CN101325908A - 使用参考传感器的组件阵列的用于金属伪影的补偿的电磁跟踪方法和装置 - Google Patents

使用参考传感器的组件阵列的用于金属伪影的补偿的电磁跟踪方法和装置 Download PDF

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Abstract

一种电磁跟踪方法，包括在感兴趣的区域(16)中生成电磁场(14)。响应所述电磁场附近金属伪影的出现，所述电磁场受到扭曲。具有预定的已知配置的参考传感器的阵列(30、50、102、104、110)置于所述感兴趣的区域附近。经由所述电磁场响应一个或多个所述参考传感器的激发来相对于所述电磁场生成器(12)确定所述参考传感器的阵列的第一组位置。不同于所述电磁场的第二机构(28)相对于所述第二机构确定所述参考传感器的阵列的至少一个或多个参考传感器的第二组位置的第一部分，所述第二机构与所述电磁场生成器成已知的空间关系。响应(i)使用所述第二机构确定的所述第二组位置的所述第一部分和(ii)所述参考传感器的阵列的所述预定已知的配置来确定所述参考传感器的阵列的所述参考传感器的所述第二组位置的其余部分。所述方法还包括作为所述参考传感器的阵列的所述第一和第二组参考传感器位置的函数补偿所述感兴趣的区域中的所述电磁场的金属扭曲。

Description

使用参考传感器的组件阵列的用于金属伪影的补偿的电磁跟踪方法和装置
本实施例总体涉及电磁跟踪方法和装置，并且更具体地，涉及使用参考传感器(reference sensor)的组件阵列的用于金属伪影的补偿的电磁跟踪方法和装置。
常规地使用图像导引来提高最低程度地入侵的医疗程序的输出。成像给医生提供到患者的解剖学上的观察。能够相对解剖学或功能图像示出针和导管的方位，以帮助医生更快和精确地定出其治疗目标。
电磁跟踪系统(EMT)用于通过在介入处周围建立小的电磁场来定位对象。EMT技术适于非线性视觉应用，诸如通过皮肤将活组织检查针插入到肝脏肿瘤中。尤其是，经由皮肤的肝脏活组织检查要求通过皮肤插入针并且瞄准到肿瘤的位置。医生能够使用CT数据作为解剖学路标以导引程序。在程序中，活组织检查针的方位能够重叠在图像上面以帮助医生操纵朝向肿瘤。
因为当针嵌入腹部时其尖端不可见，所以电磁跟踪系统(EMT)用于跟踪针的方位。简单的EMT包括场生成器和传感器线圈。线圈放置在针的尖端，在此其测量由场生成器产生的电磁场。此测量提供针相对于场生成器的空间位置。
不幸的是，金属对象扭曲EMT场，由此限制传感器的方位和方向测量的精度。金属伪影可以从患者台架、成像系统、或医疗仪器引起。尤其是，铁电和导电金属对象扭曲由EMT场生成器生成的电磁场。此扭曲影响由传感器线圈进行的测量，由此限制传感器的方位和方向测量的精度。
因此，期望用于克服本领域的问题的改进的方法和系统。
图1是根据本公开的实施例的电磁跟踪系统的框图视图；
图2是示例在根据本公开的实施例的电磁跟踪系统和方法的一配置中的参考传感器阵列的示意性视图；
图3是示例在根据本公开的另一实施例的电磁跟踪系统和方法的另一配置中的参考传感器阵列的示意性视图；
图4是示例根据本公开的实施例的接合到一起的不同配置的参考传感器的多阵列的示意性视图；
图5是包括根据本公开的实施例的接合到一起的不同配置的参考传感器的多阵列的电磁跟踪系统的框图视图；
图6是示例根据本公开的另一实施例的彼此物体上隔开的不同配置的参考传感器的多阵列的示意性视图；
图7是示例在根据本公开的另一实施例的另一配置中的参考传感器阵列的示意性视图；
图8是示例用于根据本公开的一个实施例的应用中使用的图7的参考传感器的阵列的示意性视图。
在附图中，类似的参考数字引用类似的元件。此外，应当注意，图可以不按比例绘制。
