CN101319872B - 光学式距离位置感测装置 - Google Patents

光学式距离位置感测装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101319872B
CN101319872B CN2007101089099A CN200710108909A CN101319872B CN 101319872 B CN101319872 B CN 101319872B CN 2007101089099 A CN2007101089099 A CN 2007101089099A CN 200710108909 A CN200710108909 A CN 200710108909A CN 101319872 B CN101319872 B CN 101319872B
Authority
CN
China
Prior art keywords
distance
optical
sensing apparatus
reflecting surface
light path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2007101089099A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101319872A (zh
Inventor
林耀明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chroma Electronics Shenzhen Co Ltd
Original Assignee
Chroma Electronics Shenzhen Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chroma Electronics Shenzhen Co Ltd filed Critical Chroma Electronics Shenzhen Co Ltd
Priority to CN2007101089099A priority Critical patent/CN101319872B/zh
Publication of CN101319872A publication Critical patent/CN101319872A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101319872B publication Critical patent/CN101319872B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

本发明涉及一种光学式距离位置感测装置,用以感测一待测位置对象与该感测装置间的一绝对距离位置。该感测装置是将一多频混合的入射光束利用一分光组件予以分光成一量测光束与一参考光束,其中,量测光束与参考光束分别射向待测位置对象与一具备复数个反射表面的参考反射组件后,再分别反射回分光组件而分别行进一量测光程与复数个参考光程,并依据量测光程与复数个参考光程所分别相差的复数个光程差而射出至少一干涉光束。最后,利用一光学感应模块感应干涉光束的干涉波包位置,并依据干涉波包位置而计算出上述的绝对距离位置。

Description

光学式距离位置感测装置
技术领域
本发明是关于一种光学感测装置,特别是指一种利用将一多频混合的入射光束加以分光、干涉与感应,而感测一待测位置对象的与光学感测装置间的绝对距离位置的光学感测装置。
背景技术
随着时势的发展与演进,许多产品在加工尺寸精准度方面的要求,亦随之日趋严谨,特别是对于光电类或微机电类组件而言,其精准度往往必须达到纳米等级的要求。然而,在光电类或微机电类组件的整个加工过程中,往往不可避免地必须将待加工的工件输送至特定的加工位置来进行加工作业,甚至还可能会在工件尚处于运动状态时,就进行特定的加工作业。在此状况下,从微观的角度来看,即便这些运动非常微小,也势必会对加工品质造成重大的影响。
在此前提之下,往往必须借助于适当的定位装置来加以辅助定位,使加工位置不至于有太大的偏差,抑或是利用一高精准度与高灵敏度的位置感测装置来提供精密的位置量测功能,并在位置偏移量大于特定标准时,通过适当的补偿机制来加以控制,使工件的尺寸与加工位置能够满足既定的标准。
在众多的位置感测装置中,由于利用光学感应方式的来感测位置的位置感测装置具备较佳的感测精准度,故而广受所属技术领域的工作者所青睐而蔚为主流。在公知技术中,常用的光学位置感测系统有水平扫瞄纳米量测系统与扫瞄曝光系统等。其中,水平扫瞄纳米量测系统与扫瞄曝光系统是通过光学尺而对在运动轴向的位移进行补偿(compensation)与回馈(feedback)控制。对于垂直方向的微量位移,则需要通过一微位移传感器或位置传感器,实际感测俯仰偏移摆动的偏移量,在经由微纳米制动器加以补偿或回馈。
在公知技术中,微位移传感器通常有涡电流传感器、电容传感器与单频光干涉仪(如激光干涉仪)。其中,涡电流传感器与电容传感器是通过量测电流或电容而反推算位移的变异量。在实务运用层面上,往往容易受到环境温度、湿度、材质、表面氧化等变异因素的影响。若在开放空间中进行感测,则感测结果的量测不确定度往往会大过纳米等级的量测精准度要求。因此,涡电流传感器与电容传感器通常必须在一密闭空间中进行感测才能满足纳米等级的量测精准度要求。
关于单频光干涉仪(以激光干涉仪为例)的量测技术,以下将进一步结合图式,提出更详尽的说明。请参阅图1,其是显示一种公知基本型激光干涉仪的组件配置示意图与距离位置感测技术。如图所示,一激光干涉仪1用以量测一待测位置对象2的位置距离,亦即量测该待测位置对象2表面与激光干涉仪1间的距离。激光干涉仪1包含有一壳体11、一激光光源12、一聚焦透镜13、一平面分光镜14、一参考反射镜15与一光学感应模块16,其配置方式如图1所示。
