CH707562A2 - Method for manufacturing e.g. escapement wheels of clock, involves selectively machining portion of metal parts to form escapement wheels and forks with two different levels, and releasing wheels and forks with substrate and photoresist - Google Patents
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Abstract
Description
Domaine de l’inventionField of the invention
[0001] L’invention se rapporte à un procédé de fabrication d’une pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts. The invention relates to a method of manufacturing a piece of micromechanical monoblock comprising at least two distinct levels.
Arrière-plan de l’inventionBackground of the invention
[0002] Il est connu de former des pièces métalliques à plusieurs niveaux distincts à l’aide de procédé du type LIGA successifs, c’est-à-dire à partir de couches empilées comportant un moule structuré en résine et un métal dans les creux du moule déposé par galvanoplastie. It is known to form metal parts at several different levels using successive LIGA type process, that is to say from stacked layers comprising a structured mold resin and a metal in the hollow of the mold deposited by electroplating.
[0003] Toutefois, ces procédés successifs pour former plusieurs niveaux sont difficiles à mettre en œuvre car il est nécessaire de correctement référencer les niveaux entre eux. De plus, il est apparu que cette difficulté engendrait des coûts très supérieurs par rapport à deux dépôts galvaniques à un seul niveau. However, these successive processes to form several levels are difficult to implement because it is necessary to properly reference the levels between them. In addition, it appeared that this difficulty generated much higher costs compared to two galvanic deposits at a single level.
Résumé de l’inventionSummary of the invention
[0004] Le but de la présente invention est de pallier tout ou partie les inconvénients cités précédemment en proposant un procédé alternatif de fabrication d’une pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts, moins cher à mettre en œuvre. The object of the present invention is to overcome all or part of the disadvantages mentioned above by proposing an alternative method of manufacturing a piece of micromechanical monoblock comprising at least two distinct levels, less expensive to implement.
[0005] A cet effet, l’invention se rapporte à un procédé de fabrication d’une pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts caractérisé en ce qu’il comporte les étapes suivantes: a) former un substrat en silicium dont la surface supérieure est électriquement conductrice; b) structurer un moule à partir d’une résine photosensible afin de fabriquer des cavités dont le fond est formé par ladite face supérieure électriquement conductrice; c) remplir les cavités du moule par galvanoplastie pour former une pièce métallique; d) usiner sélectivement une partie de la pièce métallique afin de former une pièce de micromécanique monobloc à au moins deux niveaux distincts; e) libérer la pièce de micromécanique du substrat et de la résine photosensible. For this purpose, the invention relates to a method for manufacturing a monobloc micromechanical component comprising at least two distinct levels, characterized in that it comprises the following steps: a) forming a silicon substrate whose upper surface is electrically conductive; b) structuring a mold from a photosensitive resin to make cavities whose bottom is formed by said electrically conductive upper face; c) filling the cavities of the mold by electroplating to form a metal part; d) selectively machining a portion of the metal part to form a one-piece micromechanical part at at least two distinct levels; e) releasing the micromechanical part of the substrate and the photoresist.
[0006] On comprend avantageusement selon l’invention que chaque pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts est formée à partir d’une pièce métallique selon un motif unique formé par un procédé LIGA qui est ensuite usinée directement sur le substrat afin de bénéficier du positionnement précis de chaque pièce métallique sur le substrat. [0006] It is advantageously understood according to the invention that each one-piece micromechanical part comprising at least two distinct levels is formed from a metal part in a single pattern formed by a LIGA process which is then machined directly on the substrate in order to benefit from the precise positioning of each metal part on the substrate.
[0007] Par conséquent, les cotes externes et, éventuellement, internes restent à la grande précision induit par le procédé LIGA et le reste de la pièce de micromécanique monobloc bénéficie de la précision de l’usinage, moins avantageuse par rapport au procédé LIGA, afin de préserver les coûts de fabrication. On obtient donc une pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts qui est beaucoup moins difficile à fabriquer en gardant les parties externes et, éventuellement, internes d’une très grande précision. Therefore, the external and possibly internal dimensions remain at the high precision induced by the LIGA process and the rest of the monobloc micromechanical part benefits from the precision of machining, less advantageous compared to the LIGA process, to preserve the manufacturing costs. A piece of micromechanical monobloc having at least two distinct levels is thus obtained which is much less difficult to manufacture by keeping the external and, possibly, internal parts of a very high precision.
