CN101318025A - 一种脉冲涡流式微电脑消毒设备 - Google Patents

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CN101318025A
CN101318025A CNA2008100655614A CN200810065561A CN101318025A CN 101318025 A CN101318025 A CN 101318025A CN A2008100655614 A CNA2008100655614 A CN A2008100655614A CN 200810065561 A CN200810065561 A CN 200810065561A CN 101318025 A CN101318025 A CN 101318025A
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disinfection
eddy
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disinfectant solution
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Inventor
乔兴华
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DONGGUAN GMLCO ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
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DONGGUAN GMLCO ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种脉冲涡流式微电脑消毒设备。目前,医院用于消毒而使用的消毒设备,操作麻烦,费人费时,使用噪音大,故障多,消毒效果不稳定,易造成二次污染。本发明由ABS工程塑料注塑、经特殊设计注塑而形成,由外壳、消毒槽、涡流分配装置、涡流形成器、涡流喷射头、涡流高压装置构成,形成脉冲、涡流循环消毒。本发明的优点在于各种器械在消毒槽内能够彻底地杀死细菌和病毒,达到了卫生部对消毒器械要在流动、浸泡液体中消毒的要求,并且减轻了医务人员的劳动强度。从设计、结构的科学性、新颖性、合理性、实用性和多功能清洗消毒手术器械及广泛的应用在医疗行业中,填补了国内外空白。

Description

一种脉冲涡流式微电脑消毒设备
技术领域
本发明涉及医疗卫生器械领域,具体涉及一种脉冲涡流式微电脑消毒设备。
背景技术
目前,医院用于消毒而使用的消毒设备,通常采用是链条式、喷淋式、人工槽式,操作麻烦,使用噪音大,故障多,消毒效果不稳定,易造成二次污染,达不到消毒的目的,市场大量急需高科技、自动化、消毒彻底、没有二次污染的微电脑消毒设备。
发明内容
本发明的目的在于提供一种脉冲涡流式微电脑消毒设备。
本发明由ABS工程塑料注塑、经设计特殊注塑而形成,由外壳、消毒槽、涡流分配装置、涡流形成器、涡流喷射头、涡流高压装置构成,形成脉冲、涡流循环消毒。
消毒槽由壳体、涡流喷射头、涡流形成体和器械支架、进水口、排水口、排气口、加酶液口,通道、内腔消毒液出口一个在槽内壁、一个在壳体左外侧、槽内消毒液出口和消毒液、水位开关,冷光源消毒位和内镜手柄消毒位构成。设置在壳体的四个方位的底部的涡流喷射头和分布在底部的涡流形成体和器械支架,进水口、排水口、排气口、消毒液出口在壳体的前部壁中间位置,消毒液、水位控制开关在槽底部手柄槽的左侧。在消毒槽内涡流喷射头分别布局在设定的四个位置,涡流的形成是在微电脑的中央控制下,下达脉冲指令,使双左喷射头和双右喷射头进行功能转换工作。
涡流分配装置由分流头和等效管构成,安装在消毒槽底部的外面与涡流喷射头相连接。涡流分配装置进行压力流量分配,为保证涡流形成,涡流高压装置要将压力增加到涡流形成的压力。涡流分配装置,是由ABSφ10管、用φ10的三通等量制成(受微电脑指令控制功能电磁阀的工作状态)。
涡流形成器由ABS注塑而成,喷口为高2mm*宽16mm,喷口射垂直角度为32°,水平角度、左边为22°,右为36°,确保涡流自然形成,可有效地提高杀毒效果和速度。
涡流喷射头由导流管(包括上下喷口角度和左右导流角度)和喷射口构成,是固定在消毒槽的底部的四个位置为一体的配件,是消毒槽脉冲、涡流形成时非常重要的配件。
涡流高压装置由加压泵、电磁阀、管道构成,设置在消毒槽的下部用管件连接于涡流分配装置连接,涡流高压装置,使涡流形成核心,要在每分钟8L/8m的速度情况、配合分配器元件,要有精确的数据衡量,达到涡流旋转,使其消毒液形成涡流旋转冲洗达到消毒的目的。
本发明的优点在于各种器械在消毒槽内能够彻底地杀死细菌和病毒,达到了卫生管理部门对消毒器械要在流动、浸泡液体中杀毒的要求,并且减轻了医务人员的劳动强度,具有设计、结构的科学性、新颖性、合理性、实用性,广泛应用于医疗行业中,填补了国内外空白。
附图说明
图1为本发明的消毒槽整体结构图;
图2为本发明的涡流消毒槽原理图;
图3为本发明消毒槽涡流形成器高压装置示意图;
图4为本发明消毒槽涡流喷射头示意图。
图中1是外壳,2是消毒槽,3是涡流分配装置,4是涡流形成器,5是微电脑中央控制中心,6是涡流高压装置,7是消毒液储蓄箱,8是微型打字机,9是控制面板,10是气泵,11是涡流喷射头,12是内腔消毒液出口,13是内腔杀菌消毒液酒精出口,14是加酶液口,15是内镜手柄消毒位,16是排水(排液)口,17是排气口,18是进水口,19是消毒液出口,20是冷光源消毒位,21是液位开关,22是消毒系统,23中央处理器(嵌入式计算机),24是增压装置,25是高压涡流形成器,26是高压涡流形成器,27是气动系统,28是涡流喷射口,29是涡流喷口倒角,30是左倒流角,31是右倒流角。
具体实施方式
下面结合附图以最佳实施例对本发明做进一步详细说明:
本发明由ABS工程塑料注塑、经设计特殊注塑而形成,由外壳(1)、消毒槽(2)、涡流分配装置(3)、涡流形成器(4)、涡流喷射头(11)、涡流高压装置(6)构成,形成脉冲、涡流循环消毒。
如图1所示,本发明中脉冲涡流式微电脑消毒设备的主要以消毒槽(2)为消毒器皿,在涡流分配装置(3)、涡流形成器(4)、图2涡流喷射头(11)和涡流高压装置(6)共同作用下,由微电脑中央控制中心指令执行器件完成涡流浸泡消毒的目的,涡流的形成是消毒、灭菌的非常重要的指标。
如图2所示,涡流消毒槽原理是槽内要有一定容量消毒液体,是通过进水口(18)、消毒液出口(19)、消毒液经增压装置连接管道排液口和控制阀形成循环消毒网络;液位开关(21)用来保障槽内的液体容量,涡流喷射头(11)和内腔消毒液出口(12),一个是槽内的内腔消毒液出口、一个是外壳给冷光源内腔消毒液出口,是内腔和内通道的唯一路径;为使手柄和冷光源能够完全彻底地杀死病毒和细菌,在槽的底部制作了各自的专用消毒、冷光源消毒位(20)、内镜手柄消毒位(15),使内窥镜的手柄、冷光源完全的浸泡在消毒液中,达到消毒目的。
图3为本发明消毒槽涡流形成器高压装置示意图,说明高压形成的相互控制关系,由(23)微电脑中央控制中心指令,启动增压泵加压并按设定程序是气动系统(27)、消毒系统(22)执行动作,确保高压涡流形成器(26)形成涡流。
图4为发明消毒槽涡流喷射头示意图,涡流喷射口(28)及涡流喷口倒角(29)、左倒流角(30)、右倒流角(31),保障涡流形成的喷射角度和旋转速度,即喷出方向(确保涡流方向)。