在进行待测位置对象2的位置距离量测时,可使激光干涉仪1相对于待测位置对象2而沿一扫瞄方向I0进行扫瞄移动(可移动激光干涉仪1或待测位置对象2),在扫描过程中,在一垂直方向II0会因机械性震动而使激光干涉仪1与待测位置对象2表面间的距离产生微小的变异量。当其扫瞄至一待测位置对象2表面上的一待测点P0时,激光干涉仪1与待测点P0间相距一垂直距离d0
同时,激光光源12所发出的光线会经过聚焦透镜13的聚焦后而沿一水平方向III0而射出一入射光束IL0。入射光束IL0会射向平面分光镜14的一分光点SP0,并经过平面分光镜14的分光后,而反射出一量测光束RL0与穿透射出一参考光束TL0。在入射光束IL0射入平面分光镜14时,分光点SP0与待测点P0相距一量测距离r0,与参考反射镜15相距一参考距离t0,并与壳体11的底面相距一光轴距离a0
其中,量测光束RL0会沿一量测方向IV0射向待测点P0,再沿量测方向IV0的相反方向反射回分光点SP0的邻近位置而行进一测量光程Pr0(等于2r0)。穿透光束TL0会沿一参考方向V0而射向参考反射镜15,并沿参考方向V0的相反方向反射回分光点SP0的邻近位置而行进一参考光程Pt0(等于2t0)。
接着,行进测量光程Pr0的量测光束RL0会在分光点SP0的邻近位置与行进参考光程Pt0的参考光束TL0产生干涉,并依据测量光程Pr0与参考光程Pt0所相差的一光程差DP0(即D0=Pr0-Pt0)而发出一干涉光束IFL0。最后,干涉光束IFL0会沿一干涉输出方向VI0而射向光学感应模块16,光学感应模块16可依据所感测到的干涉光束IFL0的干涉条纹数量与干涉光束IFL0的强度而计算出光程差DP0,并通过D0=Pr0-Pt0而求得测量光程Pr0与参考光程Pt0间的相对关系。
在实务运用层面上,由于光轴距离a0与参考距离t0可通过激光干涉仪1在进行上述量测前的自我标准化校正而得知其值,加以上述的光程差DP0可通过上述量测方式而得知。因此,利用上述关系可求得待测的垂直距离d0等于(1/2DP0+t0-a0)。
举凡在所属技术领域具有通常知识者皆能理解,激光干涉仪1亦可只用于量测待测位置对象2表面与分光点SP0的距离即可,亦即以量测距离r0为量测标的。故在进行上述量测前,只需执行参考距离t0的自我标准化校正即可,而不必进行光轴距离a0的设定或自我标准化校正。此时,所欲求得知量测距离r0等于(1/2DP0+t0)。
同时,举凡在所属技术领域具有通常知识者皆能理解,在实际进行待测位置对象2表面与激光干涉仪1间的距离量测时,会以快速扫描的方式感测待测位置对象2表面上的多个点,亦即使激光干涉仪1沿扫瞄方向I0快速移动,利用上述方式快速地对待测位置对象2表面上的多个待测点进行感测,然后再将多个待测点所感测的距离位置予以平均而得到一平均值与一最大变异值(或标准差),并利用该平均值与该最大变异值(或标准差)来代表待测位置对象2的距离位置。
然而,为了提升扫瞄效率,通常会将扫瞄速率增加至特定的程度,但如此一来,则极有可能会因此而产生错误估算或漏算干涉条纹的事情,而导致量测结果失真。同时,若干涉条纹的非完全建设性干涉,甚至是为相消性干涉时,则干涉条纹会变得比较不明显而不易解析。此外,在量测过程中亦容易产生光斑,且部分的干涉条纹可能会落在感测范围之外,并因而对量测结果在认定上容易造成误判。再者,由于利用激光干涉仪1所量测的光程差光程差DP0在微观的系统中,通常相对地显得很大,对于光波波长的影响也随之变得很大,因此必须借助适当的稳频装置来控制频率(同时也控制波长),来将分辨率提升至纳米等级的要求。
发明内容
本发明所欲解决的技术问题与目的:
综观以上所述,在公知技术中,存在着每次进行量测前皆必须进行自我标准化校正的不便利性,量测结果容易失真,不易解析,容易造成误判,以及必须增加制作成本等问题。
因此,本发明的主要目的是提供一种光学式距离位置感测装置,其利用多频混合的光源所发出的光束来加以分光与干涉,以此使干涉光线产生明显而易于辨识的干涉波包,并依据干涉波包的位置而求得一待测位置对象的绝对距离位置。
本发明的次一目的是提供一种光学式距离位置感测装置,其是用以感测一待测位置对象与该感测装置间的一绝对距离位置。在该装置中,预先依据参考光程而在感测装置中对应建立一组对应的二维转换坐标。
本发明的另一目的是提供一种光学式距离位置感测装置,其是用以感测一待测位置对象与该感测装置间的一绝对距离位置。在该装置中,利用具备多个反射表面的参考反射组件取代公知技术中的参考反射镜,以此增加光学感测的量测范围。
本发明解决问题的技术手段:
本发明为解决公知技术的问题所采用的技术手段是提供一种光学式距离位置感测装置,该光学式距离位置感测装置用以感测一待测位置对象与该感测装置间的一绝对距离位置。该感测装置是将一多频混合光源(特别是多频混合白光光源)所发出的入射光束利用一分光组件分予以光成一量测光束与一参考光束,其中,量测光束与参考光束分别射向待测位置对象与一具备复数个反射表面的参考反射组件后,再分别反射回分光组件而分别行进一量测光程与复数个参考光程,并依据量测光程与上述复数个参考光程间的差距所分别形成的复数个不同的光程差射出一干涉光束。
在上述复数个不同的参考光程中,与量测光程间相等者定义为一临界参考光程,在行进该临界参考光程的参考光束与行进量测光程的量测光束产生干涉光束时,会产生一干涉波包。最后,利用一光学感应模块感应干涉光束的干涉波包位置,并依据干涉波包位置而计算出上述的绝对距离位置。
在本发明较佳实施例中,光学感应模块上是预先依据上述的参考光程而在感测装置中建立一组对应的二维转换坐标,在二维转换坐标上的每一位置对应于参考光程的数值,因此当干涉波包所在位置落于二维转换坐标的其中一位置时,表示量测光程等于该位置所对应的临界参考光程,故可通过干涉波包的所在位置而求得该量测光程,并据以计算出上述的绝对距离位置。此外,复数个反射表面可进一步以倾斜交错渐层并排的方式加以配置。
本发明对照先前技术的功效:
由以上所述可知,由于本发明是利用感测多频混合光源(特别是多频混合白光光源)所发出的光束在干涉时可产生明显而容易辨识的干涉波包的特性,进而利用干涉光束的干涉波包位置来计算出一待测位置对象的绝对距离位置,且干涉波包的位置远较公知技术中的每个单一干涉条纹更为明显而易于观察,也无须计算干涉条纹的数量,因此可同时解决上述的量测结果容易失真,不易解析,容易造成误判,以及必须增加制作成本等问题。
此外,由于本发明的二维转换坐标是依据上述的参考光程而建立,具备有极高精准度与稳定性,因此只需在初次使用时进行一次初始化校正,即可连续使用很多次而仍旧能保持合乎纳米等级要求的高精准度,而不必在每次进行量测之前都进行自我标准化校正,以此提升操作上的便利性。同时,由于上述的复数个反射表面可进一步以倾斜交错渐层并排的方式加以配置,因此可有效增加光学感测的量测范围。
附图说明
图1是显示公知基本型激光干涉仪的组件配置示意图与距离位置感测技术;
图2是显示本发明第一实施例的组件配置示意图与距离位置感测技术;
图3是显示本发明第一实施例中的参考反射组件配置关系示意图;
图4是显示本发明第一实施例中的参考反射组件的立体外观示意图;
图5是显示本发明第一实施例中的二维转换坐标的示意图;
图6是显示本发明第二实施例的组件配置示意图与距离位置感测技术;
图7是显示本发明第二实施例中的参考反射组件配置关系示意图;以及
图8是显示本发明第二实施例中的参考反射组件的立体外观示意图。
符号说明:
1激光干涉仪
11壳体
12激光光源
13聚焦透镜
14平面分光镜
15参考反射镜
16光学感应模块
2待测位置对象
3、4光学式距离位置感测装置
31、41壳体
32、42多频混合光源
33、43透镜组件
331第一聚焦透镜
332第二聚焦透镜
333第三聚焦透镜
334第四聚焦透镜
335第五聚焦透镜
431第六聚焦透镜
432第七聚焦透镜
433第八聚焦透镜
434第九聚焦透镜
435第十聚焦透镜
34、44光圈
341、441穿孔
35、45平面分光镜
36、46参考反射组件
361~364、461~464长条状反射镜
361a~364a、461a~464a反射表面
365~368、465~468支撑组件
37、47光学感应模块
371、471线电荷耦合器
372、472运算处理单元
373二维转换坐标
IL0、IL1、IL2入射光束
RL0、RL1、TL2量测光束
TL0、TL1、RL2参考光束
IFL0、IFL1、IFL2干涉光束
IFC干涉波包
P0、P1、P2待测点
SP0、SP1、SP2分光点
RS1、RS2基准面
I0、I1、I2扫瞄方向
II0、II1、II2、III2垂直方向
III0、III1水平方向
IV0、IV1、V2量测方向
V0、V1、IV2参考方向
具体实施方式
本发明所采用的具体实施例,将通过以下的实施例及图式作进一步的说明。
由于本发明所提供的光学式距离位置感测装置可广泛运用于多种光学测距装置、设备与系统,其组合实施方式更是不胜枚举,故在此不再一一赘述,仅列举其中较佳的二实施例来加以具体说明。
请参阅图2至图5,图2是显示本发明第一实施例的组件配置示意图与距离位置感测技术,图3是显示本发明第一实施例中的参考反射组件配置关系示意图,图4是显示本发明第一实施例中的参考反射组件的立体外观示意图,图5是显示本发明第一实施例中的二维转换坐标的示意图。如图所示,一光学式距离位置感测装置(以下简称感测装置)3亦用以量测上述待测位置对象2的绝对位置距离,亦即量测该待测位置对象2表面与感测装置3间的距离。
感测装置3包含有一壳体31、一多频混合光源32(在本实施中特别指一多频混合白光光源)、一透镜组件33、一光圈34、一分光组件(在本实施例中是一平面分光镜35)、一参考反射组件36与一光学感应模块37。透镜组件33包含有一第一聚焦透镜331、一第二聚焦透镜332、一第三聚焦透镜333、一第四聚焦透镜334与一第五聚焦透镜335。光圈34具备有一穿孔341。
参考反射组件36具备一基准面RS1与第一数量(M)个长条状反射镜,各长条状反射镜分别具备有一反射表面,故共有M个反射表面,同时,M个长条状反射镜是以M个支撑组件。在本实施例中,M等于4,亦即参考反射组件36包含四个倾斜交错渐层并排的长条状反射镜361、362、363与364,且四个长条状反射镜361、362、363与364分别对应地具有四个倾斜交错渐层并排的反射表面361a、362a、363a与364a。同时,四个长条状反射镜361、362、363与364是以四个支撑组件365、366、367与368予以支撑固定。光学感应模块37包含一线电荷耦合器(Charge Coupled Device,CCD)371与一运算处理单元372。
在进行待测位置对象2所处的一绝对位置距离的量测时,可使感测装置3相对于该待测位置对象2而沿一扫瞄方向I1进行扫瞄移动(可移动感测装置3或待测位置对象2),在扫描过程中,在一垂直方向II1会因机械性震动而使感测装置3与待测位置对象2表面间的距离产生微小的变异量。当其扫瞄至一待测位置对象2表面上的一待测点P1时,感测装置3与待测点P1间相距一垂直距离d1
同时,多频混合光源32所发出的光线会经过第一聚焦透镜331的聚焦成平行光束,并经过第二聚焦透镜332的聚焦而穿透光圈34的穿孔341,最后再经过第三聚焦透镜333而聚焦成沿一水平方向III1射出一入射光束IL1。入射光束IL1会射向平面分光镜35的一分光点SP1,并经过平面分光镜35的分光后,反射出一量测光束RL1与穿透射出一参考光束TL1。在入射光束IL1射入平面分光镜35时,分光点SP1与待测点P1相距一量测距离r1,与参考反射组件36的基准面RS1相距一最大参考距离t10,并与壳体31的底面相距一光轴距离a1
