Verfahren zur Beseitigung von Algen und Pilzen aus dem Wasser. Eine wichtige Aufgabe in der Wasser- und Abwasserreinigungstechnik bildet die Beseitigung von Algen und Pilzen, die viel fach Störungen und Belästigungen verurs,a- ehen, die teils, wie bei Trinkwasser, in einem unangenehmen Geruch, teils, wie bei Bade wasser, darin bestehen, dass durch die Algen das Wasser ein unansehnliches und schmut ziges Aussehen erhält, teils, wie in Konden sationsanlagen, zu Verengungen und Ver stopfungen von Rohrleitungen und Termin- derung der Kühlwirkung, teils,
wie in Fil teranlagen, zu Verstopfungen der Filter und damit der Notwendigkeit zu deren häufiger Reinigung, teils, wie in Vorflutern, in wel che Industrieabwässer, etwa von Zellulose-, Zuckerfabriken usw. gelangen, zu schweren Pilzwucherungen, die die Fischerei beein trächtigen, Mühlenbetriebe und sonstige Kraftanlagen schädigen usw. führen kann.
Zur Bekämpfung dieser Übelstände wer- den zur Zeit entweder Chlor in Gestalt von freiem oder aktivem Chlor, oder Kupfer sulfat saugewendet, mit denen man wohl in den leichteren Fällen der Algenbekämpfung, nicht aber in schwereren, vor allen Dingen aber nicht in den letztgenannten Fällen, Er folge gehabt hat.
Auch in verschiedenen der letzteren Fälle sind die Chlor- bezw. Kupfermengen so hoch, dass sich andere unangenehme Begleiterschei nungen zeigen, wie etwa Chlorgeruch oder ein dauernder unerwünscht hoher Kupfer gehalt des für Genusszwecke bestimmten Wassers usw.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren, bei welchem Chlor und Kupfer gemeinsam zugeführt werden. Es hat sich nämlich die nicht vorauszusehende Tat sache herausgestellt, dass die gleichzeitige Einwirkung beider Substanzen eine erheb- lich grössere Wirksamkeit entfaltet als jede, selbst in grösserer Menge, für sich allein.
So wurden beispielsweise in einem Was ser, :das ein Ch :larbindungsvermägen von etwa 20 mg pro Liter besass und das trotz der hierdurch gekennzeichneten ungewöhnlich hohen Verschmutzung als Gebrauchswasser für eine Papierfabrik verwandt werden musste, die Algen mit Mengen von zirka 2';5 mg Chlor ,u;rrid: zirka 0,18 mg Knipfer pro Liter beseitigt, während alle früheren Versuche zur Beseitigung der Algen fehl geschlagen haben.
In einem andern Falle gelang es, eine schwere Verpilzung des Vorfluters mit Sphaerotilus- und Leptomituspilzen mit einem Zusatz von etwa 1 mg Chlor und etwa 0,1 mg Kupfer pro Liter zu beseitigen und danach mit nur etwa il" bis % der vorge nannten Mengen den Vorfluter dauernd pilz frei zu halten.
Die Anwendung des Verfahrens kann in beliebiger Weise geschehen. Eine zweckmä ssige Vorrichtung zur Ausführung des Ver fahrens ist anhand der Abb. 1 beiliegender Zeichnung nachstehend beschrieben.
Ein von einer Vorratsflasche 1 kommen der Chlorgasstrom wird in einer Apparatur 2 abgemessen, einreguliert und in dem zur Apparatur gehörigen, mit einem kleinen flie- l,)enden Wasserstrom gespeisten Absorptions gefäss 3 zu Chlorwasser gelöst. Von diesem Absorptionsgefäss führen zwei Leitungen zu dem in der Leitung 8 fliessenden zu behan delnden Wasser, und zwar Leitung 4 unmit telbar, Leitung 5 zunächst zu einem mit dem anzuwendenden Kupfer in zerkleinerter Form gefüllten Gefäss 6. Eine Reguliervorrichtung 7 gestattet die Verteilung des Chlorwasser stromes auf die beiden Leitungen 4 und 5 in beliebiger Weise.