图1是根据本公开的实施例的特征为金属伪影的补偿的电磁跟踪系统10的框图视图。电磁场生成器12在感兴趣的区域中生成电磁场14，通常由参考数字16表示。电磁场生成器12参考固定的位置，如由参考数字13表示。响应电磁场和感兴趣的区域附近金属伪影(未示出)的出现，电磁场14受到扭曲。系统控制器18配置为确定要被作为金属扭曲补偿的电磁场的函数跟踪的传感器20的位置(传感器位于感兴趣的区域16内)，如于此进一步讨论的。
系统控制器18能够包括任何合适的计算机和/或传感器接口，控制器还可以被用合适的指令编程，以实现如于此关于执行用于电磁场跟踪的金属扭曲补偿而讨论的多种功能。系统控制器18可以包括多个输入/输出信号线，诸如22和24，例如，用于电子地耦合到电磁场跟踪系统10的其它元件。合适的显示设备26耦合到系统控制器18，例如，用于由系统操作员在给定的电磁跟踪应用中使用。此外，可以提供诸如输入/输出设备、指示设备等(未示出)的附加设备，这可能是用于给定的电磁跟踪应用的实施所必须的。
电磁跟踪系统10还包括第二跟踪机构28。第二跟踪机构28参考固定的位置，如由参考数字29表示的。在一个实施例中，系统控制器18的输入/输出22和24能够分别耦合到电磁场生成器12和第二跟踪机构28。第二机构28配置为确定第二机构28和电磁场生成器12之间的空间关系。在一个实施例中，第二机构28包括光学跟踪系统，适于针对给定的电磁跟踪应用提供期望的距离和位置信息，如于此讨论的。
在一个实施例中，参考传感器的阵列包括一个或多个组件阵列，每个组件阵列具有(i)预定的配置或形状和(ii)一个或多个参考传感器。例如，组件阵列能够包括具有半圆柱形状的阵列，半圆柱形状的阵列配置为与在患者的腹部或胸腔的一个或多个周围进行的介入一起使用。在另一范例中，组件阵列能够包括基本上平的面板阵列，平的面板阵列在预定的配置中包括一个或多个参考传感器，平的面板阵列还配置为放置在患者下面。在另一范例中，组件阵列能够包括具有笼子形状的阵列，笼子阵列配置为用于在患者的周边肢体中的介入。
图2是示例在根据本公开的实施例一配置30中的参考传感器阵列的示意性视图。参考传感器的阵列30能够嵌入期望形状的非金属材料内。非金属材料能够包括，例如，具有适于保持期望的形状的特性的任何合适的塑料。期望的形状能够包括，例如，如图2中所示的半圆柱形状。在图2的实施例中，参考传感器的阵列30能够包括一个或多个组件阵列32、34、36、38、40、42等，每一个组件阵列具有(i)预定的配置或形状和(ii)一个或多个参考传感器44。
从而参考传感器的阵列30的特征在于在给定的总体配置中的参考传感器的给定的总体数目。因此，利用安置至少两个传感器在总体配置内的知识，能够作为参考传感器的阵列的预定的配置信息的函数来确定针对传感器的其余部分的方位和位置信息。
图3是示例在根据本公开的另一实施例的另一配置50中的参考传感器阵列的示意性视图。参考传感器的阵列能够嵌入期望形状的非金属材料内。非金属材料能够包括，例如，具有适于保持期望的形状的特性的任何合适的塑料。期望的形状能够包括，例如，如图3中所示的基本平的面板形状。在图3的实施例中，参考传感器的阵列50能够包括一个或多个组件阵列52、54等，每一个组件阵列具有(i)预定的配置或形状和(ii)一个或多个参考传感器56。
因此，从而参考传感器的阵列50的特征在于在给定的总体配置中的参考传感器的给定的总体数目。因此，利用安置至少两个或更多个传感器在总体配置内的知识，能够作为参考传感器的阵列的预定的配置信息的函数来确定针对传感器的其余部分的方位和位置信息。
