CN100338718C - 具有一个主透镜的电子枪 - Google Patents

Abstract

一个同轴类型的电子枪包括用来发射电子的电极(2)，所述电极在一个第一方向被并列。所述电子枪包括一个主透镜部分(4)以将所述电子束聚焦到一个显示屏(36)上。传统的，所述主透镜的电极(20、21、22)包括一个基片(23)，它是一个被提供了用于每个所述束的分离孔的片状元件。根据本发明，所述主透镜部分的电极(10、11、12)中的至少一个被提供有一个所谓的场切割器(14、19)，它是一个被提供了用于所有束的一个公共孔的片状元件。在优选实施例中，所述场切割器允许具有像散主透镜，其产生了更好的斑点特性和减小的水平放大。优选的，所述主透镜具有正动态像散，从而就不再需要一个分离的DAF部分。

Description

具有一个主透镜的电子枪

技术领域

本发明涉及用于电视机和电脑监视器类型的电子枪。

背景技术

电子枪在电视机和电脑监视器内的阴极射线管中有很宽的应用。一个现有技术的电子枪通常由用来形成电子束的至少一个三极，以及包括至少两个电极的一个主透镜部分组成。所述三极包括一个阴极和两个电极。一个电压差被施加在所述主透镜部分的电极之间，从而一个电场就被定义在这些电极之间的缝隙中。所述电场实现了对所述电子束的聚焦透镜作用，所述的透镜作用使得所述电子束被聚焦在一个阴极射线管(CRT)的显示屏上。

CRT发展中的主要趋势是平的或者几乎平的更大屏幕，所述CRT深度的减小，更高的分辨率和更低的成本。从电子光学的角度来看，这些趋势带来三个问题：

a)对于一个平的或者几乎平的显示屏，也就是一个非球形显示屏，所述焦距必须随着所述电子束在所述显示屏上的到达位置而变化。在所述屏幕的角落，焦距必须比在所述屏幕的中心时更大。

b)偏转单元一般是一个磁偏转单元，它对所述电子束具有一个像散电子光学透镜的副作用。该偏转透镜的强度随着偏转角的增加而增加，从而也就随着所述电子束在所述显示屏上的到达位置而变化。由于一个深度的减小一般需要所述电子束被偏转一个更大的角度，所以在具有减小的深度的一个CRT中，所述偏转透镜的透镜作用变得更强。

c)一般的，如果所述斑点大小，也就是所述电子束在所述显示屏上的大小被减小，那么一个观者就感觉到一个提高的清晰度。这也允许了一个更高的图像分辨率。

一个简单的传统电子枪具有一个固定的焦距，这意味着所述电子束将仅仅被很好的聚焦在距离所述主透镜部分一特定的距离。对于在一个CRT中被偏转的电子束，这意味着所述束被聚焦在一个球面上。所述偏转透镜的作用没有被补偿。

一个更加先进的传统电子枪是所谓的DAF电子枪，它包括安排在一个动态像散和聚焦(DAF)部件中的多个附加电极。一个更加先进的传统电子枪是所谓的DAF-DBF电子枪，它包括一个DAF部分，以及靠近所述三极的一个动态束形成(DBF)部分。

当一个动态电压，也就是依赖于所述束要被偏转到的屏幕位置的一个电压被施加到这样一个DAF部分内多个电极中的至少一个时，一个动态正像散透镜作用被提供作用在所述电子束上，以至少部分补偿所述偏转透镜的透镜作用。同样，这些枪还具有一个可变的焦距，从而就改善了对所述电子束在一个非球面上的聚焦。

在传统DAF和/或DBF部分中的电极必须被提供以一个高动态电压，以形成实现了期望的像散透镜作用的四极透镜。同样，带有DAF和/或DBF的一个电子枪很复杂，这是因为它具有大量的聚焦元件。这使得构造这样的枪很复杂，从而也就昂贵。

此外，由于提供所述像散透镜作用的部件与所述主透镜部件之间的距离，所述电子束在所述显示屏上的斑点大小比较大。

发明内容

本发明的一个目标就是要提供具有一个减小的斑点大小的电子枪。

本发明的另一个目标就是要提供一个更不复杂的电子枪，它能够保持所述电子束聚焦在一个平的或者非平显示屏的大部分区域。

这些目标已经通过根据本发明的一个电子枪得到实现，提供了一种同轴类型的电子枪，包括：多个阴极，其被用来发射电子，所述阴极在一个第一方向被并列，以及一个主透镜部分，其包括至少两个电极，从而一个缝隙被提供在相邻的电极之间，电极朝向缝隙的一端包括一个电极边缘，其特征在于，所述电极中至少一个包括被安排在所述电极内的一个片状元件，所述元件被提供有一个公共的孔以通过来自每个阴极的电子，所述孔在一个第二方向上的尺寸比所述边缘在所述第二方向上的截面直径小，所述第二方向与所述第一方向和所述电子枪的中轴都垂直。。

