CN101221376A - 基于多周期标记的色动态选择方法 - Google Patents
基于多周期标记的色动态选择方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101221376A CN101221376A CNA2008100332637A CN200810033263A CN101221376A CN 101221376 A CN101221376 A CN 101221376A CN A2008100332637 A CNA2008100332637 A CN A2008100332637A CN 200810033263 A CN200810033263 A CN 200810033263A CN 101221376 A CN101221376 A CN 101221376A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- color
- dynamic selection
- signal
- grating
- look
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
本发明公开了一种色动态选择方法，包括：接收多个不同波长光源的各三个周期信号作为对准信号，根据反射信号强度与预定阈值的大小关系，用三周期光栅做捕获色动态和对准色动态选择，或使用大周期光栅做捕获色动态选择，小周期精细光栅进行对准色动态选择。采用本发明的方法后，不但可以获得精确的对准位置，而且可以避免因不同周期标记信号强度变化规律不正常引起的误差，保证在特定情况下选择合适的对准光束。
Description
技术领域
本发明涉及半导体制造领域，具体而言，涉及一种应用于光刻设备的色动态选择方法以及基于色动态选择的对准位置确定方法。
背景技术
光刻装置是制造集成电路的主要设备，其作用是使不同的掩膜图案依次成像到基底(半导体硅片或LCD板)上的精确对准的位置。然而这个对准位置却因为连续图形所经历的物理和化学变化而改变，因此需要一个对准系统，以保证硅片对应掩膜的对准位置每次都能够被精确的对准。随着基底每单位表面积上的电子元件数量的增长以及电子元件的尺寸合成越来越小，对集成电路的精度要求日益提高，因此依次掩膜成像在基底上的位置必须越来越准确的固定，对光刻时对准精度的要求也越来越高。
美国专利第5243195号公开了一种对准系统其中提及一种轴上对准方式，这种对准方式的优点在于掩膜和基底可以直接被对准，但其缺点在于难以改进到更高的精密度和准确度，而且各种工艺步骤会引起对准标记变化，从而引入不对称性和基底光栅标记的沟槽有效深度的变化。这种现象导致工艺检测不到光栅标记，或在其他情况下仅提供微弱的信号，对准系统稳定性降低。
为了解决这个问题，中国专利申请第03164858号公开了一种双波长对准系统，包括具有第一波长和第二波长的对准辐射源；具有第一波长通道和第二波长通道的检测系统，第一波长通道接收对准标记第一波长处的对准辐射，第二波长通道接收对准标记第二波长处的对准辐射；以及一个定位单元，用以根据在第一波长处检测到的对准辐射相对于在第二波长处检测到的对准辐射的相对强度来确定对准标记的位置。从上述系统中，可以看出，该系统事实上是使用了两个独立的波长来照射和检测基底上的对准标记的位置，从而可以动态的选择对准激光，以取得更好的对准效果。但是，在现有的双波长激光测量系统中，采用的色动态选择方法是简单的不加区分的加权比较，没有考虑不同周期信号强度变化不规律的情况，不能保证在同一种激光照射的情况下，一旦不同周期信号强度不符合正常的变化规律时(可能是标记线条被工艺处理产生信号增强的特性改变)，针对多周期对准方案的选择的对准光束正确性。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种色动态选择方法以及基于色动态选择方法的对准位置确定方法，不但可以增强对工艺的适应性，取得更精确的对准位置，而且可以避免因不同周期标记信号强度变化规律不正常引起的误差，保证在特定情况下选择合适的对准光束。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：接收多个不同波长光源的各三个周期信号作为对准信号，根据反射信号强度与预定阈值的大小关系，用三周期光栅做捕获色动态和对准色动态选择，或使用大周期光栅做捕获色动态选择，小周期精细光栅进行对准色动态选择。
在上述方法中，当反射信号强度高于所述预定阈值时，用三周期光栅做捕获，包括以下步骤：对于各种颜色信号，分别相加三个周期光栅的在不同波长下的反射强度，并比较，值大者为捕获所需颜色信号和对准所需颜色信号。
在上述方法中，当反射信号强度低于所述预定阈值时，使用大周期光栅做捕获，包括以下步骤：比较多个大周期光栅的反射信号强度，选择较低的一个；以及将多个大周期光栅的较低信号强度的1级次光再进行比较，将多个最小值中最大的值所对应的颜色，作为捕获颜色。
在上述方法中，在确定捕获颜色之后还包括以下步骤：小周期精细光栅参与对准色动态选择，比较该周期光栅不同波长的1级次光的反射强度，取较大的作为对准颜色。
通过上述技术方案，本发明有效地避免了不同周期信号强度变化规律不正常引起的误差，保证了选择合适的对准光束。
附图说明
图1是根据本发明色动态选择方法的标记深度和红色、绿色激光信号的能量关系的示意图。
图2示出根据本发明对准位置确定方法的三周期对准方案标记和对准信号的基本形式。
具体实施方式
