CN101122751B - 用于一显影机台的液体回收装置及包含该装置的显影机台 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于一显影机台的液体回收装置及包含该装置的显影机台，其中该显影机台包含一液体施配装置及一输送装置，该输送装置将一基板沿一方向运送，进入一涂布区域，以将该液体施配装置所配施的液体，均布于该基板的一表面上；该液体回收装置包含：一液体容器以及一驱动装置，其装设于该液体容器的一侧，用以带动该液体容器至一第一位置，承接该所配施的液体。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于一显影机台的液体回收装置，尤其涉及一种防止显影液与空气大量接触的液体回收装置，可应用于须使用显影工艺的设备，尤其是薄膜晶体管(thin-film transistor，TFT)的工艺设备。
背景技术
为了达到组件微小化的目的，目前工业界常使用显影工艺制造元件，例如制造电子工业的电子元件、机械工业的微机械、显示器工业的薄膜晶体管等等。显影工艺简言之，先于一工件(例如一基板)上均匀涂布一合适的液体，之后将该基板烘烤及曝光，并进行后续程序。
图1所示为一现有技术显影机台的涂布区域示意图，该显影机台运作方式简述如下：一基板101通过一输送装置103沿一运送方向105输送一涂布区域107。当基板101通过一位于涂布区域107中的液体施配装置109的喷嘴(nozzle)(图未标示)下方时，液体施配装置109将欲配施的一液体(例如含四甲基氢氧化铵((CH3)4NOH，TMAH)的显影液)由喷嘴流出，使该液体(图未绘示)均匀涂布于该基板101的上表面。待基板101完全通过液体施配装置109后，该基板101的上表面将布满该液体。
然而，当系统于闲置状态(idle)时，意即当无任何基板101通过液体施配装置109下方时，该液体仍持续由液体施配装置109的喷嘴流出。于此一状态下，液体将通过一回流路径(例如一导板113)回流至液体回收槽111，以便回收再使用。当液体回流至液体回收槽111的途中，因回流路径为一开放空间，将致使显影液与空气大量接触。某些显影液中的某些化学成分—例如前述显影液的TMAH—可与空气产生额外的化学反应。当额外的化学反应产生时，可能致使显影液的反应浓度下降，导致其与光阻反应速度减缓、显影后产品的质量不稳定及无法掌握稳定的显影参数的问题。而且当机台闲置后复机时，为改善浓度降低所造成的问题，必须更换显影液，此将造成显影液成本的提升、 且工艺更加复杂。
以含TMAH的显影液为例，显影液包含TMAH及水，其中TMAH为显影液的主成分及主要反应物。于显影液回流路径中，空气中的二氧化碳(CO2)将溶于水，并产生碳酸(H2CO3)，而碳酸会与TMAH产生一如下的酸碱中和反应：
CO2+H2O
H2CO3 H++HCO3 -
(CH3)4NOH+H2CO3 
H2O+(CH)4N-CO3H
此一中和反应会致使TMAH的可反应浓度下降，进而导致前述的问题发生。
有鉴于此，提供用于一显影机台的液体回收装置以减少显影液与空气接触，乃为业界急待解决的问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种用于一显影机台的液体回收装置及包含该液体回收装置的显影机台。
为实现上述目的，本发明所提供的显影机台，包含一液体施配装置，用以配施液体；一输送装置，用以将一基板沿一方向运送，进入一涂布区域，以将该液体施配装置所配施的液体均布于该基板的一表面上；以及一液体回收装置，包含：一液体容器；以及一驱动装置，其装设于该液体容器的一侧，用以带动该液体容器至一位置，承接该所配施的液体。
而且，为实现上述目的，本发明所提供的液体回收装置则包含：一液体容器；以及一驱动装置，其装设于该液体容器的一侧，用以带动该液体容器至一第一位置，承接该所配施的液体。本发明的液体回收装置可减少显影液与空气进行化学反应，以保持显影液的浓度，使得显影反应的速度达到均一稳定，从而改善产品质量，提升良率，并可进一步避免机台闲置后复机时，因浓度降低而必须更换显影液所浪费的成本。
为让本发明的上述目的、技术特征和优点能更明显易懂，下文以较佳实施例配合所附附图进行详细说明。
附图说明
图1现有技术显影机台的涂布区域示意图；
图2A本发明液体回收装置的液体容器位于第二位置示意图；
图2B本发明液体回收装置的液体容器位于第一位置示意图；以及
图3本发明另一态样中液体回收装置的液体容器位于第二位置示意图。
其中，附图标记：