电子在所述电子枪内运行的方向基本平行于所述枪的中轴。所述第一方向(下面也将被称为水平方向或x方向)以及所述中轴定义了所谓的“同轴平面(in-line plane)”，这是所述电子束在本质上被安排于其中的平面。所述第二方向与该同轴平面垂直。

所述电极的边缘可以是与现有技术电极上的边缘相类似的类型，其具有的边缘弯曲，从而所述外表面被弯曲围绕所述边，以形成所述边缘。所述电极边缘在一个方向上的截面直径应被理解为在所述方向上所述电极边缘互相相对的部分之间的距离。

被提供了孔以通过来自所有阴极的电子的所述片状元件将在下文中被称为“场切割器”。依靠所述场切割器，一个像散透镜作用可以被提供在所述主透镜部分自身之中。

在一个传统的电子枪中，所述主透镜在所述第一方向上的强度由所述主透镜部分的电极中所谓的基片的位置所决定。在本申请中，一个基片应被理解成在所述主透镜部分的一个电极中的一个片状元件，所述片状元件对每个所述电子束都提供了一个独立的束通过孔。所述基片也将被称为“第二类型的片状元件”，而所述场切割器也将被称为“第一类型的片状元件”。

通过将所述基片更深的放置入所述电极，也就是提高所述基片到所述缝隙的距离，那么所述主透镜在所述水平方向的强度就一般被降低。然而，与此同时，将所述基片更深的放置入所述电极允许了所述缝隙中的电场进一步穿入所述电极。这提高了所述主透镜在竖直(y-)方向的强度，所述竖直方向垂直于所述水平方向和所述电子枪的中轴。

从而，在所述水平方向上所述主透镜强度的降低带来了在所述竖直方向上所述主透镜强度的提高。至今还不能彼此独立的选择在水平方向和竖直方向上所述主透镜的强度。

根据本发明的场切割器限制了所述缝隙中电场穿入所述主透镜部分电极。所述电场仅仅穿入到所述场切割器的位置，然后被后者有效的“截止”。这就具有一个效果，也就是在所述竖直方向上的所述主透镜强度现在是由所述电极内的场切割器的位置来决定的。所述场切割器本身对水平方向上的所述主透镜强度基本没有影响。然而，由于所述场切割器的应用，在所述基片位置的电场强度减小了，从而在水平方向上的所述主透镜强度也有效的更小了。

在所述主透镜部分的多个电极的至少一个中使用一个场切割器，这在主透镜设计上给出了一个额外的自由度，这是由于它可以彼此独立的对水平和竖直方向上的主透镜强度作优化，从而就引入了一个期望的像散透镜作用。通过适当选择所述场切割器在所述电极中的位置，以及所述基片的位置(更确切的，是所述场切割器与所述基片之间的距离)，所述水平方向和竖直方向上的主透镜强度都可以被设定成一个期望的值。这允许在所述主透镜部件自身中产生静态的像散。

优选的，沿着所述中轴，从所述缝隙到所述场切割器的孔的距离小于在所述第二方向上的孔的尺寸。从而，所述场切割器就离所述缝隙相对较近，在这种情况下，在竖直方向上就获得一个较高的透镜强度，从而就产生了相对高的像散量。优选的，具有所述场切割器的所述电极不包括一个传统的基片。这就允许获得一个甚至更高的像散量。

一般的，一个主透镜包括具有强度S⁺的一个正透镜部分，它一般位于被提供一个较低电压的一个电极的附近，以及具有强度S-的一个负透镜部分，它一般位于被提供一个较高电压的一个电极附近。从而，总强度S＝S⁺+S^-。

从而，通过提供具有一个场切割器的高电压电极，我们能够实现正的像散，以及通过提供具有一个场切割器的较低电压电极，我们能够实现负的像散。现在，所述像散透镜作用被提供于所述主透镜部件自身之中，从而所述电子束的斑点大小就可以尽可能的小。

