CN101311830A - 方片旋转涂胶机构 - Google Patents

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CN101311830A CNA2007100114337A CN200710011433A CN101311830A CN 101311830 A CN101311830 A CN 101311830A CN A2007100114337 A CNA2007100114337 A CN A2007100114337A CN 200710011433 A CN200710011433 A CN 200710011433A CN 101311830 A CN101311830 A CN 101311830A
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陈焱
康宁
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Shenyang Xinyuan Microelectronics Equipment Co Ltd
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Shenyang Xinyuan Microelectronics Equipment Co Ltd
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Abstract

本发明涉及光刻胶的胶涂技术，具体为一种方片旋转涂胶机构，应用于掩膜板及平板显示器制造中方形基片涂光刻胶工艺，也可在其它要求较高均匀性的方形基片涂覆工艺中运用，解决传统旋转涂覆方式在涂胶过程中，方形基片的四角会出现胶膜不均匀而影响使用等问题。采用双层腔体结构，包括上盖、旋转盖板、承片台、外腔体，方形基片吸附于承片台上，承片台外侧设置外腔体，可升降的上盖底部安装旋转盖板；上盖扣在外腔体上，形成外层封闭腔体；旋转盖板扣在承片台上，形成内层封闭腔体。本发明可在涂覆光刻胶工艺中能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，除方形基片边缘2～3mm边框以外，整体均匀性很高。

Description

方片旋转涂胶机构
技术领域：
本发明涉及光刻胶的胶涂技术，具体为一种方片旋转涂胶机构，应用于掩膜板及平板显示器制造中方形基片(板)涂光刻胶工艺，也可在其它要求较高均匀性的方形基片(板)涂覆工艺中运用。
背景技术：
在掩膜板及平板显示器制造中需要在基板上涂覆一层光刻胶，要求均匀性很高，然后经过曝光、显影等工艺使设计好的图形能够转移到基板上。这是掩膜板及平板显示器制造中的一项重要工序，胶膜质量直接影响到所成图形的质量。
传统的旋转涂覆技术在掩膜板及平板显示器制造中得到广泛应用，通常采用在一个圆形腔体内中心有一带吸附平台的旋转主轴，基片用真空吸附在平台上完成涂覆工艺。这一方式广泛应用于圆形基片的涂胶工艺中，能够取得很好的胶膜均匀性。但是，传统的旋涂方式在对方形基片涂胶过程中，由于本身的形状及周边气流的影响方形基片四个角上的胶膜会变厚，极不均匀，造成四角周边很大一块区域不能使用，对基片是很大的浪费，并且可能造成某些工艺要求无法实现。
发明内容：
本发明的目的在于提供一种方片旋转涂胶机构，解决传统旋转涂覆方式在涂胶过程中，方形基片的四角会出现胶膜不均匀而影响使用等问题。
本发明的技术方案是：
一种方片旋转涂胶机构，采用双层腔体结构，包括上盖、旋转盖板、承片台、外腔体，方形基片吸附于承片台上，承片台外侧设置外腔体，可升降的上盖底部安装旋转盖板；上盖扣在外腔体上，形成外层封闭腔体；旋转盖板扣在承片台上，形成内层封闭腔体。
所述承片台周边可以设有销子，旋转盖板通过其上的销孔与承片台上的销子扣合。
所述承片台底部可连接由主轴电机驱动的旋转主轴。
所述外腔体外侧可设置用于滴加光刻胶的移动胶臂。
所述外层封闭腔体底部可连接排风机构。
本发明的有益效果是：
1、本发明方片旋转涂胶机构采用了旋转涂覆方式，其基本原理是先在方形基片上滴一定量的光刻胶，然后瞬间加速快速甩胶，在高速旋转过程中使光刻胶覆盖在方形基片表面形成一层胶膜，其均匀性、膜厚受到转速、加速度、气流等多方面的影响。方片旋转涂胶机构正是运用于这一工艺，能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，实现方形基片胶膜的整体均匀性。
2、本发明方片旋转涂胶机构的核心技术是采用双层腔体结构，内层由一圆形旋转盖板和承片台扣在一起形成一封闭腔体，并带动方形基片一起旋转，通过改变气流形成方形的均匀胶膜。该封闭腔体可以延缓光刻胶的挥发，使光刻胶在旋转到方形基片边缘时，有充足的时间沿边缘继续均匀涂胶。
3、本发明着眼于解决传统旋转涂覆方式产生的问题，在涂覆光刻胶工艺中能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，除方形基片边缘2～3mm边框以外，整体均匀性很高。
附图说明：
图1为本发明方片旋转涂胶机构的结构图。
图中，1上盖；2旋转盖板；3承片台；4主轴电机；5旋转主轴；6外腔体；7移动胶臂；8销子；9方形基片。
具体实施方式：
如图1所示，本发明方片旋转涂胶机构采用双层腔体结构，包括上盖1、旋转盖板2、承片台3、外腔体6，方形基片9吸附于承片台3上，承片台3外侧设置外腔体6，可升降的上盖1底部安装旋转盖板2。上盖1扣在外腔体6上，形成外层封闭腔体；旋转盖板2扣在承片台3上，形成内层封闭腔体。承片台3周边设有销子8，旋转盖板2通过其上的销孔与承片台上的销子扣合，承片台3底部连接由主轴电机4驱动的旋转主轴5，外腔体6外侧设置用于滴加光刻胶的移动胶臂7。
本发明的工作过程为：
手动放片，承片台3抽真空吸附方形基片9，然后通过移动胶臂7滴一定量光刻胶在方形基片9上，移动胶臂7移出后，上盖1带动旋转盖板2一起下降，上盖1扣在外腔体6上，旋转盖板2则扣在承片台3上，并通过承片台3周边的销子8和其连在一起在主轴电机4驱动下，按预先设定的工艺参数(转速、加速度、旋转时间等)完成甩胶过程。
本发明方片旋转涂胶机构可嵌入全自动或独立式半自动方片涂胶设备中用于掩膜板及平板显示器制造中。

Claims (5)

1、一种方片旋转涂胶机构，其特征在于：采用双层腔体结构，包括上盖(1)、旋转盖板(2)、承片台(3)、外腔体(6)，方形基片(9)吸附于承片台(3)上，承片台(3)外侧设置外腔体(6)，可升降的上盖(1)底部安装旋转盖板(2)；上盖(1)扣在外腔体(6)上，形成外层封闭腔体；旋转盖板(2)扣在承片台(3)上，形成内层封闭腔体。
2、按照权利要求1所述的方片旋转涂胶机构，其特征在于：所述承片台(3)周边设有销子(8)，旋转盖板(2)通过其上的销孔与承片台上的销子扣合。
3、按照权利要求1所述的方片旋转涂胶机构，其特征在于：所述承片台(3)底部连接由主轴电机(4)驱动的旋转主轴(5)。
4、按照权利要求1所述的方片旋转涂胶机构，其特征在于：所述外腔体(6)外侧设置用于滴加光刻胶的移动胶臂(7)。
5、按照权利要求1所述的方片旋转涂胶机构，其特征在于：所述外层封闭腔体底部连接排风机构。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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CN111722474A (zh) * 2020-06-24 2020-09-29 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种改善方片边缘涂胶风纹的方法
CN113568273A (zh) * 2021-07-12 2021-10-29 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102285628A (zh) * 2010-06-18 2011-12-21 王云翔 用于半导体微细加工的喷胶装置及衬底的喷涂方法
CN103969955A (zh) * 2013-01-28 2014-08-06 南昌欧菲光科技有限公司 玻璃基片涂胶装置及其固定座
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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