CN101307587A - 无地表水广场地面的铺建方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种建筑施工方法,具体是一种无地表水广场地面的铺建方法。其技术方案是:砌块的12条棱均为倒角设计。毛细流道是网络流道的地面流道,由面层砌块的面上的凹形花纹和砌块间缝隙组成,其作用是将雨水就近及时转入地下的流道,小支流道的一端与毛细流道相通,是雨水进入支流道的流道,支流道是雨水进入排水系统的流道,其与小支流道和主流道相通,纵横支流道相互连通,主流道是雨水进入排水系统的流道,它与支流道和排水系统连通。本发明的效果是:节约成本,就地取材,施工容易,养护方便,能够形成科学合理的排水网络,迅速将地表水渗透到地下。

Description

无地表水广场地面的铺建方法
一、技术领域:
本发明涉及一种建筑施工方法,具体是一种无地表水广场地面的铺建方法。
二、背景技术:
广场是供人们休闲、观赏、集会和进行其他活动的场所。现有的城市广场,尽管主题鲜明,围绕主题设想的功能也比较齐全,铺建的也十分豪华整洁,各种设施齐全,地面也作防滑处理。但是,现有广场虽作了排水设施的设计,但普通砌块在铺设过程中预留的间隙过小,积水很难迅速渗透到地下,仅靠自然蒸发晾干效果不明显,给人们日常的休闲活动等带来极大的不便。
三、发明内容
本发明的目的就是针对现有技术存在的缺陷,提供一种能够迅速将地表水渗透到地下的无地表水广场地面的铺建方法。
其技术方案是:砌块的12条棱均为倒角设计。场地面层砌块较厚时,砌块面的凹形花纹和砌块的面棱倒角作为毛细流道,面层砌块的四竖棱倒角作为地下水流道网络的小支流道,面层砌块的四底棱倒角作为地下水流道网络的支流道,找平层中预留的凹形槽和砌块底棱倒角作为地下水流道网络的主流道,毛细流道、小支流道、支流道和主流道相互连通,主流道与场所排水系统的排水沟相通;场地面层砌块较薄时,利用板材表面的凹形花纹和板间缝隙作为毛细流道,场地面层砌块铺完后,支流道预埋于找平层中,按预埋入找平层的支流道尺寸,钻通作为小支流道,毛细流道、小支流道、支流道和主流道相互连通,主流道与场所排水系统的排水沟相通。
本发明的效果是:节约成本,就地取材,施工容易,养护方便,能够形成科学合理的排水网络,迅速将地表水渗透到地下。
四、附图说明:
附图1是本发明的场地地下水流道网络示意图;
附图2是本发明的场地面层砌块较厚时的铺设示意图;
附图3是本发明的场地面层砌块较薄时的铺设示意图。
1-砌块;2-毛细流道;3-小支流道;4-支流道;5-主流道;6水泥砂浆;7-找平层。
五、具体实施例:
参照附图1、2、3,本发明的砌块1的12条棱均为倒角设计。场地面层砌块1较厚时,砌块1的凹形花纹和砌块1的面棱倒角作为毛细流道2,面层砌块1的四竖棱倒角作为地下水流道网络的小支流道3,面层砌块1的四底棱倒角作为地下水流道网络的支流道4,找平层7中预留的凹形槽和砌块1底棱倒角作为地下水流道网络的主流道5,毛细流道2、小支流道3、支流道4和主流道5相互连通,主流道5与场所排水系统的排水沟相通;场地面层砌块1较薄时,砌块1表面的凹形花纹和砌块1的间缝隙作为毛细流道2,支流道4预埋于找平层7中,场地面层砌块1铺完后,按预埋入找平层7的支流道4尺寸,钻通作为小支流道3,毛细流道2、小支流道3、支流道4和主流道5相互连通,主流道5与场所排水系统的排水沟相通。
毛细流道2是网络流道的地面流道,由面层砌块1的面上的凹形花纹和砌块1间缝隙组成,其作用是将雨水就近及时转入地下的流道,小支流道3的一端与毛细流道2相通,是雨水进入支流道4的流道,支流道4是雨水进入排水系统的流道,其与小支流道3和主流道5相通,纵横支流道相互连通,主流道5是雨水进入排水系统的流道,它与支流道4和排水系统连通。

Claims (3)

1、一种无地表水广场地面的铺建方法,其特征在于:砌块的12条棱均为倒角设计。
2、根据权利要求1所述的无地表水广场地面的铺建方法,其特征在于:场地面层砌块较厚时,砌块面的凹形花纹和砌块的面棱倒角作为毛细流道,面层砌块的四竖棱倒角作为地下水流道网络的小支流道,面层砌块的四底棱倒角作为地下水流道网络的支流道,找平层中预留的凹形槽和砌块底棱倒角作为地下水流道网络的主流道,毛细流道、小支流道、支流道和主流道相互连通,主流道与场所排水系统的排水沟相通。
3、根据权利要求1和2所述的无地表水广场地面的铺建方法,其特征在于:场地面层砌块较薄时,利用板材表面的凹形花纹和板间缝隙作为毛细流道,场地面层砌块铺完后,支流道预埋于找平层中,按预埋入找平层的支流道尺寸,钻通作为小支流道,毛细流道、小支流道、支流道和主流道相互连通,主流道与场所排水系统的排水沟相通。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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