此外，使用所述场切割器允许在所述主透镜部分中提供一个动态正像散透镜作用。在此情况下，一个较弱的DAF和/或DBF部分可以被应用在所述电子枪中，也就是需要较低动态电压的一个DAF和/或DBF部分。这对用于具有大偏转角的阴极射线管的电子枪是特别有利的，其中，在一个传统的电子枪中，所述DAF和/或DBF部分所需的动态电压会相对较大。

然而，更有利的和优选的，本发明可以被用来将基本所有需要的动态正像散透镜作用提供于所述主透镜部分中，从而允许在没有任何DAF和/或DBF的情况下构建所述电子枪。这就给出了一个大幅简化的电子枪，从而也就带来了在制造成本上相对较大的降低。

为了在所述电子枪的主透镜部分中实现正动态像散，所述主透镜必须在y方向表现出比x方向更高的相对强度变化：

$\frac{\mathrm{\Δ}{S}_y}{S_y}>>\frac{\mathrm{\Δ}{S}_x}{S_x}---\left(1\right)$

如果所述主透镜在所述x方向的总强度(S_x)大于所述主透镜在所述y方向的总强度(S_y)，那么所述条件就容易被满足：

S_x＞＞S_y                 (2)

在用于一个CRT的电子枪中，所述更高的电压通常是一个固定的阳极电压。当所述较低电压是一个动态电压时，这就有所述主透镜变弱的效果，这是由于所述正透镜部分的强度比所述负透镜部分的强度更强的受到改变电势的影响。这一发现允许了另一条件导出：

$S_y^{-}>>S_x^{-}---\left(3\right)$

根据本发明，条件(2)和(3)能够容易被满足。

为了达到此目标，优选的，所述主透镜部分包括两个电极，其在操作中定义了一个双电势主透镜，其中所述较低电压电极被提供以一个传统的基片，而所述主透镜部分的所述较高电压电极被提供以一个场切割器。

更优选的，所述较高电压电极不被提供以一个基片。

在这样的一个电子枪中，所述负透镜部分在所述y方向相对较强，而所述负透镜部分在所述x方向可以被忽略。对于总主透镜强度，在所述y方向上，所述负和正透镜部分互相抵消，从而在所述y方向的总透镜作用就相对小。同时，在所述x方向上的所述主透镜强度本质上是由相对强的正透镜部分决定的。

如果所述较低电压是一个动态电压，那么所述主透镜部分现在具有一个动态正像散透镜作用。所述主透镜部分或全部接管了一个DAF和/或DBF部分的透镜作用。从而，所述电子枪允许一个电子束能够被特别好的聚焦到所述显示屏上，同时在所述电子枪中使用更少量的元件。即使不采用一个DAF或DBF部分，带有这样一个主透镜部分的电子枪也可以具有一个大的动态像散。

更优选的，所述主透镜部分是所述DCFL类型的，并且包括三个电极，也就是接收一个较低电压的一个电极，接收一个中间电压的一个中间电极，以及接收一个较高电压的一个电极。所述后一个电极通常被称为阳极，以及所述较高电压是阳极电压。所述中间电压一般是通过阻性分压器(降压电阻)从所述阳极电压获得的。提供给所述聚焦电极的所述较低电压最好是一个动态电压。

在此情况下，接收一个较低电压的所述(聚焦)电极被提供以一个场切割器，所述中间电极被提供以一个传统基片，以及所述阳极被提供一个场切割器。优选的，接收所述较低电压的所述电极以及阳极不包括一个传统的基片。

这样的一个DCFL透镜满足条件(2)和(3)。该透镜类型所具有的优点在于，有至少三个电极的主透镜部分所组成的这样一个DCFL透镜实现了比两电极主透镜部分形成的一个主透镜大得多的正动态像散量。所述动态像散例如以因子4被提高。

上文所述的优选实施例具有一个附加的有利特性。所述优选实施例主透镜部分的水平方向放大因子(被记为M_x)与现有技术设计相比更低。

我们假设所述主透镜在所述水平方向上的电子光学厚度被减小，这是由于在配有一个场切割器的电极中，水平方向上的透镜作用可以忽略。例如，在所述DCFL透镜优选实施例中，在所述水平方向上的主透镜作用基本是仅仅由所述中间电极中的所述基片来实现的，而在一个现有技术DCFL透镜中，所述主透镜作用被分在三个电极上。所述主透镜在水平方向上减小的电子光学厚度带来了一个更小的水平放大因子M_x。