101、201、301：基板
103、203、303：输送装置
105、205、305：运送方向
107、207、307：涂布区域
109、209、309：液体施配装置
111、211、311：液体回收槽
具体实施方式
首先参考图2A，为一用于一显影机台的液体回收装置的示意图。基板201置于输送装置203上，并沿一运送方向205通过一涂布区域207，以进行涂布显影液的程序。液体施配装置209设置于涂布区域207中。液体施配装置209具有一喷嘴(nozzle)(图未标示)，当基板201通过其下方时，液体施配装置209将一液体(例如含TMAH的显影液)由喷嘴流出，使该液体(图未绘示)均匀涂布于基板201的上表面。液体回收装置设置于机台中的一适切位置，且包含一液体容器及一驱动装置。驱动装置通常设于液体容器的一侧。以本实施态样为例，液体回收装置设置于输送装置203下方，驱动装置装设于液体容器的下方。
接着参考图2B。当基板201离开涂布区域207后，显影机台进入闲置状态，液体回收装置将进行液体回收的程序。进行液体回收的程序时，驱动装置将带动液体容器至一第一位置(如图2B中液体容器所在的位置)停留，以便承接由液体施配装置209流出的液体，并使液体经由一导流装置(较佳者为一封闭的导流装置)流至液体回收槽211，即，第一位置为能够承接由液体施配装置流出的液体的位置。当液体容器于第一位置时，较佳者使液体容器与液体施配装置209相接且形成一密闭空间，如此可更进一步减少液体与大气接触机会。
驱动装置可包含一伺服马达、油压装置、气动装置、其它合宜的驱动装置或前述的组合。使液体由液体施配装置209流回至液体回收槽211的导流装置可为现有技术任何液体导流装置，例如以一导流管连接液体容器及液体回收槽211，使液体通过该导流管流至液体回收槽211；或者也可使用自该液体回收槽向该液体容器延伸的一导流板，使液体通过该导流板流至液体回收槽211，甚至也可混合使用前述导流管与导流板。
当另一基板(图未绘示)进入涂布区域207时，显影机台离开闲置状态，液体回收装置的液体容器将被驱动装置带动，由第一位置移至一第二位置停留。以本态样为例，该第二位置位于该输送装置203的下方(例如图2A中液体容器所在的位置)，此时由液体施配装置209与液体容器所共同界定的一密闭空间将开启。如此，该液体施配装置209可将欲配施的液体均匀地涂布于该基板的一表面上，完成下一涂布程序。
为明确得知基板201是否位于涂布区207内，以便决定液体容器的停留位置，本发明的液体回收装置可进一步设置一感应装置，并使其电性连接驱动装置。感应装置由第一感应器与第二感应器所组成，其中第二感应器沿着基板201的运送方向205，与第一感应器相对设置。
第一感应器与第二感应器将定义一区域(图未标示)，该区域包含涂布区域207；当然，也适可等同于该涂布区域207。当基板201前缘通过该第一感应器，进入该区域时，驱动装置将接受一来自第一感应器的信号，随即将液体容器由第一位置移往第二位置停留。当基板201离开涂布区域207且其后缘通过该第二感应器时，第二感应器将提供一信号予驱动装置，使驱动装置将液体容器由第二位置移往第一位置停留，以便承接由液体施配装置209所流出的液体。
第一感应器及第二感应器可视应用上的需求，选用光电式感应器、机械式感应器、其它合宜的感应器或前述的组合。
图3揭示本发明的另一实施方式。类似图2A，基板301置于输送装置303上，并沿一运送方向305通过涂布区域307，以使液体施配装置309将一液体(图未绘示)由其喷嘴(图未标示)流出，达均匀涂布液体于基板301上表面的目的。如图3所示实施态样，液体回收装置设置于输送装置303上方及液体施配装置309的一左侧，而驱动装置装设于液体容器的左侧。而经由导流装置使液体自液体容器流至液体回收槽311。
上述各态样中的液体回收装置于机台中的设置位置、液体容器与驱动装置的相对位置或液体容器的形态等，均不限于附图所示的内容，尤其本领域技术人员参考在此揭露的技术内容，当能想到各式不同的实施样态。例如，上述第二位置不限于如图2A所示液体容器的位置，即输送装置203的下方，或如图3所示液体容器的位置，即输送装置303的上方、液体施配装置309的一侧。更明确说明，第二位置可为液体容器停留于远离液体施配装置的位置，使液体施配装置适可于基板上涂布一液体。
