理系统进水浊度的砂滤池
CN219058773U (zh) 一种污水氮磷资源化处理装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20081231