例如，在一个DCFL透镜中的水平放大因子被减小5％，同时物距(阴极与主透镜之间的距离)被减小7毫米。这样，所述优选实施例就允许构建带有一个更小水平放大的一个更短的电子枪，这产生了所述显示屏上所述电子束更小的斑点尺寸。

在根据本发明的一个电子枪中，所述主透镜部分中的电场在所述基片和所述电极末端之间是非对称的。这可能对不位于所述透镜中心但更靠近所述边缘的电子束产生透镜畸变，也就是在所述同轴平面中的外侧电子束。从而，靠近所述电极边缘的这些束在通过所述主透镜部分时经历一个不同的透镜作用，我们称此效果为三个束的透镜之间的“失对准(mis-alignment)”。

根据本发明的一个优选实施例，所述基片被提供以一个桶形的孔。

在本申请中，一个桶形的孔应被理解成一个基本没有直边，而有弯曲边的孔。特别的，平行于所述同轴平面的孔边缘相对于所述同轴平面向外弯曲。所述桶形孔允许对所述不同电子束的透镜的失对准进行纠正。

优选的，所述场切割器中孔的水平范围至少是所述水平方向上相对边缘部分之间距离(也就是截面直径)的75％。

优选的，所述场切割器中孔的竖直范围至少是所述竖直方向上相对边缘部分之间距离(也就是截面直径)的25％。

不言自明，本发明的不同方面可以被合并在同一实施例中。

在下文中，本发明不同的实施例将通过参考附图来说明。在对优选实施例的描述中，相似的特征用相同的附图标记来表示。

附图说明

图1表示了根据现有技术的一个简单电子枪。

图2a表示了根据现有技术的一个电子枪。

图2b表示了根据本发明的一个电子枪。

图3a-c表示了根据现有技术带有三个电极的一个主透镜。

图4表示了根据本发明的一个主透镜部分的一个实施例。

图5表示了一个现有技术CRT。

图6a-b表示了根据本发明在一个电子枪中一个主透镜部分的另一实施例。

图7表示了根据本发明一个优选实施例在一个电子枪中的一个场切割器。

具体实施方式

根据现有技术的一个简单电子枪被示于图1。所述电子枪的主要部分为：三极1(也就是一个阴极2和两个电极G1、G2)，前置聚焦透镜3(也就是G2和一个第三电极G3之间的场)，以及主透镜部分4(也就是所述第三电极G3与一个第四电极G4之间的场)。更复杂的枪包括一个动态像散和聚焦(DAF)部分，以及一个动态束形成(DBF)区域。对于下文的讨论，注意以下内容是重要的：

如图1所示的一个简单电子枪具有一个固定的焦距，这意味着所述电子束将只被很好的聚焦到距离所述主透镜部分4一个特定距离的位置。对于在一个CRT中的被偏转电子束，这意味着所述束被聚焦到一个球形表面。当所述屏幕到所述主透镜部分4的距离随着所述屏幕上的位置而变化时，所述电子束将不会在每个屏幕位置都对准焦点。DAF和DBF部分对此作出纠正，这是通过在所述枪中提供动态透镜来根据所述屏幕位置调整所述焦距。实现这一点是通过对所述DAF和DBF部分中至少一个电极施加一个动态控制电压Vdyn，也就是随着电子束要被偏转到的屏幕位置而改变的一个电压。这样的一个DAF-DBF枪被示于图2a。

在所述三极中，本质上有三个电压水平，G1的电压Vg1，G2的电压Vg2，以及所述阴极2的电压Vcathode。

通过控制所述阴极电势(Vcathode)，所述阴极和电极G1之间的场就被控制。所述平整电极2发射电子，以及，通过将G1置于一个比阴极2更低的电势，所述电子就被防止落在G1上。所述电子所穿过的G1电极中的孔限制了所述Vg2电压在空间范围和强度上的影响。G2处的一个高的正电势加速了所述电子。

在大多数电子枪中，Vg2和Vg1通常被固定为大约Vg2＝700V到1100V，且Vg1＝0V。Vcathode被改变来调制所述束流；在更高的阴极电压下，更少的电子会被G2拉入所述束中，而在更低的阴极电压下，更多的电子将被拉入所述束中。通常，Vcathode在0V和200V之间变化。