In dem Gefäss 6 verbin det sich das Chlor mit dem darin vorhan denen Metall. so dass die abfliessende Lösung eine dem zugeführten Chlor etwa entspre chende Kupferchloridmenge enthält.
Will man an Stelle von Chlorgas aktives Chlor in Form von freier unterchloriger Säure oder Hypochloritlösung anwenden, so verfährt man in der Weise, dass eine solche Lösung, beispielsweise Natrium-Hypochlorit- lösung, mittelst einer geeigneten Dosierungs vorrichtung dem zu behandelnden Wasser oder Abwasser in einstellbarer Menge zuge führt wird, während man gleichzeitig eine Lösung eines Kupfersalzes, beispielsweise Kupferchlorid, ebenfalls in einstellbarer Weise zuführt, und zwar ist es zweckmä ssig, die Vereinigung der beiden Mittel erst in dem zu behandelnden Medium vorzuneh men,
um durch die hierbei eintretende Ver- dünn@ung :unerwünschten Z@cnisehenreaktionen, die bei höherer Konzentration eintreten kön nen, vorzubeugen.
Zur Vereinfachung der praktischen Aus übung des Verfahrens wird zweckmässig eine Dosierungseinrichtung benutzt, mit welcher beide Flüssigkeiten, nämlich die Kupfer-. und die Ghlorlösung @gleihzeitig vio@n nur einer Regelvorrichtung aus dosiert werden können, so dass bei Änderung der Einstellung der Regelvorrichtung die Menge beider Lö sungen gleichzeitig zwangsläufig im gleichen Verhältnis geändert wird.
Nachstehend ist eine solche Vorrichtung anhand der Abb. 2 beschrieben.
Die Vorrichtung besteht aus einer Was serzuführung 1a, einem einen Heber enthal tendes Gefäss 2a, dessen Ableitungsrohr sich in zwei Teile teilt und das abfliessende Was ser zu etwa gleichen Teilen zwei Auffang gefässen.3a und @3b zuführt, zwei anschliessen den, von dem abfliessenden Wasser durch- flossenen Injektoren 4a und 44, mit deren Saugstutzen durch die Leitungen 5a und 5b die Dosierungsheber 6a und 6b verbunden sind,
die aus mit Niveauflaschen 10a und 10b versehenen Vorratsbehältern 7a und 7b die entsprechenden Lösungen in bestimmten Mengen ansaugen, sowie fernerhin den Auf fanggefässen 8a und 8b und den Ablauflei tungen zu dem zu behandelnden Wasser 9a und 9b, welch letzteres in der Leitung 17 fliesst.
Der Dosierungsvorgang gestaltet sich folgendermassen: Durch das Rohr la fliesst ein Wasser strom, dessen Stärke durch das Regelventil 13 eingestellt werden kann, dem Hebergefäss 2a zu. Ein iS@elimutzfänger 16 verhütet @dais Eindringen von Schmutzteilen in die Leitung. Je nach der Stärke des zulaufenden Wasser stromes füllt sich Idas Hebergefäss in verschie denen Zeiträumen und schlägt dementspre chend verschieden oft in der Zeiteinheit über. Das abfliessende Wasser läuft beim Über schlagen zu etwa gleichen Teilen den.
Ge fässen 3a und 3b zu und erzeugt beim Pas sieren der Injektoren 4a und 4b in den Roh ren 5a und 5b eine Saugung, die sich, da die anschliessenden Ablaufrohre in den Ab laufgefässen 8a und 8b unter Flüssigkeits niveau enden, auf die beiden Heber 6a und 6b auswirkt und diese somit ebenfalls zum Überschlagen bringt.