组件阵列还能够包括一个或多个预先制造的传感器阵列的组件部分。在该实施例中，组件部分还能够包括至少两个对准机构(registrationmechanism)，通常分别由图2和3的参考数字48和49表示。对准机构用于建立组件部分一起的预定的放置。此外，所述至少两个对准机构包括互锁机构。互锁机构用于将预定的布置中的两个或更多个组件阵列锁定在一起。作为将两个或更多个组件阵列锁定在一起的结果，互锁机构确保能够相对于电磁场生成器的安置执行参考传感器的阵列的位置的对准。
在一个实施例中，平的面板能够包括一块塑料，其长度尺寸跨越平均患者的胸腔和腹部，而宽度尺寸与CT或X射线台架的宽度相称。平的面板的厚度能够在近似地一厘米(1cm)的量级。平的面板制备有钻入到塑料中的孔穴，孔穴适于容纳与电磁跟踪系统一起使用的传感器。在一个实施例中，孔穴布置在具有一英寸的量级的名义的水平和垂直间隔的格栅形式中。以类似的方式，能够利用嵌入的参考传感器制造半圆柱的参考传感器的阵列30。半圆柱的阵列30还能够设置有铸模的轴柱，而平的面板50在塑料中设置有孔眼，以便两块塑料能够临时相对彼此固定，例如在患者周围。
图4是示例根据本公开的实施例的接合到一起的不同配置的参考传感器的多阵列(通常由参考数字60表示)的示意性视图。如图4中所示的参考传感器的阵列从而包括第一和第二参考传感器阵列，分别为30和50。第一参考传感器阵列30包括一个或多个参考传感器44的第一配置，而第二参考传感器阵列50包括一个或多个参考传感器56的第二配置。此外，第一参考传感器阵列30的配置能够与第二参考传感器阵列50的配置不同。
如图4中所示例，本公开的一个实施例可应用于肝脏活组织检查。平的面板阵列50配置为放置在患者的背部下面，患者通常以假想线由参考数字62表示。包括半圆柱阵列的另一阵列30配置为放置在患者的腹部周围。此外，平的面板阵列50期望用于包含金属元件的台架64中，其中台架64能够包括一个或多个X射线台架或CT台架。
图5是包括根据本公开的实施例的接合到一起的不同配置(30、50)的参考传感器的多阵列的电磁跟踪系统10的框图视图。至少一个参考传感器(30、50)的阵列置于感兴趣的区域附近，所述至少一个参考传感器的阵列具有预定已知的配置。在此实施例中，系统控制器18配置为经由电磁场14响应一个或多个参考传感器(44、56)的激发来相对于电磁场生成器12确定参考传感器(30、50)的阵列的第一组位置。第二机构28，不同于电磁场生成器12，相对于第二机构28确定参考传感器(30、50)的阵列的至少一个或多个传感器的第二组位置的第一部分。所述一个或多个传感器配置为提供对参考传感器的组件阵列的三维(3D)方向和方位的描述。此外，第二机构28与电磁场生成器12成已知的空间关系。系统控制器(18)响应(i)使用第二机构(28)确定的第二组位置的第一部分和(ii)参考传感器(30、50)的阵列的预定已知的配置来确定参考传感器(30、50)的阵列的参考传感器(44、56)的第二组位置的其余部分。此外，系统控制器18配置为用于作为参考传感器的阵列的第一和第二组参考传感器位置的函数执行对感兴趣的区域中的电磁场的金属扭曲的补偿。
对于CT导引的肝脏活组织检查，平的矩形阵列50放置在CT台架64之上。患者62应当安置在矩形阵列50之上。然后半圆柱阵列30应当放置在患者之上，并且确保其锁定到平的面板阵列50中。接下来，参考阵列(30、50)的位置对准到场生成器12的方位。在一个实施例中，利用能够看见参考传感器阵列(30、50)和场生成器12的光学跟踪器28执行定位。在程序中，系统控制器从参考传感器(30、50)获得方位测量。传感器的真实方位将使用下述来计算：(1.)每个阵列内的传感器的相对方位的知识，其在制造过程中被确定；以及(2.)每个阵列到场生成器的相对方位的知识，其在此实施例中使用光学跟踪器确定。这些测量然后能够用于量化和校正电磁场的扭曲，例如，使用如US专利6400139和6377041中公开的算法。