[0008] Conformément à d’autres caractéristiques avantageuses de l’invention: – la surface supérieure est rendue électriquement conductrice par le dopage du substrat en silicium et/ou par le dépôt d’une couche électriquement conductrice sur le substrat en silicium; – le substrat en silicium comporte une épaisseur comprise entre 0,3 et 1 mm; – l’étape b) comporte les phases f): déposer une couche de résine photosensible sur la surface supérieure électriquement conductrice du substrat, g): illuminer sélectivement une partie de la résine photosensible et h): développer la résine photosensible afin de structurer le moule; – la pièce métallique est formée à base de nickel-phosphore comme du NiP ou du NiP12; – le procédé comporte en outre entre l’étape c) et l’étape d), l’étape i): mettre à niveau, par rodage, le moule et la pièce métallique; – lors de l’étape e), le procédé comporte les phases j): retirer la résine photosensible et k): retirer le substrat; – entre la phase j) et la phase k), le procédé comporte en outre la phase I): déposer un revêtement sur l’ensemble pièce de micromécanique – substrat; – la phase I) est réalisée par dépôt physique ou chimique en phase vapeur ou par galvanoplastie; – plusieurs pièces de micromécanique sont formées sur le même substrat. According to other advantageous features of the invention: The upper surface is made electrically conductive by doping the silicon substrate and / or by depositing an electrically conductive layer on the silicon substrate; The silicon substrate has a thickness of between 0.3 and 1 mm; Step b) comprises the phases f): depositing a layer of photosensitive resin on the electrically conductive top surface of the substrate, g): selectively illuminating a portion of the photosensitive resin and h): developing the photosensitive resin in order to structure the photosensitive resin; mold; The metal part is formed based on nickel-phosphorus such as NiP or NiP12; - The method further comprises between step c) and step d), step i): leveling, by running in, the mold and the metal part; In step e), the process comprises phases j): removing the photoresist and k): removing the substrate; - between phase j) and phase k), the method further comprises phase I): depositing a coating on the micromechanical part-substrate assembly; Phase I) is carried out by physical or chemical vapor deposition or by electroplating; Several micromechanical parts are formed on the same substrate.
[0009] De plus, l’invention se rapporte à une pièce d’horlogerie caractérisée en ce qu’elle comporte une pièce de micromécanique monobloc à au moins deux niveaux distincts obtenue selon l’une des variantes précédentes. In addition, the invention relates to a timepiece characterized in that it comprises a piece of micromechanical monobloc at least two distinct levels obtained according to one of the previous variants.
Description sommaire des dessinsBrief description of the drawings
[0010] D’autres particularités et avantages ressortiront clairement de la description qui en est faite ci-après, à titre indicatif et nullement limitatif, en référence aux dessins annexés, dans lesquels: <tb>les fig. 1 à 5<SEP>sont des représentations d’étapes successives d’un procédé selon un premier mode de réalisation de l’invention; <tb>les fig. 6 et 7<SEP>sont des représentations d’étapes finales d’un procédé selon un deuxième mode de réalisation de l’invention; <tb>les fig. 8 à 10<SEP>sont des représentations d’une pièce métallique électroformée puis usinée à l’aide d’un procédé selon une première variante de l’invention; <tb>les fig. 11 à 13<SEP>sont des représentations d’une pièce métallique électroformée puis usinée à l’aide d’un procédé selon une deuxième variante de l’invention puis assemblée; <tb>les fig. 14 à 16<SEP>sont des représentations de pièce métallique électroformée puis usinée à l’aide d’un procédé selon une troisième variante de l’invention puis assemblée; <tb>la fig. 17<SEP>est un schéma fonctionnel d’un procédé selon l’invention.Other features and advantages will become apparent from the description which is given below, for information only and not limiting, with reference to the accompanying drawings, in which: <tb> figs. 1 to 5 <SEP> are representations of successive steps of a method according to a first embodiment of the invention; <tb> figs. 6 and 7 <SEP> are representations of final steps of a method according to a second embodiment of the invention; <tb> figs. 8 to 10 <SEP> are representations of an electroformed metal part and then machined using a method according to a first variant of the invention; <tb> figs. 11 to 13 <SEP> are representations of an electroformed metal part and then machined using a method according to a second variant of the invention and then assembled; <tb> figs. 14 to 16 <SEP> are representations of electroformed metal part then machined using a method according to a third variant of the invention and then assembled; <tb> fig. <SEP> is a block diagram of a method according to the invention.
Description détaillée des modes de réalisation préférésDetailed Description of the Preferred Embodiments
[0011] Le but de la présente invention est de proposer un procédé de fabrication d’une pièce de micromécanique monobloc comportant au moins deux niveaux distincts qui soit moins cher à mettre en œuvre. La présente invention a également pour but de fabriquer tout ou partie d’une pièce de micromécanique à partir de ce procédé. La pièce de micromécanique est destinée à être montée préférentiellement dans une pièce d’horlogerie. Bien entendu, il est également envisageable d’appliquer la présente invention dans d’autres domaines comme, notamment, l’aéronautique ou l’automobile. The object of the present invention is to provide a method of manufacturing a piece of micromechanical monoblock comprising at least two different levels that is cheaper to implement. The present invention also aims to manufacture all or part of a micromechanical part from this process. The micromechanical part is intended to be mounted preferentially in a timepiece. Of course, it is also conceivable to apply the present invention in other fields such as, in particular, aeronautics or automobiles.