量测光束RL1会沿一量测方向IV1射向待测点P1,再沿量测方向IV1的相反方向反射回分光点SP1的邻近位置而行进一测量光程Pr1(等于2r1)。参考光束TL1会沿一参考方向V1而射向参考反射组件36中的四个反射表面361a、362a、363a与364a,并沿参考方向V1的相反方向反射回分光点SP1的邻近位置而行进复数个不同的参考光程,并且与测量光程Pr1之间分别差距复数个不同的光程差。
在复数个不同的参考光程中,与测量光程Pr1相等者,定义为一临界(critical)参考光程Pt1。同时,在上述复数个不同的光程差中,临界参考光程Pt1与测量光程Pr1间的差距为零者,可定义为一零光程差。在参考光束TL1行进临界参考光程Pt1时,分光点SP1与参考光束TL1射入参考反射组件36处相距一临界参考距离t1,亦即临界参考距离t1等于1/2倍的临界参考光程Pt1
在本实施例中,上述的基准面RS1与该参考方向V1相互垂直,参考反射组件36中第一个长条状反射镜361的一端是以支撑组件365予以支撑固定,第一个反射表面361a与基准面RS1间的距离,是自其一端与基准面RS1相切齐,而逐渐递增至另一端与基准面RS1相距一单位偏移距离Δ。
在上述四个长条状反射镜361中,第二数量(N,在本实施例中N介于2与4之间,且包含2与4)个长条状反射镜的两端是分别以第N-1个与第N个支撑组件予以支撑固定,使第N个反射表面与基准面RS1间的距离,是自其一端与基准面RS1相距N-1倍单位偏移距离Δ,而逐渐递增至另一端与基准面RS1相距N倍单位偏移距离Δ。
譬如,第四(即N等于4)个长条状反射镜364的两端是分别以第三个支撑组件367与第四个支撑组件368予以支撑固定,使第四个反射表面364a与基准面RS1间的距离,是自其一端与基准面RS1相距三倍单位偏移距离Δ(即3Δ),而逐渐递增至另一端与基准面RS1相距四倍单位偏移距离Δ(即4Δ)。
由以上参考反射组件36中的四个反射表面361a、362a、363a与364a间的相对位置可知,临界参考距离t1可介于(t10-4Δ)与t10之间,亦即临界参考光程Pt1可介于(2t10-8Δ)与2t10之间。
其中,当临界参考光程Pt1介于(2t10-2Δ)与2t10之间时,表示参考光束TL1是沿参考方向V1而射向参考反射组件36中的第一个反射表面361a。当临界参考光程Pt1介于(2t10-4Δ)与(2t10-2Δ)之间时,表示参考光束TL1是沿参考方向V1而射向参考反射组件36中的第二个反射表面362a。当临界参考光程Pt1介于(2t10-6Δ)与(2t10-4Δ)之间时,表示参考光束TL1是沿参考方向V1而射向参考反射组件36中的第三个反射表面363a。当临界参考光程Pt1介于(2t10-8Δ)与(2t10-6Δ)之间时,表示参考光束TL1是沿参考方向V1而射向参考反射组件36中的第四个反射表面364a。
接着,自待测位置对象2所反射的量测光束RL1与自参考反射组件36所反射的参考光束TL1是在平面分光镜35的分光点SP1的邻近位置处开始产生干涉,并依据量测光程Pr1与上述复数个参考光程间的差距所分别形成的复数个不同的光程差,而沿一干涉输出方向VI1射出至少一干涉光束IFL1
干涉光束IFL1会经过第四聚焦透镜334与第五聚焦透镜335的聚焦后,被线CCD 371所感测。其中,在行进临界参考光程Pt1的参考光束TL1与行进量测光程Pr1的量测光束RL1产生该干涉光束IFL1时,会产生一干涉波包IFC(标示于图5),运算处理单元372可依据线CCD 371所侦测感应干涉波包IFC的所在位置而计算该待测位置对象2所处的绝对距离位置。
以下,进一步揭露本发明如何依据线CCD 371所侦测感应该干涉波包IFC的所在位置而计算该绝对距离位置。如图5所示,光学感应模块37是依据与上述复数个不同的参考光程而建置有一组二维转换坐标373,二维转换坐标373是由一X方向仿真横坐标Xm与一Z方向仿真纵坐标Zm。X方向仿真横坐标Xm上的一单位长度ux0对应于上述四个反射表面361a、362a、363a与364a中,任意一者的宽度。Z方向仿真纵坐标Zm上的一单位长度uz0表示上述四个反射表面361a、362a、363a与364a在图3至图4中Z方向的单位解析等分。
在本实施例中,有四个反射表面361a、362a、363a与364a,故分别对应地以四个仿真区间m0~m3来表示。同时在Z方向的解析等分为五,故以分别对应地以四个解析区间n0~n4表示。因此二维转换坐标373被仿真区间m0~m3以及解析区间n0~n4分割为二十个分割区间,且每个分割区间分别代表不同的参考光程的实际解析值。
在仿真区间m0中,表示参考光程是自纵坐标为零处的(2t10-2Δ),逐渐线性递增至2t10。在仿真区间m1中,表示参考光程是自纵坐标为零处的(2t10-2Δ),逐渐线性递减至(2t10-4Δ)。在仿真区间m2中,表示参考光程是自纵坐标为零处的(2t10-6Δ),逐渐线性递增至(2t10-4Δ)。在仿真区间m3中,表示参考光程是自纵坐标为零处的(2t10-6Δ),逐渐线性递减至(2t10-8Δ),其中,最大参考距离t10与单位偏移距离Δ皆在建构感测装置3时已预先知其数值,故皆为已知的定值。
在图5中,干涉波包IFC出现在仿真区间m2与解析区间n3所对应的分割区间。表示临界参考光程Pt1介于2t10-6Δ+(3/5)(2Δ)与2t10-6Δ+(4/5)(2Δ)之间,也就是Pt1介于(2t10-4.8Δ)与(2t10-4.4Δ)之间。在实务运用时,可取中间值作为代表值,故在本实施例中,临界参考光程Pt1即等于(2t10-4.6Δ)。换以言之,测量光程Pr1也就是等于(2t10-4.6Δ),亦即量测距离r1等于(t10-2.3Δ)。
在实务运用层面上,由于光轴距离a1可通过在组装感测装置3时预先设定,或在进行上述量测前的利用自我标准化校而得知其值,故可利用量测距离r1减去光轴距离a1而得知垂直距离d1,以此确认待测位置对象2的绝对距离位置。同时,上述的二维转换坐标373通常是建置在371线CCD 371中,以此直接感测出干涉波包IFC所在的对应位置。