在图2a中表示了一个根据现有技术的电子枪100。所述电子枪具有三个阴极，其对应了使用所述电子枪的屏幕上所显示的三种颜色。所述电子枪具有到施加了电压Vg1和Vg2的三极电极G1和G2的接点。所述电子枪100具有由两个电极3’组成的一个主透镜部分。这些电极将在图2c中得到更详细的表示。一个DAF透镜4’和一个DBF透镜5’被安排在所述阴极2和所述主透镜部分4之间。存在大量的电压接点DBFa、DBFb、DAFa、DAFb、MLa和MLb，接触电压Vfoc、Vdyn和Va被施加于其上。在所述图中，Vfoc代表一个静态聚焦电压，而Vdyn代表一个动态控制电压。

如果采用本发明的所述主透镜部分中具有大动态像散这一目标，那么如上所解释的，作为DAF-DBF枪的特性的可变焦距就可以用图2b所示的一个枪的机械简单结构来实现，它与图1的不同在于所述静态聚焦电压Vfoc现在被一个动态控制电压Vdyn所代替。从图2a和2b明显看出，图2b中所示的实施例具有更少的部件，从而制造它就更不复杂并且更不昂贵。图2b中所示的电子枪6具有一个主透镜部分8。图2b中还示出了所述阴极的接点。

根据现有技术的一个主透镜部分被示于图3。所述主透镜部分包括一个聚焦电极20、一个中间电极21和一个阳极电极22。一个基片23被安排在每个所述电极中。所述片定义了三个被所述电子穿过的孔。所述聚焦电极、所述中间电极和所述阳极电极被分别耦合到电压V_dyn、Vi和Va。

在图4中，根据本发明一个实施例的一个主透镜部分被表示。所述主透镜部分包括一个第一电极10、一个第二电极11和一个第三电极12。所述第一电极具有一个第一护套13，一个场切割器14也就是第一类型的一个片被集成于其中，以及一个第一基片15也就是第二类型的一个片附着于所述第一护套，所述基片具有对应来自所述阴极的三个电子束的三个孔。位于所述同轴平面内的所述三个束被示于图5。

所述第二电极11具有附着于一个第二护套的一个类似的第二基片16。所述第三电极12具有一个第三护套17和一个类似的第三基片18，其附着于所述护套，以及一个集成于所述护套中的一个第二场切割器。

在第一方向上的所述电极边缘的相对部分之间的距离被表示为d₁，这是在所述第一方向上的截面直径。第二方向是与所述同轴平面垂直的方向。在第二方向上所述电极边缘的相对部分之间的距离被表示为d₂，这是在第二方向上的截面直径。

优选的，在所述第一方向上，所述孔在所述场切割器中的延伸至少是在该方向上d₁的75％。明显的，所述孔不能超出电极自身。优选的，所述场切割器在第二方向的延伸为d₂的25％与100％之间，并且更希望在d₂的40％与60％之间。所述场切割器，也就是第一类型的片，在斑点大小方面(显示屏上的分辨率)提高了所述电子枪的性能。

图5示意性的示出了根据本发明一个实施例的一个阴极射线管(CRT)。所述CRT包括一个电子枪30，以及偏转装置33和34，它们可以是电磁铁。所述偏转装置通常被集成在一个单元中。

所述CRT还包括位于一个发光屏幕36前面的一个荫罩35。所有这些部分都被包含在一个真空管37中。对应了所述屏幕上三种颜色的三个电子束被用点线31、32、38来表示。所述屏幕上的斑点大小依赖于在所述屏幕上的位置。在所述屏幕中间比在所述屏幕的边缘更容易提供一个小的斑点。所以，主要的目标就是将所述屏幕边缘的斑点大小最小化。

在操作中，电子通过所述三极中的电极及其上电压的帮助，从所述电极被发射出来。然后，所述电子被加速，并被所述聚焦系统聚焦成一个被聚焦的电子束。然后，所述被聚焦的电子束被所述偏转装置偏转。最后，所述电子被所述荫罩在空间上滤波，从而，它们在经过滤波之后击中所述发光屏幕。

本发明的一个可替换实施例被示于图6。图6所示的主透镜部分40只具有两个电极，也就是具有一个第一类型片42的所述聚焦电极41，以及一个阳极电极43，其具有只定义了一个孔的一个第二类型片44。一个动态控制电压V_dyn，以及一个阳极电压V_a被分别安排来施加到所述聚焦电极和所述阳极电极。根据显示器(例如电视机或电脑监视器)的类型，所述阳极电压一般为25kV到35kV。在如图6a所示电极43的电极中，其中没有基片存在，所述场切割器的特征在于它具有如上所述尺寸的一个单个孔，以及在于，所述深度d₃，也就是从第二类型的片到所述电极之间缝隙的距离，不大于所述电极边缘的截面直径d₂。