本发明色动态选择方法适用于多波长的激光测量系统，其主要为了在不同周期信号强度变化规律正常情况下进行对准光束选择以及在不同周期信号强度变化规律不正常引起的误差情况下，保证在特定情况下选择合适的对准光束。
图1示意了本发明所使用的用以照射对准标记的两种波长的对准成像信号，分别为波长为633纳米的红色成像信号(图中以点线表示)和波长为532纳米的绿色成像信号(图中以虚线表示)。从图1可见，在一定标记深度范围内，例如100纳米到230纳米左右的区间内，不同周期红色成像信号的强度大于绿色成像信号，相反，在另一部分标记深度范围内，例如230纳米到420纳米左右的区间内，不同周期绿色成像信号的强度大于红色成像信号。图1中黑线条表示在任何标记深度处均取红色成像信号和绿色成像信号中强度相对较大的一个。但是在某些标记深度信号强度低于预定阈值时，各周期的信号强度变化规律会不一致，从而导致不同周期信号对同一种波长的光的反射强度不一致。例如，在22纳米处，P1，P2周期的光栅(参见图2)对红光反射强度较弱，而P3周期的光栅(参见图2)则对红光反射较强。因此，需要使用一种新的判断方法来进行色动态选择。
以下结合两个具体实施例说明本发明色动态选择方法。
图2示出根据本发明的色动态选择方法的多波长三周期对准方案标记和对准信号的基本形式，图2中，P1、P2、P3分别表示周期由大到小的三个不同周期的光栅，P1 signal、P2 signal、P3 signal分别表示P1、P2、P3光栅相对应的反射信号。
多波长三周期对准方式，是指采用多种波长的光源，分别采集同一波长光源的三个不同周期的信号作为反射信号，用以进行掩膜图案和基底位置的对准。
实施例一(反射信号强度高于预定阈值)
根据本实施例的色动态选择方法，包括以下步骤：
步骤S10、捕获颜色动态选择：使用多波长三周期对准方式，使用三个周期光栅的对准波长级次为1级的子光束光信号进行捕获，获得反射信号强度较大的光信号的颜色。即遵循以下公式：
捕获光信号颜色＝MAX[(P*WQP1(green)+S*WQP2(green)+T*WQP3(green))，(P*WQP1(red)+S*WQP2(red)+T*WQP3(red))]，其中，P，S，T分别为计算的比例系数，P*WQP1(green)+S*WQP2(green)+T*WQP3(green)表示绿光的三周期反射信号强度之和，P*WQP1(red)+S*WQP2(red)+T*WQP3(red)表示红光的三周期反射信号强度之和。
步骤S21.对准色动态选择：选择对准所需光信号颜色与捕获所需光信号颜色一致。
对准颜色＝捕获颜色
可见，当反射信号强度高于预定阀值时，对于各种颜色信号，分别相加三个周期光栅的在不同波长下乘以相关系数的反射强度，并比较，值大者为捕获所需颜色信号和对准所需颜色信号。
实施例二(反射信号强度低于预定阈值)
根据本实施例的色动态选择方法，包括以下步骤：
步骤S20，捕获光信号颜色动态选择：通过光纤将信号引入光学解调板采集1级光信号，使用多波长三周期对准方式，使用大周期光栅做捕获，获得捕获颜色。
用大周期光栅做捕获，具体包括以下步骤：
S201、比较选择信号相对较弱的周期，将各个波长的较低信号强度的周期的1级信号再进行比较；以及
S202、将多个波长的较低信号强度的1级次信号再进行比较，将多个最小值中最大的值所对应的颜色，作为捕获颜色。
捕获颜色＝MAX[min(WQP1(green)，WQP2(green))，min(WQP1(red)，WQP2(red))]
步骤S21.对准颜色动态选择：P3小周期精细光栅参与对准色动态选择，由于不同周期光栅反射信号强度不一致，该选择即遵循以下公式：
对准颜色＝MAX[WQP3(green)，WQP3(red)]，其中，WQP3(green)表示绿光的P3周期反射信号强度，WQP3(red)表示红光的P3周期反射信号强度。
以上仅为本发明的两个优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种色动态选择方法，其特征在于，包括：
接收多个不同波长光源的各三个周期信号作为对准信号，根据反射信号强度与预定阈值的大小关系，用三周期光栅做捕获色动态和对准色动态选择，或使用大周期光栅做捕获色动态选择，小周期精细光栅进行对准色动态选择。
2.如权利要求1所述的色动态选择方法，其特征在于，当反射信号强度高于所述预定阈值时，用三周期光栅做捕获，包括以下步骤：
对于各种颜色信号，分别相加三个周期光栅的在不同波长下的反射强度，并比较，值大者为捕获所需颜色信号和对准所需颜色信号。
3.如权利要求1所述的色动态选择方法，其特征在于，当反射信号强度低于所述预定阈值时，使用大周期光栅做捕获，包括以下步骤：
比较多个大周期光栅的反射信号强度，选择较低的一个；以及
将多个大周期光栅的较低信号强度的1级次光再进行比较，将多个最小值中最大的值所对应的颜色，作为捕获颜色。
4.如权利要求3所述的色动态选择方法，其特征在于，在确定所述捕获颜色之后还包括以下步骤：
小周期精细光栅参与对准色动态选择，比较该周期光栅不同波长的1级次光的反射强度，取较大的作为对准颜色。
5.一种基于权利要求1所述的色动态选择方法在反射光信号强度低于阈值时来确定对准颜色的方法，在确定捕获颜色之后还包括以下步骤：