图6是示例根据本公开的另一实施例的彼此物体上隔开的不同配置(50、102、104)的参考传感器的多阵列的电磁跟踪系统的实施100的示意性视图。在此实施例中，每一个参考传感器的阵列(50、102、104)包括多个参考传感器(56、106、108)的多阵列。例如，参考传感器的第一阵列通常由参考数字50表示。参考传感器的第二阵列通常由参考数字102表示。参考传感器的第二阵列102参考固定的位置，如由参考数字103表示的。参考传感器的第三阵列通常由参考数字104表示。参考传感器的第三阵列104参考固定的位置，如由参考数字105表示的。在此实施例中，参考传感器的第二阵列102能够与参考传感器的第一阵列50保持物理上隔开。参考传感器的第二阵列102还能够与参考传感器的第三阵列104保持物理上隔开，等等。图7是示例在根据本公开的另一实施例的另一配置中的参考传感器110的阵列的示意性视图。参考传感器的阵列110嵌入期望形状的非金属材料内。非金属材料能够包括，例如，具有适合于保持期望的形状的特性的任何合适的塑料。期望的形状能够包括，例如，笼子形状。如图7中所示的形状示例在形成到图8的期望的笼子形状之前的参考传感器的阵列的相当平的形状。在图7的实施例中，参考传感器的阵列110能够包括一个或多个组件阵列112、114、116、118、120、122、124等，每个组件阵列具有(i)预定的配置或形状和(ii)一个或多个参考传感器126。
图7的组件阵列还能够包括至少两个对准机构，通常由参考数字(128-1、128-2)和(129-1、129-2)表示。对准机构用于建立组件部分一起的预定的放置。此外，所述至少两个对准机构能够包括任何合适的互锁机构。例如，互锁机构可以包括补充互锁调整片(tab)，其中调整片128-1配置为与调整片129-1锁定，而调整片128-2配置为与调整片129-2锁定。互锁机构用于在预定的布置中将阵列锁定到一起，预定的布置在此实施例中包括笼子形状。作为将两个或更多个组件阵列锁定在一起的结果，互锁机构确保能够相对于电磁场生成器12的安置执行参考传感器的阵列110的位置的对准。
图8是示例用于根据本公开的一个实施例的应用中使用的图7的参考传感器的阵列的示意性视图。换句话说，组件阵列110包括具有笼子形状的阵列，笼子阵列配置为用于患者的周边肢体140中的介入。参考传感器的阵列110的特性从而在于在给定的总体配置中的给定的参考传感器的总体数目。因此，利用安置至少一个或更多个传感器在总体配置内的知识，能够作为参考传感器的阵列的预定的配置信息的函数来确定针对传感器的其余部分的方位和位置信息。也就是说，所述一个或多个传感器配置为提供对参考传感器的组件阵列三维(3D)方向和方位的描述。
根据本公开的另一实施例，公开了特征为金属伪影的补偿的电磁跟踪方法。该方法包括提供电磁场生成器用于在感兴趣的区域中生成电磁场。应当注意，响应电磁场和感兴趣的区域附近金属伪影的出现，电磁场受到扭曲。该方法还包括提供置于感兴趣的区域附近的参考传感器的阵列，所述参考传感器的阵列具有预定的已知配置。经由电磁场响应一个或多个参考传感器的激发来相对于电磁场生成器确定参考传感器的阵列的第一组位置。使用不同于电磁场的第二机构相对于第二机构确定参考传感器的阵列的至少一个或多个参考传感器的第二组位置的第一部分。第二机构与电磁场生成器成已知的空间关系。
于是响应(i)使用第二机构确定的第二组位置的第一部分和(ii)参考传感器的阵列的预定已知的配置来确定参考传感器的阵列的参考传感器的第二组位置的其余部分。随后，所述方法包括作为参考传感器的阵列的第一和第二组参考传感器位置的函数补偿感兴趣的区域中的电磁场的金属扭曲。该方法还能够包括作为金属扭曲补偿的电磁场的函数来确定感兴趣的区域内要跟踪的传感器的位置。