综上所述，本发明提供一液体回收装置，其可有效避免机台在闲置时，该显影剂不断地与空气接触而产生额外的反应，如此可使得显影反应的速度达到均一稳定，进而改善产品质量，提升良率，也可减少复机后必须更换显影液所浪费的成本。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的普通技术人员当可根据本发明做出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。
Claims (14)
1.一种用于一显影机台的液体回收装置，该显影机台包含一液体施配装置及一输送装置，该输送装置将一基板沿一方向运送，使该基板进入一涂布区域，以将该液体施配装置所配施的液体，均布于该基板的一表面上，其特征在于，该液体回收装置包含：
一液体容器；
一驱动装置，其装设于该液体容器的一侧，用以带动该液体容器至一第一位置，承接该所配施的液体；以及
一感应装置，与该驱动装置电性连接，用以感应基板通过该涂布区域，该感应装置具有：
一第一感应器；以及
一第二感应器，沿该基板的运送方向，与该第一感应器相对设置，其中该第一感应器与该第二感应器所界定的一区间包含该涂布区域，当该基板的一前缘通过该第一感应器而进入该涂布区域时，该第一感应器将提供一信号予该驱动装置，使该驱动装置将该液体容器朝远离该第一位置的一第二位置带动；当该基板离开该涂布区域且其一后缘通过该第二感应器时，该第二感应器将提供一信号予该驱动装置，使该驱动装置将该液体容器朝该第一位置带动，以承接由该液体施配装置所流出的液体。
2.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该第一感应器与该第二感应器所界定的一区间为该涂布区域。
3.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，另包含：
一导流装置及一液体回收槽，该导流装置设于该液体容器及该液体回收槽之间，以将该液体容器内的液体导引至该液体回收槽。
4.根据权利要求3所述的液体回收装置，其特征在于，该导流装置包含一导流管，连通于该液体容器及该液体回收槽之间。
5.根据权利要求3所述的液体回收装置，其特征在于，该导流装置包含一导流板，自该液体回收槽内向该液体容器延伸。
6.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该驱动装置包含一伺服马达。
7.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该驱动装置包含一油压装置。
8.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该驱动装置包含一气动装置。
9.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该感应装置包含一光电感应器。
10.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该感应装置包含一机械式感应器。
11.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该液体容器处于该第一位置时，与该液体施配装置共同界定一密闭空间。
12.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该第二位置位于该输送装置的上方。
13.根据权利要求1所述的液体回收装置，其特征在于，该第二位置位于该输送装置的下方。
14.一种显影机台，其特征在于，包含：
一液体施配装置，用以配施液体；
一输送装置，用以将一基板沿一方向运送，使该基板进入一涂布区域，以将该液体施配装置所配施的液体均布于该基板的一表面上；以及
一液体回收装置，包含：
一液体容器；
一驱动装置，其装设于该液体容器的一侧，用以带动该液体容器至一第一位置，承接该所配施的液体；以及
一感应装置，与该驱动装置电性连接，用以感应基板通过该涂布区域，该感应装置具有：
一第一感应器；以及
一第二感应器，沿该基板的运送方向，与该第一感应器相对设置，其中该第一感应器与该第二感应器所界定的一区间包含该涂布区域，当该基板的一前缘通过该第一感应器而进入该涂布区域时，该第一感应器将提供一信号予该驱动装置，使该驱动装置将该液体容器朝远离该第一位置的一第二位置带动；当该基板离开该涂布区域且其一后缘通过该第二感应器时，该第二感应器 将提供一信号予该驱动装置，使该驱动装置将该液体容器朝该第一位置带动，以承接由该液体施配装置所流出的液体。
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