[0012] Comme illustré à la fig. 17 , l’invention se rapporte à un procédé 1 de fabrication d’une pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 monobloc comportant au moins deux niveaux distincts. As illustrated in FIG. 17, the invention relates to a method 1 for manufacturing a one-piece micromechanical part 31, 41, 61, 91 comprising at least two distinct levels.
[0013] Selon le procédé 1, une première étape 3, comme illustrée à la fig. 1 , est destinée à former un substrat 2 en silicium dont la surface supérieure 4 est électriquement conductrice. Préférentiellement, la surface supérieure 4 est électriquement conductrice par le dopage du substrat 2 en silicium et/ou par le dépôt d’une couche électriquement conductrice sur le substrat 2 en silicium. According to the method 1, a first step 3, as illustrated in FIG. 1, is intended to form a silicon substrate 2 whose upper surface 4 is electrically conductive. Preferably, the upper surface 4 is electrically conductive by doping the silicon substrate 2 and / or by depositing an electrically conductive layer on the silicon substrate 2.
[0014] Dans tous les cas, il est très important que l’adhérence du futur dépôt galvanique contre le substrat 2 soit la plus forte possible. En effet, il est primordial pour l’étape 9 que la pièce métallique 21, 51, 81 soit très fortement fixée contre la surface supérieure 4 et, incidemment, contre le substrat 2. In all cases, it is very important that the adhesion of the future galvanic deposit against the substrate 2 is as strong as possible. Indeed, it is essential for step 9 that the metal part 21, 51, 81 is very strongly fixed against the upper surface 4 and, incidentally, against the substrate 2.
[0015] Préférentiellement selon l’invention, le substrat 2 en silicium comporte une épaisseur comprise entre 0,3 et 1 mm. De plus, dans le cas où une couche électriquement conductrice serait utilisée, cette dernière serait de manière préférée à base d’or, c’est-à-dire en or pur ou un de ses alliages. Enfin, elle pourrait être, par exemple, déposée par dépôt physique ou chimique en phase vapeur ou tout autre méthode de dépôt. Preferably according to the invention, the silicon substrate 2 has a thickness of between 0.3 and 1 mm. In addition, in the case where an electrically conductive layer would be used, the latter would preferably be based on gold, that is to say in pure gold or one of its alloys. Finally, it could be, for example, deposited by physical or chemical vapor deposition or any other method of deposition.
[0016] Le procédé 1 se poursuit, comme illustré à la fig. 2 , avec une deuxième étape 5 destinée à structurer un moule à partir d’une résine photosensible 6 afin de fabriquer des cavités 8 dont le fond est formé par la face supérieure 4 électriquement conductrice du substrat 2. The process 1 continues, as illustrated in FIG. 2, with a second step 5 for structuring a mold from a photosensitive resin 6 to produce cavities 8 whose bottom is formed by the electrically conductive upper face 4 of the substrate 2.
[0017] Bien évidemment, la fig. 2 n’est qu’une représentation simplifiée et des formes très complexes peuvent être structurées. Ainsi, plusieurs cavités 8, n’étant pas nécessairement de formes identiques, peuvent être structurées dans la résine 6 lors de l’étape 5 afin que plusieurs pièces de micromécanique 31, 41, 61, 91 puissent être formées sur le même substrat 2. Of course, FIG. 2 is only a simplified representation and very complex shapes can be structured. Thus, several cavities 8, not necessarily of identical shapes, can be structured in the resin 6 during step 5 so that several micromechanical parts 31, 41, 61, 91 can be formed on the same substrate 2.
[0018] L’étape 5 comporte préférentiellement les trois phases. L’étape 5 comporte une première phase destinée à déposer une couche de résine 6 photosensible sur la surface supérieure 4 électriquement conductrice du substrat 2. Une telle phase peut être obtenue par enduction centrifuge ou par pulvérisation à ultrasons. La deuxième phase est destinée à illuminer sélectivement une partie de la résine photosensible. On comprend donc que suivant la nature de la résine photosensible, c’est-à-dire si la résine est du type positive ou négative, l’illumination sera focalisée sur les futures cavités 8 souhaitées ou sur les parties autres que les futures cavités 8 souhaitées. Step 5 preferably comprises the three phases. Step 5 comprises a first phase intended to deposit a photoresist layer 6 on the electrically conductive upper surface 4 of the substrate 2. Such a phase can be obtained by centrifugal coating or by ultrasonic spraying. The second phase is intended to selectively illuminate a portion of the photosensitive resin. It is therefore understood that depending on the nature of the photosensitive resin, that is to say if the resin is of the positive or negative type, the illumination will be focused on the desired future cavities 8 or on the parts other than the future cavities 8 desired.
[0019] Enfin, l’étape 5 se termine avec une troisième phase destinée à développer la résine photosensible 6 sélectivement illuminée afin de structurer le moule, c’est-à-dire durcir la résine photosensible 6 restant entre les cavités 8. Cette troisième phase est généralement obtenue par une attaque chimique destinée à former les cavités 8 suivie d’un traitement thermique destinée à durcir la résine encore présente. Finally, the step 5 ends with a third phase for developing the selectively illuminated photosensitive resin 6 in order to structure the mold, that is to say harden the photosensitive resin 6 remaining between the cavities 8. This third phase is generally obtained by etching to form the cavities 8 followed by a heat treatment to harden the resin still present.