在一个实施例中，第二机构还配置为用于确定第二机构和电磁场生成器之间的空间关系。第二机构能够包括，例如，光学跟踪系统。在另一实施例中，第二机构能够根据特定的电磁跟踪系统应用的需求包括合适的直接的物理测量、合适的声音定位、或合适的无线电定位中的一个或多个。
参考传感器的阵列能够包括一个或多个组件阵列，每个组件阵列具有(i)预定的配置或形状和(ii)一个或多个参考传感器。在一个实施例中，组件阵列包括具有半圆柱形状的阵列，半圆柱形状的阵列配置为与在患者的腹部或胸腔的一个或多个周围进行的介入一起使用。在另一实施例中，组件阵列包括基本平的面板阵列，平的面板阵列在预定的配置中包括一个或多个参考传感器，平的面板阵列还配置为放置在患者下面。平的面板阵列期望用于包含金属部件的台架上，其中该台架能够包括X射线台架或CT台架的一个或多个。在另一实施例中，组件阵列包括具有笼子形状的阵列，该笼子阵列配置为用于患者的头和/或周边肢体中的介入。
组件阵列还可以包括预制造的传感器阵列的组件部分，组件部分还具有至少两个对准机构，对准机构能够包括用于建立组件部分一起的预定的放置的任何合适的机构。所述至少两个对准机构能够包括例如任何合适的互锁机构。互锁机构能够用于在预定的布置中将两个或多个组件阵列锁定在一起。此外，对准机构准备为使得能够相对于电磁场生成器的安置执行参考传感器的阵列的位置的对准。
在另一实施例中，参考传感器的阵列能够包括第一和第二参考传感器阵列。第一参考传感器阵列包括一个或多个参考传感器的第一配置。第二参考传感器阵列包括一个或多个参考传感器的第二配置。在一个实施例中，第一配置不同于第二配置。
在另一实施例中，参考传感器的阵列包括参考传感器的第一阵列和参考传感器的第二阵列，其中参考传感器的第二阵列能够与参考传感器的第一阵列保持物理上隔开。在另一实施例中，参考传感器的阵列嵌入期望形状的非金属材料内。期望的形状能够包括下述中的一个或多个：(i)半圆柱形状，(ii)基本平的面板形状，或(iii)笼子形状。
本公开的实施例包括使用预制造的参考传感器的阵列。这些阵列提供用于监控针对EMTS系统中的扭曲的磁场的简单、快速、及临床实用的方法。然后能够计算校正的变换，并将其应用于介入中(例如，如US专利6400139和6377041中公开的)。
虽然以上仅详细描述了不多的范例实施例，但是本领域技术人员将容易理解，在范例实施例中，不实质脱离本公开的实施例的新颖的教义和优点，许多修改是可能的。例如，本公开的实施例能够用于校正由医疗仪器、移植物、成像装配、和/或支撑患者的医疗床、台架、或其它机构引入的扭曲。实施例还能够用于以多个器官(肝脏、心脏、大脑、前列腺等)为目标的任何数量的成像导引的介入医疗程序(活的组织检查、无线电频率切除、冷冻切除、短程治疗、导管插入、化学栓塞等)。此外，成像导引能够由超声、MRI、CT、x射线、PET、SPECT和/或光学成像的任何组合提供。因此，所有该修改意欲包含在如下述权利要求定义的本公开的实施例的范围内。在权利要求中，构件-加-功能条款意欲涵盖如执行叙述的功能的于此描述的结构而不仅是结构等同物，但是也涵盖等同的结构。
此外，在一个或多个权利要求中，放置在圆括号间的任何参考符号不应视为是对权利要求的限定。词语“包括”等不排除作为整体的权利要求或说明书中所列的那些以外的元件或步骤的存在。元件的单数引用不排除该元件的复数引用，并且反之亦然。一个或多个实施例可以通过包括数个区别元件的硬件和/或通过合适地编程的计算机实施。在列举数个构件的设备权利要求中，数个这些构件能够由硬件的相同项来实施。仅仅某些测量是在相互不同的从属权利要求中叙述的事实不表示不能有利地使用这些测量的组合。

Claims (30)

1、一种电磁跟踪方法，其特征是金属伪影的补偿，其包括：
提供电磁场生成器(12)用于在感兴趣的区域(16)中生成电磁场(14)，其中，响应所述电磁场和所述感兴趣的区域附近金属伪影的出现，所述电磁场受到扭曲；