举凡在所属技术领域具有通常知识者皆能理解,感测装置3亦可只用于量测待测位置对象2表面与分光点SP1的距离即可,亦即以量测距离r1定义上述的待测位置对象2所在的绝对距离位置。此时,可直接以量测距离r1等于(t10-2.3Δ)来表示待测位置对象2所在的绝对距离位置而不必进行光轴距离a1的设定或自我标准化校正。
举凡在所属技术领域具有通常知识者亦可轻易理解,在实际进行待测位置对象2表面与感测装置3间的距离量测时,会以快速扫描的方式感测待测位置对象2表面上的多个点,亦即使感测装置3沿扫瞄方向I1快速移动,利用上述方式快速地对待测位置对象2表面上的多个待测点进行感测,然后再将多个待测点所感测的距离位置予以平均而得到一平均值与一最大变异值(或标准差),并利用该平均值与该最大变异值(或标准差)来代表行待测位置对象2的绝对距离位置。
在阅读以上叙述之后,举凡在所属技术领域具有通常知识者更能轻易理解,若将每一个反射表面皆分割为2048个解析区间(亦即2048个扫描解析像素),两端分别删除24个受到外界干扰较大的解析区间,在实际上,每一个反射表面则可分割为2000个解析区间。一般而言,每个解析区间可解析至80nm的纳米等级分辨率,通过线CCD所取得的影像进行波包演算,可将零光程差位置精确至次像素,使分辨率达到纳米等级,则每一个反射表面所能量测的光程范围可达到160μm(即2Δ等于160μm),亦即上述量测距离的实际量测范围达80μm。
当然,反射表面的数量亦可从本实施例中所使用的四个而大幅提升至一百个,甚至是一千个,并且依照上述倾斜交错渐层并排的方式加以配置,以此将量测范围可分别大幅增加至0.8mm与8mm。如此一来,感测装置3能以纳米等级高分辨率与0.8mm(甚至是8mm)的大量测范围来量测上述的绝对距离位置。
此外,上述的待测位置对象2应具备较佳的反射性,才能获得较佳的反射效果。因此,建议上述的待测位置对象2是以采用具备光滑表面的一光学平板为宜。
请参阅图6至图8,图6是显示本发明第二实施例的组件配置示意图与距离位置感测技术,图7是显示本发明第二实施例中的参考反射组件配置关系示意图,图8是显示本发明第二实施例中的参考反射组件的立体外观示意图。如图所示,一光学式距离位置感测装置(以下简称感测装置)4亦用以量测上述待测位置对象2的绝对位置距离,亦即量测该待测位置对象2表面与感测装置4间的距离。
感测装置4包含有一壳体41、一多频混合光源42(在本实施中特别指一多频混合白光光源)、一透镜组件43、一光圈44、一分光组件(在本实施例中是一平面分光镜45)、一参考反射组件46与一光学感应模块47。透镜组件43包含有一第六聚焦透镜431、一第七聚焦透镜432、一第八聚焦透镜433、一第九聚焦透镜434与一第十聚焦透镜435。光圈44具备有一穿孔441。
参考反射组件46具备一基准面RS2与第三数量(P)个长条状反射镜,各长条状反射镜分别具备有一反射表面,故共有P个反射表面,同时,P个长条状反射镜是以P个支撑组件予以支撑固定。在本实施例中,P等于4,亦即参考反射组件46包含四个倾斜交错渐层并排的长条状反射镜461、462、463与464,且四个长条状反射镜461、462、463与464分别对应地具有四个倾斜交错渐层并排的反射表面461a、462a、463a与464a。同时,四个长条状反射镜461、462、463与464是以四个支撑组件465、466、467与468予以支撑固定。光学感应模块47包含一线CCD 471与一运算处理单元472。
在进行待测位置对象2所处的一绝对位置距离的量测时,可使感测装置4相对于该待测位置对象2而沿一扫瞄方向I2进行扫瞄移动(可移动感测装置4或待测位置对象2),在扫描过程中,在一垂直方向II2会因机械性震动而使感测装置4与待测位置对象2表面间的距离产生微小的变异量。当其扫瞄至一待测位置对象2表面上的一待测点P2时,感测装置4与待测点P2间相距一垂直距离d2
同时,多频混合光源42所发出的光线会经过第六聚焦透镜431的聚焦成平行光束,并经过第七聚焦透镜432的聚焦而穿透光圈44的穿孔441,最后再经过第八聚焦透镜433而聚焦成沿一垂直方向III2射出一入射光束IL2。入射光束IL2会射向平面分光镜45的一分光点SP2,并经过平面分光镜45的分光后,反射出一参考光束RL2与穿透射出一量测光束TL2。在入射光束IL2射入平面分光45时,分光点SP2与待测点P2相距一量测距离t2,与参考反射组件46的基准面RS2相距一最大参考距离r20,并与壳体41的底面相距一光轴距离a2
量测光束TL2会沿一量测方向V2射向待测点P2,再沿量测方向V2的相反方向反射回分光点SP2的邻近位置而行进一测量光程Pt2(等于2t2)。参考光束RL2会沿一参考方向IV2射向参考反射组件46中的四个反射表面461a、462a、463a与464a,并沿参考方向IV2的相反方向反射回分光点SP2的邻近位置而行进复数个不同的参考光程,并且与测量光程Pt2之间分别差距复数个不同的光程差。
在复数个不同的参考光程中,与测量光程Pt2相等者,定义为一临界(critical)参考光程Pr2。同时,在上述复数个不同的光程差中,临界参考光程Pr2与测量光程Pt2间的差距为零者,可定义为一零光程差。在参考光束RL2行进临界参考光程Pr2时,分光点SP2与参考光束RL2射入参考反射组件46处相距一临界参考距离r2,亦即临界参考距离r2等于1/2倍的临界参考光程Pr2
在本实施例中,上述的基准面RS2是与该参考方向IV2相互垂直,参考反射组件46中第一个长条状反射镜461的一端是以支撑组件465予以支撑固定,第一个反射表面461a与基准面RS2间的距离,是自其一端与基准面RS2相切齐,而逐渐递增至另一端与基准面RS2相距上述的单位偏移距离Δ。
在上述四个长条状反射镜461中,第四数量(Q,在本实施例中Q介于2与4之间,且包含2与4)个长条状反射镜的两端分别以第Q-1个与第Q个支撑组件予以支撑固定,使第Q个反射表面与基准面RS2间的距离,是自其一端与基准面RS2相距Q-1倍单位偏移距离Δ,而逐渐递增至另一端与基准面RS2相距Q倍单位偏移距离Δ。