[0020] Le procédé 1 se poursuit, comme illustré à la fig. 3 , avec une troisième étape 7 destinée à remplir les cavités 8 du moule par galvanoplastie pour former une pièce métallique 21, 51, 81. Comme expliqué ci-dessus, la pièce métallique 21, 51, 81 possède un même motif en projection. On comprend donc que le procédé LIGA ne comporte pas de difficultés additionnelles pour sa mise mettre en œuvre comme, par exemple, d’autres motifs sur des niveaux supérieurs. The process 1 continues, as illustrated in FIG. 3, with a third step 7 for filling the cavities 8 of the mold by electroplating to form a metal part 21, 51, 81. As explained above, the metal part 21, 51, 81 has the same pattern in projection. It is therefore understandable that the LIGA process does not involve additional difficulties in implementing it, such as, for example, other patterns on higher levels.
[0021] Avantageusement selon l’invention, le procédé 1 permet, grâce à l’étape 5 très précise de photolithographie, d’obtenir une pièce métallique 21, 51, 81 avec des cotes externes et, éventuellement, internes d’une grande précision propre à respecter les tolérances très élevées d’une pièce de micromécanique dans le domaine de l’horlogerie. Par cotes internes, il faut comprendre, qu’à partir d’éventuelles parties de résine 6 structurée qui sont enclavée dans des cavités 8, des ajourages et/ou des trous dans la pièce métallique 21, 51, 81 peuvent être directement formés lors de l’étape 7. Advantageously according to the invention, the method 1 allows, thanks to the very precise photolithography step 5, to obtain a metal part 21, 51, 81 with external and possibly internal dimensions of high accuracy. to meet the very high tolerances of a micromechanical component in the field of watchmaking. By internal dimensions, it should be understood that from any part of structured resin 6 which is enclosed in cavities 8, perforations and / or holes in the metal part 21, 51, 81 can be directly formed during Step 7.
[0022] Dans le but de mettre en œuvre le procédé pour fabriquer des pièces de micromécanique 31, 41, 61, 91 pour l’horlogerie, il est préféré d’utiliser un matériau qui est tribologiquement avantageux pour des contacts avec des pièces en rubis, en acier ou en laiton. De plus, une faible sensibilité aux champs magnétiques est recherchée. Enfin, en vue de faciliter l’étape 9, il est également préférable que le matériau ne soit pas trop dur. Ainsi, au vu des contraintes ci-dessus, il est apparu particulièrement adapté de remplir les cavités 8 lors de l’étape 7 avec un alliage formé de nickel et de phosphore (NiP) et notamment un tel alliage dont la proportion de phosphore est sensiblement égale à 12% (NiP12). In order to implement the method for manufacturing micromechanical parts 31, 41, 61, 91 for the watch industry, it is preferred to use a material which is tribologically advantageous for contacts with ruby pieces , steel or brass. In addition, a low sensitivity to magnetic fields is sought. Finally, in order to facilitate step 9, it is also preferable that the material is not too hard. Thus, in view of the above constraints, it appeared particularly suitable to fill the cavities 8 during step 7 with an alloy formed of nickel and phosphorus (NiP) and in particular such an alloy whose proportion of phosphorus is substantially equal to 12% (NiP12).
[0023] Le procédé 1 se poursuit, comme illustré à la fig. 4 , avec une étape 9 destinée à usiner sélectivement une partie de la pièce métallique 21, 51, 81 afin de former une pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 à au moins deux niveaux distincts. Comme expliqué ci-dessus, la pièce métallique 21, 51, 81 possédant un même motif en projection est alors modifiée dans son épaisseur afin de former au moins deux motifs sur plusieurs niveaux. On obtient ainsi la pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 souhaitée sans avoir à former plusieurs niveaux empilés à partir de procédés LIGA successifs. The process 1 continues, as shown in FIG. 4, with a step 9 for selectively machining a portion of the metal part 21, 51, 81 to form a micromechanical part 31, 41, 61, 91 at at least two distinct levels. As explained above, the metal part 21, 51, 81 having the same pattern in projection is then modified in its thickness to form at least two patterns on several levels. The desired micromechanical part 31, 41, 61, 91 is thus obtained without having to form several stacked levels from successive LIGA processes.
[0024] On comprend toute l’importance de la forte adhérence de chaque pièce métallique 21, 51, 81 contre la surface supérieure 4 du substrat 2. En effet, lors de l’usinage de l’étape 9, chaque pièce métallique 21, 51, 81 sera soumise à de fortes contraintes. Dès lors, si l’adhérence n’est pas suffisante, le procédé 1 perd le bénéfice du positionnement précis de chaque pièce métallique 21, 51, 81 sur le substrat 2, voire risque de cisailler les pièces métalliques 21, 51, 81 au point de les désolidariser du substrat 2. It is understood the importance of the strong adhesion of each metal part 21, 51, 81 against the upper surface 4 of the substrate 2. In fact, during the machining of step 9, each metal part 21, 51, 81 will be subject to strong constraints. Therefore, if the adhesion is not sufficient, the method 1 loses the benefit of the precise positioning of each metal part 21, 51, 81 on the substrate 2, or even risk of shearing the metal parts 21, 51, 81 to the point to dissociate them from the substrate 2.
