CN101084859A - 脚气治疗器 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种医疗器械,它包括可盛放药液的容器和安装于所述容器上的臭氧发生器,所述容器的上方设有供脚部伸入容器内部的容器口,所述臭氧发生器的出气管伸入容器的液体内,所述容器内腔的底部设有按摩垫,使用简单方便,而且成本低廉,治疗效果较好,能消灭真菌的同时不伤害皮肤,而且在治疗的同时可以起到按摩脚底的作用,为患者减轻了痛苦。
Description
技术领域
本发明涉及医疗器械技术领域,尤其是一种治疗脚气的器具。
背景技术
脚气是一种非常常见的真菌感染性皮肤病,成人中70-80%的人有脚气,只是轻重不同而已。常在夏季加重,冬季减轻,也有人终年不愈,由于其传染性强,经常在不知的情况下就被传染,而且不易彻底治疗,经常反复发作,常有乏力、精神萎倦、食欲不振、呕吐、腹泻或便秘,伴腹痛、腹胀、体重减轻、生长发育滞迟等,严重影响患者的日常生活,现有的治疗方式一般用药物涂擦、熏蒸和内服等,效果不理想,而且现有的药物经常伤及皮肤,经常由于衣物和鞋袜的摩擦等引起交叉感染以及病菌本身对药物的抗药性,总是反复发作,久治不愈,而且因为很多患者在治疗过程中随心所欲的用药或停药,难以达到满意的治疗效果,而熏蒸治疗由于密封性不好,治疗效果不好,使病人反复发作,增加了患者的痛苦。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:为解决上述不足之处,提供了一种治疗效果较好、成本低廉的脚气治疗器。
为实现上述目的,本发明的技术方案是:脚气治疗器,包括可盛放药液的容器和安装于所述容器上的臭氧发生器,所述容器的上方设有供脚部伸入容器内部的容器口,所述臭氧发生器的出气管伸入容器的液体内,所述容器内腔的底部设有按摩垫。
由于采用了上述技术方案,脚气治疗器,包括可盛放药液的容器和安装于所述容器上的臭氧发生器,所述容器的上方设有供脚部伸入容器内部的容器口,利用臭氧发生器给容器中加入臭氧灭菌剂,溶液一般采用零度液体,实现冷水使真菌不能存活,结合药物及臭氧可以起到快速治疗的效果;所述容器内腔的底部设有按摩垫,可以在药物杀菌治疗时,起到按摩脚底的作用,使患者在每日洗脚过程中彻底的得到治疗,由于按摩垫使患者更为舒适;所述容器口上设有密封装置,可以使药液和臭氧在容器内完全密封,以彻底杀灭细菌,达到更好的治疗效果。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
附图是本发明实施例的结构示意图。
具体实施方式
如图所示,脚气治疗器,包括可盛放药液的容器1和安装于所述容器1上的臭氧发生器3,所述容器1的上方设有供脚部伸入容器1内部的容器口2,所述容器口2上设有密封装置5;所述臭氧发生器3的出气管6伸入容器1的液体内,在使用时,通过容器口2将容器1内注入冷水和脚气治疗液,然后将脚从容器口2内伸入,由于所述密封装置5包括封堵所述容器口2的柔软覆盖物6,所述柔软覆盖物6上设有脚部插入口7,所述插入口7的周边设有能束住腿部的弹性体8,可以将脚通过脚部插入口7中伸入容器1内,然后将弹性体8束住腿部,使容器1内很好的密封起来,将所述臭氧发生器3的出气管6伸入容器1的液体内,由臭氧灭菌剂与冷水或药液结合使治疗效果更好,而在容器1内腔的底部设有按摩垫4,可以在治疗的同时,对脚底进行按摩,既可以在装脚气治疗液和冷水的容器1内通过出气管6注入臭氧,通过与脚气治疗液同时治疗以达到灭菌的目的,也可以根据脚气的轻重在药液内自由添加药物以达到更好的治疗,由于与臭氧结合治疗,使本治疗无副作用,不会有加重或伤害皮肤的现象,有利于各种病因的脚气患者。
本发明结构简单,使用方便,而且成本低廉,由于密封性好,提高了治疗效果,能消灭真菌的同时不伤害皮肤,而且在治疗的同时可以起到按摩脚底的作用,为患者提供了舒适的治疗方法。
Claims (4)
1、脚气治疗器,包括可盛放药液的容器(1)和安装于所述容器(1)上的臭氧发生器(3),其特征在于:所述容器(1)的上方设有供脚部伸入容器(1)内部的容器口(2),所述臭氧发生器(3)的出气管(6)伸入容器(1)的液体内。
2、如权利要求1所述的脚气治疗器,其特征在于:所述容器口(2)上设有密封装置(5)。
3、如权利要求2所述的脚气治疗器,其特征在于:所述密封装置(5)包括封堵所述容器口(2)的柔软覆盖物(6),所述柔软覆盖物(6)上设有脚部插入口(7),所述插入口(7)的周边设有能束住腿部的弹性体(8)。
4、如权利要求1、2或3所述的脚气治疗器,其特征在于:所述容器(1)内腔的底部设有按摩垫(4)。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2006
- 2006-06-08 CN CN 200610044622 patent/CN101084859A/zh active Pending
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C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20071212 |