Claims (6)

1、一种脉冲涡流式微电脑消毒设备,其特征在于它由外壳(1)、消毒槽(2)、涡流分配装置(3)、涡流形成器(4)、涡流喷射头(11)、涡流高压装置(6)构成,形成脉冲、涡流循环消毒。
2、根据权利要求1所述的一种脉冲涡流式微电脑消毒设备,其特征在于所述的消毒槽(2)由壳体、涡流喷射头(11)、涡流形成器(4)、进水口(18)、排水口、排气口(17)、加酶液口(14)、通道、内腔消毒液出口(13)、槽内消毒液出口、消毒液、水位开关、冷光源消毒位(20)和内镜手柄消毒位(15)构成,通道、内腔消毒液出口一个在槽内壁、一个在壳体左外侧、槽内消毒液出口和消毒液、水位开关,冷光源消毒位和内镜手柄消毒位构成设置在壳体的四个方位的底部的涡流喷射头和分布在底部的涡流形成体和器械支架,进水口、排水口、排气口、消毒液出口在壳体的前部壁中间位置,消毒液、水位开关在槽底部手柄槽的左侧,在消毒槽内涡流喷射头分别布局在设定的四个位置,涡流的形成是在微电脑的中央控制下,下达脉冲指令,使双左喷射头和双右喷射头进行功能转换工作。
3、根据权利要求1所述的一种脉冲涡流式微电脑消毒设备,其特征在于所述的涡流分配装置(3)由分流头和等效管构成,安装在消毒槽(2)底部的外面与涡流喷射头(11)相连接,涡流分配装置(3)进行压力流量分配,为保证涡流形成,涡流高压装置要将压力增加到涡流形成的压力,涡流分配装置(3),是由ABSφ10管、用φ10的三通等量制成(受微电脑指令控制功能电磁阀的工作状态)。
4、根据权利要求1所述的一种脉冲涡流式微电脑消毒设备,其特征在于所述的涡流形成器(4),由ABS注塑而成,喷口为2*16mm,喷口射垂直角度为32°,水平角度、左边为22°,右为36°,确保涡流自然形成。
5、根据权利要求1所述的一种脉冲涡流式微电脑消毒设备,其特征在于所述的涡流喷射头(11)由导流管和设置在消毒槽(2)底部的四个位置为一体结构的包括上下喷口角度和左右导流喷射口构成。
6、根据权利要求1所述的一种脉冲涡流式微电脑消毒设备,其特征在于所述的涡流高压装置(6)由加压泵、电磁阀、管道构成,设置在消毒槽(2)的下部用管件与涡流分配装置(3)连接,涡流高压装置(6),使涡流形成核心,在每分钟6-8L/8m的速度情况、配合分配器元件,具有精确的数据衡量,达到涡流旋转。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107296969A (zh) * 2017-04-14 2017-10-27 任帅帅 麻醉面罩消毒方法

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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20081210