[0025] Au contraire, avec cette forte adhérence, du fait du positionnement précis de chaque pièce métallique 21, 51, 81 sur le substrat 2, il est possible, lors de l’étape 9, d’usiner chaque pièce métallique 21, 51, 81 encore sur le substrat 2 avec un automate programmable selon des cotes précises. On remarque que, même si l’étape 9 est destinée à usiner chaque pièce métallique 21, 51, 81, une partie de la résine 6 structurée peut toutefois également être usinée par les contraintes induites par les outils utilisés ou les volumes à enlever comme illustré par les dégagements visibles à la fig. 4 . On the contrary, with this strong adhesion, because of the precise positioning of each metal part 21, 51, 81 on the substrate 2, it is possible, during step 9, to machine each metal part 21, 51 , 81 still on the substrate 2 with a programmable automaton according to precise dimensions. Note that, even if step 9 is intended to machine each metal part 21, 51, 81, part of the structured resin 6 can however also be machined by the stresses induced by the tools used or the volumes to be removed as illustrated. by the clearances visible in fig. 4.
[0026] Enfin, Le procédé 1 se termine, comme illustré à la fig. 5 , avec l’étape 11 destinée à libérer la pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 du substrat 2 et de la résine photosensible 6. Ainsi, selon une première phase 12, l’étape 11 est destinée à retirer la résine photosensible 6 puis dans une deuxième phase 14, destinée à retirer le substrat 2. La phase 12 peut être obtenue, par exemple, par une attaque plasma alors que la phase 14 est, préférentiellement, obtenue par une attaque chimique. De manière préférée, dans le cas où une couche électriquement conductrice serait utilisée pour former la surface supérieure 4 électriquement conductrice, cette dernière serait, également lors de la phase 14, retirée et, éventuellement, récupérée à l’aide d’une attaque chimique sélective. Finally, the method 1 ends, as shown in FIG. 5, with step 11 for releasing the micromechanical part 31, 41, 61, 91 of the substrate 2 and the photosensitive resin 6. Thus, in a first phase 12, the step 11 is intended to remove the photoresist 6 and then in a second phase 14, intended to remove the substrate 2. The phase 12 can be obtained, for example, by a plasma etching while the phase 14 is, preferably, obtained by etching. Preferably, in the case where an electrically conductive layer would be used to form the electrically conductive upper surface 4, the latter would, also during phase 14, be removed and, optionally, recovered using a selective chemical attack. .
[0027] Bien entendu, la présente invention ne se limite pas à l’exemple illustré mais est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l’homme de l’art. En particulier, le procédé 1 peut comporter une étape optionnelle 10, entre l’étape 7 et l’étape 9, destinée à mettre à niveau par rodage le moule formée en résine photosensible 6 et la pièce métallique 21, 51, 81. Cette étape optionnelle peut être souhaitée pour garantir les cotes de la pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91, c’est-à-dire être sûr que le moule est complètement rempli. Of course, the present invention is not limited to the example shown but is susceptible to various variations and modifications that will occur to those skilled in the art. In particular, the method 1 may comprise an optional step 10, between step 7 and step 9, intended to level by grounding the mold formed of photosensitive resin 6 and the metal part 21, 51, 81. This step optional may be desired to ensure the dimensions of the micromechanical part 31, 41, 61, 91, that is to say, be sure that the mold is completely filled.
[0028] Il est également envisageable de profiter de la présence de plusieurs pièces métalliques 21, 51, 81 sur le même substrat 2 pour les revêtir d’une couche prédéterminée. Ainsi, le procédé 1 peut, comme illustré à la fig. 6 , comporter une phase optionnelle 16, entre la phase 12 et la phase 14, destinée à déposer un revêtement 13 sur l’ensemble pièce de micromécanique pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 - substrat 2. Une telle phase 16 peut être obtenue, par exemple, par un dépôt physique ou chimique en phase vapeur, une galvanoplastie ou tout autre type de dépôt. It is also conceivable to take advantage of the presence of several metal parts 21, 51, 81 on the same substrate 2 to coat them with a predetermined layer. Thus, the method 1 can, as illustrated in FIG. 6, comprise an optional phase 16, between the phase 12 and the phase 14, for depositing a coating 13 on the micromechanical part micromechanical part assembly 31, 41, 61, 91 - substrate 2. Such a phase 16 can be obtained, for example, by a physical or chemical vapor deposition, an electroplating or any other type of deposit.