譬如,第四(即Q等于4)个长条状反射镜464的两端是分别以第三个支撑组件467与第四个支撑组件468予以支撑固定,使第四个反射表面464a与基准面RS2间的距离,是自其一端与基准面RS2相距三倍单位偏移距离Δ(即3Δ),而逐渐递增至另一端与基准面RS2相距四倍单位偏移距离Δ(即4Δ)。
由以上参考反射组件46中的四个反射表面461a、462a、463a与464a间的相对位置可知,临界参考距离r2可介于(r20-4Δ)与r20之间,亦即临界参考光程Pr2可介于(2r20-8Δ)与2r20之间。
其中,当临界参考光程Pr2介于(2r20-2Δ)与2r20之间时,表示参考光束RL2是沿参考方向IV2而射向参考反射组件46中的第一个反射表面461a。当临界参考光程Pr2介于(2r20-4Δ)与(2r20-2Δ)之间时,表示参考光束RL2是沿参考方向IV2而射向参考反射组件36中的第二个反射表面362a。当临界参考光程Pr2介于(2r20-6Δ)与(2r20-4Δ)之间时,表示参考光束RL2是沿参考方向IV2而射向参考反射组件46中的第三个反射表面463a。当临界参考光程Pr2介于(2r20-8Δ)与(2r20-6Δ)之间时,表示参考光束RL2是沿参考方向IV2而射向参考反射组件46中的第四个反射表面464a。
接着,自待测位置对象2所反射的量测光束TL2与自参考反射组件46所反射的参考光束RL2是在平面分光镜45的分光点SP2的邻近位置处开始产生干涉,并依据量测光程Pt2与上述复数个参考光程间的差距所分别形成的复数个不同的光程差,而沿一干涉输出方向VI2射出至少一干涉光束IFL2
干涉光束IFL2会经过第九聚焦透镜434与第十聚焦透镜435的聚焦后,被线CCD 471所感测。其中,在行进临界参考光程Pr2的反射光束RL2与行进量测光程Pt2的穿透光束TL2产生干涉光束IFL2时,会产生类似于图5所示的一干涉波包,该运算处理单元472可依据线CCD 471所侦测感应干涉波包的所在位置而计算该待测位置对象2所处的绝对距离位置。
同样地,在本实施例中,亦可进一步利用第一实施例中所揭露的二维转换坐标、仿真区间、解析区间与分割区间等解析技术手段来判定上述干涉波包所在的位置,据以计算出该绝对距离位置,在此不再予以赘述。同时,所欲量测的绝对距离位置亦可利用上述的垂直距离d2或量测距离t2来表示。此外,上述的待测位置对象2应具备较佳的反射性,才能获得较佳的反射效果。因此,建议上述的待测位置对象2亦以采用具备光滑表面的一光学平板为宜。
综合以上所述,本发明所提供的光学式距离位置感测装置3与4,是利用感测多频混合光源32与42(特别是多频混合白光光源)所发出的光束在干涉时可产生明显而容易辨识的干涉波包IFC的特性,进而利用干涉波包IFC的位置来计算出待测位置对象2的绝对距离位置。由于干涉波包IFC的位置远较公知技术中的每个单一干涉条纹更为明显而易于观察,也无须计算干涉条纹的数量,因此可同时解决上述的量测结果容易失真,不易解析,容易造成误判,以及必须增加制作成本等问题。
此外,由于本发明的二维转换坐标373是依据上述的参考光程而建立,具备有极高精准度与稳定性,因此只需在初次使用时进行一次初始化校正,即可连续使用很多次而仍旧能保持合乎纳米等级要求的高精准度,而不必在每次进行量测之前都进行公知技术中对参考距离t0的自我标准化校正,以此提升操作上的便利性。同时,由于上述的复数个反射表面可进一步利用上述的倾斜交错渐层并排的方式来加以配置,因此可有效增加光学感测的量测范围大幅提升至0.8mm,甚至是8mm,因此可大幅提升光学式距离位置感测装置3与4的应用领域。
通过上述的本发明实施例可知,本发明确具产业上的利用价值。以上说明仅为本发明的较佳实施例,凡所属技术领域中具有通常知识者可依据本发明的上述实施例说明而作其它种种的改进及变化。然而这些依据本发明实施例所作的种种改进及变化,当仍属于本发明的发明精神及界定的专利范围内。

Claims (9)

1.一种光学式距离位置感测装置,用以感测一待测位置对象与该感测装置间的一绝对距离位置,其特征在于,该感测装置包括:
一多频混合光源,提供一由多个频段光波所混合组成的入射光束;
一分光组件,用以将该入射光束分光为一量测光束与一沿一参考方向行进的参考光束,且该量测光束沿一量测方向射向该待测位置对象,再由该待测位置对象反射回该分光组件而行进一量测光程;
一参考反射组件,位于该参考方向上,并且包含M个反射表面,以使该参考光束分别自M个反射表面的不同位置反射回该分光组件而行进复数个不同的参考光程,其中,该参考反射组件还包含有一与该参考方向垂直的基准面,上述的M个反射表面位于该基准面与该分光组件之间,且在上述M个反射表面中的第一个反射表面与该基准面间的距离,是自其一端与该基准面相切齐,而逐渐递增至另一端与该基准面相距一单位偏移距离,自该待测位置对象所反射的该量测光束与自该参考反射组件所反射的该参考光束是在该分光组件处开始产生干涉,并依据该量测光程与上述复数个参考光程间的差距所分别形成的复数个不同的光程差而射出至少一干涉光束;以及
一光学感应模块,用以感应该干涉光束,并依据该光程差而计算出该绝对距离位置。
2.如权利要求1所述的光学式距离位置感测装置,其特征在于:该多频混合光源是一多频混合白光光源。
3.如权利要求1所述的光学式距离位置感测装置,其特征在于:该分光组件是一平面分光镜。
4.如权利要求1所述的光学式距离位置感测装置,其特征在于:在上述M个反射表面中的第N个反射表面与该基准面间的距离,是自其一端与该基准面相距N-1倍的该单位偏移距离,而逐渐递增至另一端与该基准面相距N倍的该单位偏移距离。
5.如权利要求4所述的光学式距离位置感测装置,其特征在于:上述M个反射表面是利用M个支撑组件分别予以支撑固定,以此将各反射表面与该基准面间的距离调整成符合如以上所述第N个反射表面与该基准面间的距离。