Diese beiden Heber besitzen an ihrem tiefsten in den Vorratsbehältern 7a und 7b liegenden Punkt eine kleine Öffnung, durch welche sie sich in der zwischen zwei Über schlägen des Hebers 2a vergehenden Zeit wie der füllen. Hierdurch sinkt allmählich das Flüssigkeitsniveau in den Behältern 7a und 7b um ein geringes, bis die Öffnungen der Niveauflaschen loa und lob frei werden, worauf dann unter Eindringen von Luft in dieselben neue Flüssigkeit in die Vorrats behälter 7a und 7b einströmt, bis die Fla schenöffnungen wieder von der Flüssigkeit bedeckt sind.
Aus den Auslaufgefässen 8a und 8b laufen die beiden Flüssigkeiten durch die Leitungen 9a und 9b in das zu behandelnde Wasser ab, während das aus der Leitung la kom mende Triebwasser nach Passieren des He bergefässes 2a und der Injektoren 4a und 4b durch das Gefäss 14 und die anschliessenden Leitungen 15 in beliebiger Weise, beispiels weise in die Leitung 17 ebenfalls, zur Ab leitung gebracht wird.
Auf diese Weise erreicht man, wenn für die Speisung des Hebers 6a eine Kupfersalz lösung und des Hebers 6b eine Hypochlorit- lösung benutzt wird, eine zwangsweise pro- portionale Regelung der beiden Lösungen zu einander, unabhängig von der jeweils einge stellten Zulaufmenge.
Dias 61eiche Ergebnis lässt sich fauch mit andern Dosierungseinrichtungen erreichen, beispielsweise mit einer nach Art eines Schöpfrades arbeitenden Vorrichtung, bei welcher auf der Triebradachse zwei Schöpf räder befestigt sind, deren eines aus einem Vorratsbehälter Natrium-Hypochloritlösung, das andere aus einem andern Vorratsbehäl ter Kupferchloridlösung schöpft.
Ändert man durch Änderung des Triebwasserstromes die Umdrehungsgeschwindigkeit des Schöpfra des, so ändert sich auch zwangsläufig im gleichen Verhältnis die von den beiden Schöpfrädern geschöpfte Menge von Hypo- ehlorit- bezw. Kupferlösung.
Procedure for removing algae and fungi from the water. An important task in water and wastewater purification technology is the removal of algae and fungi, which often cause disturbances and nuisances, some of which, as with drinking water, consist of an unpleasant odor, and others, as with bathing water that the algae give the water an unsightly and dirty appearance, partly, as in condensation systems, to constrictions and blockages of pipes and the termination of the cooling effect, partly
like in filter systems, to clogging of the filters and thus the need for their frequent cleaning, partly, like in receiving waters, in which industrial wastewater, for example from cellulose, sugar factories, etc. get, to heavy fungal growths that affect fishing, mills and damage other power plants, etc.
To combat these inconveniences, either chlorine in the form of free or active chlorine, or copper sulphate, are currently used, which are used in the lighter cases of algae control, but not in more severe, but above all in the latter cases, He has followed.
Also in various of the latter cases, the chlorine respectively. The amount of copper is so high that other unpleasant side effects appear, such as the smell of chlorine or a permanent, undesirably high copper content in the water intended for pleasure, etc.
The present invention relates to a process in which chlorine and copper are fed in together. The fact, which cannot be foreseen, has shown that the simultaneous action of both substances develops a considerably greater effectiveness than each, even in larger quantities, on its own.
For example, in a water: which had a carbon binding capacity of around 20 mg per liter and which, despite the unusually high level of pollution that was characterized by it, had to be used as service water for a paper mill, the algae in quantities of around 2 '; 5 mg Chlorine, uride: about 0.18 mg of Knipfer per liter eliminated, while all previous attempts to eliminate the algae have failed.
In another case it was possible to remove a severe fungal infection of the receiving water with Sphaerotilus and Leptomitus fungi with an addition of about 1 mg of chlorine and about 0.1 mg of copper per liter and then with only about one to one percent of the aforementioned amounts Receiving waters to keep fungus-free permanently.
The method can be used in any way. An expedient device for executing the process is described below with reference to Fig. 1 of the accompanying drawing.