提供置于所述感兴趣的区域附近的参考传感器的阵列(30、50、102、104、110)，所述参考传感器的阵列具有预定的已知配置；
经由所述电磁场响应一个或多个所述参考传感器的激发来相对于所述电磁场生成器确定所述参考传感器的阵列的第一组位置；
使用不同于所述电磁场的第二机构(28)，相对于所述第二机构确定所述参考传感器的阵列的至少一个或多个参考传感器的第二组位置的第一部分，所述第二机构与所述电磁场生成器成已知的空间关系；
响应(i)使用所述第二机构确定的所述第二组位置的所述第一部分和(ii)所述参考传感器的阵列的所述预定已知的配置来确定所述参考传感器的阵列的所述参考传感器的所述第二组位置的其余部分；以及
作为所述参考传感器的阵列的所述第一和第二组参考传感器位置的函数补偿所述感兴趣的区域中的所述电磁场的金属扭曲。
2、如权利要求1所述的方法，其中，所述第二机构(28)还配置为用于确定所述第二机构和所述电磁场生成器之间的所述空间关系。
3、如权利要求2所述的方法，其中，所述第二机构(28)包括光学跟踪系统。
4、如权利要求2所述的方法，其中，所述第二机构(28)包括直接的物理测量、声音定位、无线电定位中的一个或多个。
5、如权利要求1所述的方法，还包括作为金属扭曲补偿的电磁场的函数来确定所述感兴趣的区域内要跟踪的传感器(20)的位置。
6、如权利要求1所述的方法，其中，所述参考传感器的阵列(30、50、102、104、110)包括一个或多个组件阵列，每个组件阵列具有(i)预定的配置或形状和(ii)一个或多个参考传感器。
7、如权利要求6所述的方法，其中，所述组件阵列(30、102、104)包括具有半圆柱形状的阵列，所述半圆柱形状的阵列配置为与在患者的腹部或胸腔中的一个或多个的周围进行的介入一起使用。
8、如权利要求6所述的方法，其中，所述组件阵列(50)包括基本平的面板阵列，所述平的面板阵列在预定的配置中包括一个或多个参考传感器，所述平的面板阵列还配置为放置在患者下面。
9、如权利要求8所述的方法，其中，所述平的面板阵列还用于包含金属部件的台架(64)上，其中所述台架包括X射线台架或CT台架中的一个或多个。
10、如权利要求6所述的方法，其中，所述组件阵列(110)包括具有笼子形状的阵列，所述笼子阵列配置为用于患者的头或周边肢体中的介入。
11、如权利要求6所述的方法，其中，所述组件阵列(60)还包括预制造的传感器阵列的组件部分，所述组件部分还具有至少两个对准机构(48、49、128、129)，所述对准机构能够用于建立所述组件部分一起的预定的放置。
12、如权利要求11所述的方法，此外，其中所述至少两个对准机构包括互锁机构，所述互锁机构用于在预定的布置中将两个或多个组件阵列锁定在一起，并且此外，用于使得能够相对于所述电磁场生成器的安置执行所述参考传感器的阵列的位置的对准。
13、如权利要求1所述的方法，其中，所述参考传感器的阵列包括第一和第二参考传感器阵列，所述第一参考传感器阵列具有一个或多个参考传感器的第一配置，并且所述第二参考传感器阵列具有一个或多个参考传感器的第二配置，所述第一配置不同于所述第二配置。
14、如权利要求1所述的方法，其中，所述参考传感器的阵列包括参考传感器的第一阵列(102)，所述方法还包括：
使用参考传感器的第二阵列(104)，所述参考传感器的第二阵列与所述参考传感器的第一阵列保持物理上隔开。
15、如权利要求1所述的方法，其中，所述参考传感器的阵列嵌入期望的形状的非金属材料内。
16、如权利要求15所述的方法，其中，所述期望的形状包括下述中的一个或多个：(i)半圆柱形状，(ii)基本平的面板形状，或(iii)笼子形状。
17、一种电磁跟踪系统(10)，其特征在于金属伪影的补偿，其包括：