[0029] A l’issue de la phase 14, on obtient alors une pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 partiellement revêtue d’une couche 13. Préférentiellement, la couche 13 est destinée à améliorer la tribologie de la pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 comme, par exemple, formée à partir d’un allotrope du carbone tel que du graphène ou du carbone sous forme diamant. Toutefois, la couche 13 peut également être utilisée pour une autre fonction comme changer la couleur ou la dureté de la pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91. At the end of the phase 14, a micromechanical part 31, 41, 61, 91 partially coated with a layer 13 is obtained. Preferably, the layer 13 is intended to improve the tribology of the micromechanical part. 31, 41, 61, 91 as, for example, formed from an allotrope of carbon such as graphene or carbon in diamond form. However, the layer 13 can also be used for another function such as changing the color or the hardness of the micromechanical part 31, 41, 61, 91.
[0030] Des exemples d’applications horlogères sont présentés à l’aide de trois variantes illustrées aux fig. 8 à 16 . Dans une première variante illustrée aux fig. 8 à 10 , est présentée une pièce métallique 21 obtenue lors de l’étape 7 du procédé 1. Elle se présente généralement sous la forme d’une étoile à double dentures 22, 24 comportant un trou central 26. A l’issue de l’étape 11 du procédé 1, on peut ainsi obtenir une pièce de micromécanique prenant la forme d’une roue d’échappement 31 illustrée à la fig. 9 ou d’une roue d’échappement 41 illustrée à la fig. 10 , l’un et l’autre étant monobloc et comportant au moins deux niveaux distincts revêtues ou non d’une couche 13. Examples of horological applications are presented using three variants illustrated in FIGS. 8 to 16. In a first variant illustrated in FIGS. 8 to 10, there is shown a metal part 21 obtained during step 7 of method 1. It is generally in the form of a double-toothed star 22, 24 having a central hole 26. At the end of Step 11 of method 1, it is thus possible to obtain a micromechanical part in the form of an escape wheel 31 illustrated in FIG. 9 or an escape wheel 41 illustrated in FIG. 10, one and the other being monobloc and having at least two distinct levels coated or not with a layer 13.
[0031] Ainsi, dans le cas de la fig. 9 , la pièce métallique 21 a été usinée au niveau des huit bras 33 dont chaque extrémité forme la denture 22 dans un niveau inférieur. Le reste de la pièce métallique 21 est restée inchangée notamment au niveau du trou 26 et des huit bras 35 dont chaque extrémité forme la deuxième denture 22 dans le niveau inférieur et dans un niveau supérieur. Thus, in the case of FIG. 9, the metal part 21 has been machined at the eight arms 33, each end of which forms the toothing 22 in a lower level. The remainder of the metal part 21 remained unchanged, in particular at the hole 26 and the eight arms 35, each end of which forms the second toothing 22 in the lower level and in a higher level.
[0032] De manière alternative, dans le cas de la fig. 10 , la pièce métallique 21 a été usinée au niveau des huit bras 43 dont chaque extrémité forme la denture 22 dans un niveau inférieur. De manière similaire, l’entourage du trou 26 a été usiné afin de laisser présent le trou 26 que dans le niveau inférieur. Enfin, les huit bras 45 et une partie du niveau supérieur ont été usiné afin qu’il ne subsiste que les extrémités des bras 45 en gardant la deuxième denture 22 dans le niveau inférieur et dans le niveau supérieur. [0032] Alternatively, in the case of FIG. 10, the metal part 21 has been machined at the eight arms 43, each end of which forms the toothing 22 in a lower level. Similarly, the surrounding hole 26 has been machined to leave the hole 26 present in the lower level. Finally, the eight arms 45 and part of the upper level have been machined so that only the ends of the arms 45 remain, keeping the second toothing 22 in the lower level and in the upper level.
[0033] Dans une deuxième variante illustrée aux fig. 11 à 13 , est présentée une pièce métallique 51 obtenue lors de l’étape 7 du procédé 1. Elle se présente généralement sous la forme d’une pièce en H comportant deux parties 53, 55 parallèles reliées entre elle par une portion transversale 57. Comme visible à la fig. 11 , la portion transversale 57 comporte une partie centrale 56 dont la section est plus évasée que le reste de la portion. In a second variant illustrated in FIGS. 11 to 13, is presented a metal piece 51 obtained in step 7 of method 1. It is generally in the form of a H-shaped part comprising two parallel portions 53, 55 interconnected by a transverse portion 57. As shown in fig. 11, the transverse portion 57 has a central portion 56 whose section is more flared than the rest of the portion.
[0034] A l’issue de l’étape 11 du procédé 1, on peut ainsi obtenir une pièce de micromécanique prenant la forme d’une fourchette 61 illustrée à la fig. 12 monobloc et comportant au moins deux niveaux distincts revêtue ou non d’une couche 13. Ainsi, la pièce métallique 51 a été usinée au niveau des deux parties 53, 55 parallèles selon deux profondeurs, c’est-à-dire en formant trois niveaux, et au niveau de la partie non évasée de la portion transversale 57 selon une seule profondeur. At the end of step 11 of the method 1, one can thus obtain a micromechanical part in the form of a fork 61 shown in FIG. 12 and comprising at least two distinct levels coated or not with a layer 13. Thus, the metal part 51 has been machined at the two parts 53, 55 parallel to two depths, that is to say, forming three levels, and at the level of the non-flared portion of the transverse portion 57 in a single depth.