6.如权利要求1所述的光学式距离位置感测装置,其特征在于:该待测位置对象是一光学平板。
7.如权利要求1所述的光学式距离位置感测装置,其特征在于:该光学感应模块包含有一线电荷耦合器,以此感应该干涉光束。
8.如权利要求7所述的光学式距离位置感测装置,其特征在于:该光学感应模块还包含有一运算处理单元,在上述复数个不同的参考光程中,与该量测光程间相等者定义为一临界参考光程,在行进该临界参考光程的该参考光束与行进该量测光程的量测光束产生该干涉光束时,会产生一干涉波包,该运算处理单元是依据该线电荷耦合器所侦测感应的该干涉波包所在位置而计算该绝对距离位置。
9.如权利要求8所述的光学式距离位置感测装置,其特征在于:该光学感应模块建置有一组二维转换坐标,以此定义该干涉波包的所在位置,进而计算该绝对距离位置。
CN2007101089099A 2007-06-04 2007-06-04 光学式距离位置感测装置 Expired - Fee Related CN101319872B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2007101089099A CN101319872B (zh) 2007-06-04 2007-06-04 光学式距离位置感测装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2007101089099A CN101319872B (zh) 2007-06-04 2007-06-04 光学式距离位置感测装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101319872A CN101319872A (zh) 2008-12-10
CN101319872B true CN101319872B (zh) 2010-06-09

Family

ID=40180052

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007101089099A Expired - Fee Related CN101319872B (zh) 2007-06-04 2007-06-04 光学式距离位置感测装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101319872B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104297260B (zh) * 2014-11-04 2017-10-10 广州广电运通金融电子股份有限公司 一种薄介质的无接触式检测方法及装置
CN105890643B (zh) * 2016-05-16 2018-03-06 中国电子科技集团公司第二十三研究所 一种用于光程差测试仪的校准装置及校准方法
CN110296666B (zh) * 2018-03-23 2021-04-20 泓邦科技有限公司 三维量测器件
US10788582B2 (en) * 2018-05-11 2020-09-29 Silc Technologies, Inc. Optical sensor chip
DE102018118501A1 (de) * 2018-07-31 2020-02-06 Precitec Gmbh & Co. Kg Messvorrichtung zur Bestimmung eines Abstands zwischen einem Laserbearbeitungskopf und einem Werkstück, Laserbearbeitungssystem mit derselben und Verfahren zur Bestimmung eines Abstands zwischen einem Laserbearbeitungskopf und einem Werkstück
TWI682150B (zh) * 2018-12-27 2020-01-11 財團法人工業技術研究院 自動校準光干涉裝置及光干涉裝置自動校準方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5483345A (en) * 1994-09-06 1996-01-09 Mrs Technology, Inc. Alignment system for use in lithography utilizing a spherical reflector having a centered etched-on projection object
CN1515890A (zh) * 2003-01-02 2004-07-28 财团法人工业技术研究院 光谱偏移式纳米近接装置
CN1545610A (zh) * 2002-06-28 2004-11-10 株式会社拓普康 位置检测装置
CN1704795A (zh) * 2004-06-02 2005-12-07 致茂电子股份有限公司 干涉扫描装置及方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5483345A (en) * 1994-09-06 1996-01-09 Mrs Technology, Inc. Alignment system for use in lithography utilizing a spherical reflector having a centered etched-on projection object
CN1545610A (zh) * 2002-06-28 2004-11-10 株式会社拓普康 位置检测装置
CN1515890A (zh) * 2003-01-02 2004-07-28 财团法人工业技术研究院 光谱偏移式纳米近接装置