图7表示了一个场切割器70的一个实施例，其中所述孔是桶状的。通过让所述孔为桶的形状，所述电场中的不对称至少被部分得到补偿。当所述场切割器中所述孔的边偏离直线时，就在所述尺寸最大的位置获得所述孔的大小。

上述的实施例仅仅被描述来让本领域中熟悉技术的人能够实施本发明，并且可以用多种方式来修改而不偏离由所附权利要求书所定义的本发明范围和精神。

综上，所述同轴类型的一个电子枪包括用来发射电子的阴极，所述阴极在一个第一方向被并列。所述电子枪包括一个主透镜部分，以将电子束聚焦到一个显示屏上，所述显示屏最好是一个阴极射线管的显示屏。

传统的，所述主透镜部分的电极包括一个基片，其是具有用于每个所述束的分离孔的一个片状元件。根据本发明，所述主透镜的电极中的至少一个被提供有一个所谓的场切割器，其是一个具有用于所有束的一个公共孔的片状元件。在优选实施例中，所述场切割器允许有一个像散主透镜，它产生了更好的斑点特性和一个减小的水平放大。优选的，所述主透镜具有正的动态像散，从而就不再需要一个分离的DAF部分。

Claims (10)

1.一种同轴类型的电子枪，包括：

多个阴极(2)，其被用来发射电子，所述阴极在一个第一方向被并列，以及

一个主透镜部分(4)，其包括至少两个电极(10、11、12)，从而一个缝隙被提供在相邻的电极之间，电极朝向缝隙的一端包括一个电极边缘，

其特征在于，所述电极(10、11、12)中至少一个包括被安排在所述电极内的一个片状元件(14、19)，所述元件被提供有一个公共的孔以通过来自每个阴极的电子，所述孔在一个第二方向上的尺寸比所述边缘在所述第二方向上的截面直径小，所述第二方向与所述第一方向和所述电子枪的中轴都垂直。

2.根据权利要求1的电子枪，其中，对于所述电极(10、11、12)中至少一个，沿着所述中轴从所述缝隙到所述片状元件(14、19)的距离小于所述孔在所述第二方向上的尺寸。

3.根据权利要求1的电子枪，其中所述主透镜部分的电极各自都包括至少一个被安排在所述电极内的片状元件，所述片状元件是下列之一：

一个第一类型片状元件(14、19)，其被提供有一个公共的孔以通过来自每个阴极的电子，以及

一个第二类型片状元件(15、16、18)，其被提供有多个孔，每个孔对应一个阴极以通过仅仅来自所述阴极的电子，

其中在所述多个电极(20、21、22)至少一个中的所述片状元件是一个第一类型的片状元件。

4.根据权利要求3的电子枪，其中所述主透镜部分包括两个电极(41、43)，其在操作中定义了一个双电势主透镜，

其中接收一个较低电压的一个电极(41)被提供有一个所述第二类型的片状元件(42)，以及接收一个较高电压的一个电极(43)被提供有一个所述第一类型的片状元件。

5.根据权利要求3的电子枪，其中所述主透镜部分包括三个电极(10、11、12)，其在操作中定义了一个动态组成场透镜类型的主透镜，

其中接收一个较低电压的一个电极(10)被提供有一个所述第一类型的片状元件(14)，

接收一个中间电压的一个电极(11)被提供有一个所述第二类型的片状元件(16)，以及

接收一个较高电压的一个电极(12)被提供有一个所述第一类型的片状元件(19)。

6.根据权利要求4或5的电子枪，其中被提供有所述第一类型片状元件的电极不包括所述第二类型的片状元件.

7.根据权利要求1的电子枪，其中所述至少一个电极的所述片状元件(70)中的孔是桶状的。

8.根据权利要求3的电子枪，其中所述第一类型的片状元件(70)中的孔是桶状的。

9.根据权利要求1的电子枪，其中所述孔在所述第一方向上的尺寸是所述电极边缘在所述第一方向上的截面直径的至少75％。

10.根据权利要求1的电子枪，其中所述孔在所述第二方向上的尺寸是所述电极边缘在所述第二方向上的一个最大截面直径的至少25％。

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