小周期精细光栅参与对准色动态选择，比较该周期光栅不同波长的1级次光的反射强度，取较大的作为对准颜色。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNA2008100332637A CN101221376A (zh) | 2008-01-30 | 2008-01-30 | 基于多周期标记的色动态选择方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNA2008100332637A CN101221376A (zh) | 2008-01-30 | 2008-01-30 | 基于多周期标记的色动态选择方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101221376A true CN101221376A (zh) | 2008-07-16 |
Family
ID=39631289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNA2008100332637A Pending CN101221376A (zh) | 2008-01-30 | 2008-01-30 | 基于多周期标记的色动态选择方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101221376A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111783522A (zh) * | 2020-05-19 | 2020-10-16 | 阿里巴巴集团控股有限公司 | 物体检测系统、方法、装置及设备 |
-
2008
- 2008-01-30 CN CNA2008100332637A patent/CN101221376A/zh active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111783522A (zh) * | 2020-05-19 | 2020-10-16 | 阿里巴巴集团控股有限公司 | 物体检测系统、方法、装置及设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2017076228A1 (zh) | 一种计算机辅助的全波段光谱仪波长标定方法 | |
| DE112011103113B4 (de) | Reflektivitätsmessverfahren, Membrandickenmessvorrichtung und Membrandickenmessverfahren | |
| CN102374977B (zh) | 透射率测定装置、光掩模的透射率检查装置、透射率检查方法 | |
| US8039786B2 (en) | Absolute position encoder obtains signals corresponding to individual imaging ranges of imaging optical systems | |
| US20050206907A1 (en) | Apparatus and method for measuring spectral reflectance and apparatus for measuring film thickness | |
| CN105467781B (zh) | 一种具有调焦及倾斜校正设计的标记及对准方法 | |
| CN105890529B (zh) | 测量细丝直径的方法 | |
| JPH10267628A (ja) | ３次元形状検出方法およびその装置並びに基板の製造方法 | |
| CN102375351B (zh) | 一种信号归一化掩模对准系统 | |
| KR102127300B1 (ko) | 반도체 리소그래피용 포토마스크의 임계 치수 균일도를 교정하기 위한 방법 | |
| KR20050026317A (ko) | 스트레이 광 측정 방법 및 이를 위한 측정 시스템 | |
| CN108351595A (zh) | 对准标记、利用其的对准测量方法及半导体装置制造方法 | |
| CN105977776B (zh) | 一种绝对波长标定和校准装置及其方法 | |
| CN101634815B (zh) | 一种基于多个不同波长的对准方法 | |
| CN101221376A (zh) | 基于多周期标记的色动态选择方法 | |
| CN103365105B (zh) | 一种对准过程中光强采样点筛选修正的方法 | |
| CN114459618A (zh) | 用于测量激光的斐索干涉波长计、光学设备 | |
| CN104423173A (zh) | 套刻测量装置和方法 | |
| CN102692829A (zh) | 基于双光源多周期标记的对准方法及对准系统 | |
| CN104111161A (zh) | 一种波像差测量装置 | |
| CN102692822B (zh) | 一种基于多波长的对准系统及对准方法 | |
| CN103197505B (zh) | 基于标记周期级次光强值累加判断寻找对准标记的方法及对准系统 | |
| CN102841515B (zh) | 基于多周期标记的对准方法及装置 | |
| CN106647174B (zh) | 一种调焦调平装置及调焦调平方法 | |
| CN102566337B (zh) | 一种标记期望位置确定方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20080716 |