CN1704795A (zh) * 2004-06-02 2005-12-07 致茂电子股份有限公司 干涉扫描装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101319872A (zh) 2008-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101319872B (zh) 光学式距离位置感测装置
US7701592B2 (en) Method and apparatus for combining a targetless optical measurement function and optical projection of information
US7450246B2 (en) Measuring device and method for determining relative positions of a positioning stage configured to be moveable in at least one direction
US6088106A (en) Method for the contact-free measurement of the distance of an object according to the principle of laser triangulation
US6268923B1 (en) Optical method and system for measuring three-dimensional surface topography of an object having a surface contour
CN104765160B (zh) 一种光束方位校准系统及校准方法
EP3377848B1 (en) Optical interferometry
US4171917A (en) Determining the profile of a surface of an object
AU2001285839A1 (en) Method for carrying out the non-contact measurement of geometries of objects
US8233153B2 (en) Position detection system for the contactless interferometric detection of a location of a target object and scanning system equipped with the same
CN106813600B (zh) 一种非接触式非连续平面平面度测量系统
US20210260663A1 (en) Methods for detecting a working area of a generative manufacturing device and manufacturing devices for generatively manufacturing components from a powder material
US11192158B2 (en) Apparatus for detecting relative positioning information between rolls, and method for measurement roll alignment state by using same
KR101554389B1 (ko) 레이저 가공장치
TW200829854A (en) Optical device for sensing distance
Tan et al. Design of a laser autocollimator-based optical sensor with a rangefinder for error correction of precision slide guideways
KR101444833B1 (ko) 문형 이송기계의 레이저간섭계를 이용한 동기이송 오차 제어 장치 및 방법
US20210278533A1 (en) Optical device for determining a distance of a measurement object
Yagüe-Fabra et al. A thermally-stable setup and calibration technique for 2D sensors
US5024528A (en) Alignment apparatus employing a laser light scatterer
JP6797439B2 (ja) 三次元ホワイトライトスキャナ較正方法
EP2641694B1 (en) Actuating apparatus, actuating system and method for actuating a working stage to move relative to a platform with high-precision positioning capability
JP2021056087A (ja) 形状測定装置
Bubaker-Isheil et al. Simple Large Scale 3D scanner
Docchio et al. A combined distance and surface profile measurement system for industrial applications: a European project

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20100609

Termination date: 20130604