[0035] Dans l’exemple de la fig. 12 , la fourchette 61 comporte ainsi la totalité des parties 53, 55 parallèles uniquement au niveau inférieur en formant deux cornes 62, 64. Un niveau intermédiaire comporte seulement partiellement les parties 53, 55 parallèles et la partie non évasée de la portion transversale 57 en formant des épaulements 63 et 65. Enfin seule la partie centrale 56 de la portion transversale 57 est conservée de la pièce métallique 51 en formant uniquement dans le niveau supérieur un tenon. In the example of FIG. 12, the fork 61 thus comprises all the portions 53, 55 parallel only to the lower level by forming two horns 62, 64. An intermediate level only partially comprises the parallel portions 53, 55 and the non-flared portion of the transverse portion 57 in FIG. forming only shoulders 63 and 65. Finally only the central portion 56 of the transverse portion 57 is retained from the metal piece 51 forming only in the upper level a tenon.
[0036] Comme visible à la fig. 13 , la fourchette 61 peut ensuite être montée, par chassage de la partie centrale 56 formant tenon, dans le trou 76 d’une baguette 73 pour former une ancre 71. La baguette 73 peut elle-même être obtenue par un procédé LIGA avec un dard 78 en une pièce. En plus, de la fourchette 61, la baguette 73 peut être équipée de palettes 75, 77 au niveau de ses bras 72, 74 et d’un axe de pivotement 79. Bien entendu, avantageusement selon l’invention, tout ou partie de l’ancre 71 peut également être obtenue à l’aide du procédé 1 selon l’invention. A titre d’exemple, les palettes 75, 77, la baguette 73, le dard 78, le trou 76 pourraient être monoblocs et obtenus à partir du procédé 1 selon l’invention. As shown in FIG. 13, the fork 61 can then be mounted, by driving the central portion 56 forming tenon, in the hole 76 of a rod 73 to form an anchor 71. The rod 73 can itself be obtained by a LIGA method with a dart 78 in one piece. In addition, from the fork 61, the rod 73 can be equipped with vanes 75, 77 at its arms 72, 74 and with a pivot axis 79. Of course, advantageously according to the invention, all or part of the Anchor 71 can also be obtained using method 1 according to the invention. For example, the pallets 75, 77, the rod 73, the dart 78, the hole 76 could be monoblock and obtained from the method 1 according to the invention.
[0037] Dans une troisième variante illustrée aux fig. 14 à 16 , est présentée une pièce métallique 81 obtenue lors de l’étape 7 du procédé 1. Elle se présente généralement sous la forme d’une pièce en U comportant deux parties 83, 85 parallèles reliées entre elle par une base 87. Comme visible à la fig. 14 , la base est plus épaisse que la partie 83, 85 parallèles pour permettre la formation d’un ajourage 86 sensiblement en forme de croix. In a third variant illustrated in FIGS. 14 to 16, is presented a metal part 81 obtained in step 7 of method 1. It is generally in the form of a U-shaped part comprising two parallel portions 83, 85 interconnected by a base 87. visible in fig. 14, the base is thicker than the portion 83, 85 parallel to allow the formation of an ajoint 86 substantially cross-shaped.
[0038] A l’issue de l’étape 11 du procédé 1, on peut ainsi obtenir une pièce de micromécanique prenant la forme d’une fourchette 91 illustrée à la fig. 15 monobloc et comportant au moins deux niveaux distincts revêtue ou non d’une couche 13. Ainsi, la pièce métallique 81 a été usinée au niveau des deux parties 83, 85 parallèles selon une seule profondeur et au niveau de la base 87 selon deux profondeurs, c’est-à-dire en formant trois niveaux, At the end of step 11 of method 1, one can thus obtain a micromechanical part in the form of a fork 91 shown in FIG. The metal part 81 has been machined at the two parallel portions 83, 85 at one depth and at the base 87 at two depths. , that is to say by forming three levels,
[0039] Dans l’exemple de la fig. 15 , la fourchette 61 comporte ainsi la totalité des parties 83, 85 parallèles uniquement au niveau inférieur en formant deux cornes 92, 94. Un niveau intermédiaire comporte seulement partiellement la base 87 en formant un cylindre 93 se rétrécissant par un épaulement 95 pour former le niveau supérieur. Enfin, le rétrécissement est utilisé pour faire libérer l’ajourage 86 dans le niveau supérieur et former quatre tenons 96, 97, 98, 99. In the example of FIG. 15, the fork 61 thus comprises all the parts 83, 85 parallel only to the lower level forming two horns 92, 94. An intermediate level only partially comprises the base 87 forming a cylinder 93 tapering by a shoulder 95 to form the higher level. Finally, the narrowing is used to release the openwork 86 in the upper level and form four pins 96, 97, 98, 99.
