CH483026A - Vorrichtung zum Abbilden einer Maske mit mehreren Mustern auf ein halbleitendes Substrat - Google Patents

Vorrichtung zum Abbilden einer Maske mit mehreren Mustern auf ein halbleitendes Substrat

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CH483026A
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semiconducting
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CH129268A
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SE (1) SE330993B (instruction)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0145902A1 (en) * 1983-12-01 1985-06-26 International Business Machines Corporation Thermo-mechanical overlay signature tuning for photolithographic mask aligner

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3758196A (en) * 1971-04-12 1973-09-11 H Weiss Optical magnifying system and apparatus for viewing small objects
US3914030A (en) * 1971-04-12 1975-10-21 Helmut Weiss Virtual image magnifier system filled with a refractive medium
US3748015A (en) * 1971-06-21 1973-07-24 Perkin Elmer Corp Unit power imaging catoptric anastigmat
US4103989A (en) * 1977-02-07 1978-08-01 Seymour Rosin Unit-power concentric optical systems
US4171870A (en) * 1977-05-06 1979-10-23 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Compact image projection apparatus
US4171871A (en) * 1977-06-30 1979-10-23 International Business Machines Corporation Achromatic unit magnification optical system
US4288148A (en) * 1979-08-29 1981-09-08 The Perkin-Elmer Corporation Beam-splitting optical system
US4302079A (en) * 1980-04-10 1981-11-24 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Photolithographic projection apparatus using light in the far ultraviolet
US4406520A (en) * 1980-08-14 1983-09-27 Universal Pioneer Corporation Beam splitter optical system of signal pickup device
CA1171555A (en) 1981-05-15 1984-07-24 Ronald S. Hershel Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4391494A (en) * 1981-05-15 1983-07-05 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4444492A (en) * 1982-05-15 1984-04-24 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4896952A (en) * 1988-04-22 1990-01-30 International Business Machines Corporation Thin film beamsplitter optical element for use in an image-forming lens system
US4953960A (en) * 1988-07-15 1990-09-04 Williamson David M Optical reduction system
US5040882A (en) * 1988-11-07 1991-08-20 General Signal Corporation Unit magnification optical system with improved reflective reticle
US4964705A (en) * 1988-11-07 1990-10-23 General Signal Corporation Unit magnification optical system
US5140459A (en) * 1989-08-29 1992-08-18 Texas Instruments Apparatus and method for optical relay and reimaging
US5089913A (en) * 1990-07-11 1992-02-18 International Business Machines Corporation High resolution reduction catadioptric relay lens
US5241423A (en) * 1990-07-11 1993-08-31 International Business Machines Corporation High resolution reduction catadioptric relay lens
US5323263A (en) * 1993-02-01 1994-06-21 Nikon Precision Inc. Off-axis catadioptric projection system
US5515207A (en) * 1993-11-03 1996-05-07 Nikon Precision Inc. Multiple mirror catadioptric optical system
US5610765A (en) * 1994-10-17 1997-03-11 The University Of North Carolina At Chapel Hill Optical path extender for compact imaging display systems
US20060238732A1 (en) * 2005-04-21 2006-10-26 Mercado Romeo I High-NA unit-magnification projection optical system having a beamsplitter
US8493670B2 (en) 2010-09-10 2013-07-23 Coherent, Inc. Large-field unit-magnification catadioptric projection system
US8659823B2 (en) 2011-04-22 2014-02-25 Coherent, Inc. Unit-magnification catadioptric and catoptric projection optical systems

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2801570A (en) * 1952-05-29 1957-08-06 Centre Nat Rech Scient Mirror type optical objectives for microscopes
FR1471508A (fr) * 1966-03-15 1967-03-03 Optische Ind De Oude Delft Nv Système catadioptrique de grossissement égal à l'unité

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0145902A1 (en) * 1983-12-01 1985-06-26 International Business Machines Corporation Thermo-mechanical overlay signature tuning for photolithographic mask aligner
US4540251A (en) * 1983-12-01 1985-09-10 International Business Machines Corporation Thermo-mechanical overlay signature tuning for Perkin-Elmer mask aligner

Also Published As

Publication number Publication date
BE710114A (instruction) 1968-07-30
FR1558619A (instruction) 1969-02-28
DE1622979A1 (de) 1971-01-07
NL6701520A (instruction) 1968-08-02
GB1213728A (en) 1970-11-25
SE330993B (instruction) 1970-12-07
US3536380A (en) 1970-10-27

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