The chlorine gas stream coming from a storage bottle 1 is measured in an apparatus 2, regulated and dissolved to form chlorine water in the absorption vessel 3 belonging to the apparatus and fed with a small flowing water stream. From this absorption vessel, two lines lead to the water flowing in line 8 to be treated, namely line 4 immediately, line 5 first to a vessel 6 filled with the copper to be used in crushed form. A regulating device 7 allows the distribution of the chlorine water flow on the two lines 4 and 5 in any way.
In the vessel 6, the chlorine is combined with the metal in it. so that the outflowing solution contains an amount of copper chloride approximately corresponding to the chlorine supplied.
If active chlorine in the form of free hypochlorous acid or hypochlorite solution is to be used instead of chlorine gas, the procedure is such that such a solution, for example sodium hypochlorite solution, can be adjusted to the water or wastewater to be treated by means of a suitable metering device Amount is supplied while at the same time a solution of a copper salt, for example copper chloride, is also supplied in an adjustable manner, and it is practical to combine the two agents only in the medium to be treated,
in order to prevent undesired cisence reactions, which can occur at higher concentrations, as a result of the thinning that occurs.
To simplify the practical exercise of the method from a metering device is expediently used with which both liquids, namely the copper. and the chlorine solution @ at the same time vio @ n can only be dosed from one control device, so that when the setting of the control device is changed, the amount of both solutions is inevitably changed at the same time in the same ratio.
Such a device is described below with reference to FIG.
The device consists of a water supply 1a, a siphon containing vessel 2a, the discharge pipe of which divides into two parts and the outflowing water feeds in roughly equal parts to two collecting vessels.3a and @ 3b, two connecting to the outflowing one Water flowing through injectors 4a and 44, with the suction nozzle of which the dosing lifters 6a and 6b are connected by lines 5a and 5b,
the reservoirs 7a and 7b provided with level bottles 10a and 10b suck in the corresponding solutions in certain quantities, and furthermore the collecting vessels 8a and 8b and the drain lines to the water to be treated 9a and 9b, the latter flowing in the line 17.
The metering process is as follows: A stream of water flows through the pipe la, the strength of which can be set by the control valve 13, to the siphon vessel 2a. An iS @ elimutzfänger 16 prevents dirt particles from getting into the line. Depending on the strength of the inflowing water flow, Ida's siphon vessel fills in different periods of time and accordingly changes often in the unit of time. The outflowing water runs in roughly equal parts when it hits.
Ge receptacles 3a and 3b and generates a suction when passing the injectors 4a and 4b in the pipes 5a and 5b, which, since the subsequent drainage pipes in the drainage vessels 8a and 8b end below the liquid level, on the two lifters 6a and 6b and thus also causes them to roll over.
These two lifters have a small opening at their lowest point in the reservoirs 7a and 7b through which they fill in the time that passes between two strokes of the lifter 2a. As a result, the liquid level in the containers 7a and 7b gradually decreases until the openings of the level bottles loa and lob become free, whereupon new liquid flows into the storage containers 7a and 7b with air penetrating into the storage containers 7a and 7b until the bottle openings again are covered by the liquid.
From the discharge vessels 8a and 8b, the two liquids run through the lines 9a and 9b into the water to be treated, while the motive water coming from the line la coming after passing the lifting vessel 2a and the injectors 4a and 4b through the vessel 14 and the subsequent lines 15 in any way, for example in line 17 also, is brought to the line from.
In this way, if a copper salt solution is used to feed the siphon 6a and a hypochlorite solution is used for the siphon 6b, a compulsory proportional control of the two solutions to one another is achieved, regardless of the inflow quantity set in each case.
This result can easily be achieved with other metering devices, for example with a device working like a bucket wheel, in which two bucket wheels are attached to the drive wheel axle, one of which draws sodium hypochlorite solution from a storage container and the other from another storage container copper chloride solution .
If the speed of rotation of the scoop is changed by changing the headwaters, the amount of hypoechlorite and / or hypoechlorite scooped by the two scoop wheels inevitably changes in the same ratio. Copper solution.