[0040] Comme visible à la fig. 15 , la fourchette 91 peut ensuite être montée, par chassage des tenons 96, 97, 98, 99, dans les trous 106 d’une baguette 103 pour former une ancre 101. La baguette 103 peut elle-même être obtenue par un procédé LIGA avec un dard 108 en une pièce. En plus, de la fourchette 91, la baguette 103 peut être équipée, de manière similaire à la deuxième variante, de palettes au niveau de ses bras 102, 104 et d’un axe de pivotement. Bien entendu, avantageusement selon l’invention, tout ou partie de l’ancre 101 peut également être obtenue à l’aide du procédé 1 selon l’invention. A titre d’exemple, les palettes, la baguette 103, le dard 108, les trous 106 pourraient être monoblocs et obtenus à partir du procédé 1 selon l’invention. As shown in FIG. 15, the fork 91 can then be mounted, by driving the pins 96, 97, 98, 99, into the holes 106 of a rod 103 to form an anchor 101. The rod 103 can itself be obtained by a LIGA method with a 108 dart in one piece. In addition, the fork 91, the rod 103 may be equipped, similarly to the second variant, pallets at its arms 102, 104 and a pivot axis. Of course, advantageously according to the invention, all or part of the anchor 101 can also be obtained using the method 1 according to the invention. For example, the pallets, the rod 103, the dart 108, the holes 106 could be monoblock and obtained from the method 1 according to the invention.
[0041] Par conséquent, avantageusement selon l’invention, les cotes externes 22, 24, 53, 55, 56, 83, 85 et, éventuellement, internes 26, 86 restent à la grande précision induit par le procédé LIGA et le reste de la pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 monobloc bénéficie de la précision de l’usinage afin de préserver les coûts de fabrication. On obtient donc une pièce de micromécanique 31, 41, 61, 91 monobloc comportant au moins deux niveaux distincts qui est beaucoup moins difficile à fabriquer en gardant les parties externes 22, 24, 53, 55, 56, 83, 85 et, éventuellement, internes 26, 86 d’une très grande précision. Therefore, advantageously according to the invention, the external dimensions 22, 24, 53, 55, 56, 83, 85 and possibly internal 26, 86 remain at the high precision induced by the LIGA process and the rest of the the one-piece micromechanical part 31, 41, 61, 91 benefits from the precision of machining in order to preserve manufacturing costs. Thus, a micromechanical part 31, 41, 61, 91 comprising one piece with at least two distinct levels is obtained which is much less difficult to manufacture by keeping the external parts 22, 24, 53, 55, 56, 83, 85 and possibly internal 26, 86 very precise.
[0042] Bien entendu, la présente invention ne se limite pas à l’exemple illustré mais est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l’homme de l’art. En particulier, dans le domaine de l’horlogerie, les pièces de micromécanique 31, 41, 61, 91 ne sauraient se limiter à un tout ou partie d’un mobile ou d’une ancre. D’autres pièces horlogères peuvent être envisagées comme, notamment, des ponts, des platines ou des balanciers. Of course, the present invention is not limited to the example shown but is susceptible to various variations and modifications that will occur to those skilled in the art. In particular, in the field of watchmaking, the micromechanical parts 31, 41, 61, 91 can not be limited to an entire or part of a mobile or an anchor. Other watch parts can be considered as, in particular, bridges, plates or pendulums.
[0043] De plus, comme expliqué ci-dessus, il est également envisageable d’appliquer la présente invention dans d’autres domaines que l’horlogerie comme, notamment, l’aéronautique ou l’automobile. In addition, as explained above, it is also conceivable to apply the present invention in other areas that the watch industry, such as aeronautics or automotive.
Claims (11)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CH00447/13A CH707562B1 (en) | 2013-02-13 | 2013-02-13 | Method for manufacturing a one-piece micromechanical part comprising at least two distinct levels. |
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CH00447/13A CH707562B1 (en) | 2013-02-13 | 2013-02-13 | Method for manufacturing a one-piece micromechanical part comprising at least two distinct levels. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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CH707562A2 true CH707562A2 (en) | 2014-08-15 |
CH707562B1 CH707562B1 (en) | 2020-01-15 |
Family
ID=51301037
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CH00447/13A CH707562B1 (en) | 2013-02-13 | 2013-02-13 | Method for manufacturing a one-piece micromechanical part comprising at least two distinct levels. |
Country Status (1)
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CH (1) | CH707562B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4075205A1 (en) * | 2021-04-16 | 2022-10-19 | ETA SA Manufacture Horlogère Suisse | Method for manufacturing a timepiece mobile and timepiece mobile obtained by implementing same |
-
2013
- 2013-02-13 CH CH00447/13A patent/CH707562B1/en unknown
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EP4075205A1 (en) * | 2021-04-16 | 2022-10-19 | ETA SA Manufacture Horlogère Suisse | Method for manufacturing a timepiece mobile and timepiece mobile obtained by implementing same |
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