电磁场生成器(12)用于在感兴趣的区域(16)中生成电磁场(14)，其中，响应所述电磁场和所述感兴趣的区域附近金属伪影的出现，所述电磁场受到扭曲；
置于所述感兴趣的区域附近的至少一个参考传感器的阵列(30、50、102、104、110)，所述至少一个参考传感器的阵列具有预定的已知配置；
系统控制器(18)，用于经由所述电磁场响应一个或多个所述参考传感器的激发来相对于所述电磁场生成器确定所述参考传感器的阵列的第一组位置；以及
不同于所述电磁场生成器的第二机构(28)，用于相对于所述第二机构确定所述参考传感器的阵列的至少一个或多个参考传感器的第二组位置的第一部分，所述第二机构与所述电磁场生成器成已知的空间关系，
其中，所述系统控制器还用于响应(i)使用所述第二机构确定的所述第二组位置的所述第一部分和(ii)所述参考传感器的阵列的所述预定已知的配置来确定所述参考传感器的阵列的所述参考传感器的所述第二组位置的其余部分；以及用于作为所述参考传感器的阵列的所述第一和第二组参考传感器位置的函数补偿所述感兴趣的区域中的所述电磁场的金属扭曲。
18、如权利要求17所述的系统，其中，所述第二机构(28)还配置为用于确定所述第二机构和所述电磁场生成器之间的所述空间关系。
19、如权利要求18所述的系统，其中，所述第二机构(28)包括光学跟踪系统。
20、如权利要求17所述的系统，此外，其中所述系统控制器(18)还用于作为金属扭曲补偿的电磁场的函数来确定所述感兴趣的区域内要跟踪的传感器(20)的位置。
21、如权利要求17所述的系统，其中，所述参考传感器的阵列(30、50、102、104、110)包括一个或多个组件阵列，每个组件阵列具有(i)预定的配置或形状和(ii)一个或多个参考传感器。
22、如权利要求21所述的系统，其中，所述组件阵列(30、102、104)包括具有半圆柱形状的阵列，所述半圆柱形状的阵列配置为与在患者的腹部或胸腔中的一个或多个的周围进行的介入一起使用。
23、如权利要求21所述的系统，其中，所述组件阵列(50)包括基本平的面板阵列，所述平的面板阵列在预定的配置中包括一个或多个参考传感器，所述平的面板阵列还配置为放置在患者下面。
24、如权利要求21所述的系统，其中，所述组件阵列(110)包括具有笼子形状的阵列，所述笼子阵列配置为用于患者周边肢体中的介入。
25、如权利要求21所述的系统，其中，所述组件阵列(60)还包括预制造的传感器阵列的一个或多个组件部分，所述组件部分还具有至少两个对准机构(48、49、128、129)，所述对准机构用于建立所述组件部分一起的预定的放置。
26、如权利要求25所述的系统，此外，其中所述至少两个对准机构包括互锁机构，所述互锁机构用于在预定的布置中将两个或多个组件阵列锁定在一起，并且此外，用于使得能够相对于所述电磁场生成器的安置执行所述参考传感器的阵列的位置的对准。
27、如权利要求17所述的系统，其中，所述参考传感器的阵列包括第一和第二参考传感器阵列，所述第一参考传感器阵列具有一个或多个参考传感器的第一配置，并且所述第二参考传感器阵列具有一个或多个参考传感器的第二配置，所述第一配置不同于所述第二配置。
28、如权利要求17所述的系统，其中，所述参考传感器的阵列包括参考传感器的第一阵列(102)，所述系统还包括：
参考传感器的第二阵列(104)，所述参考传感器的第二阵列与所述参考传感器的第一阵列保持物理上隔开。
29、如权利要求17所述的系统，其中，所述参考传感器的阵列嵌入期望的形状的非金属材料内。
30、如权利要求29所述的系统，其中，所述期望的形状包括下述中的一个或多个：(i)半圆柱形状，(ii)基本平的面板形状，或(iii)笼子形状。
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