BRPI0903483A2 - estufa curva de conformidade térmica progressiva, para o tratamento térmico ou queima das matrizes litográficas também denominadas chapas offset - Google Patents

Abstract

ESTUFA CURVA DE CONFORMIDADE TéRMICA PROGRESSIVA, PARA O TRATAMENTO TéRMICO OU QUEIMA DAS MATRIZES LITOGRáFICAS TAMBEM DENOMINADAS CHAPAS OFFSET. A presente invenção refere-se a uma estufa para o tratamento térmico das chapas offset denominado também "queimar a chapa". Como detalhado nas FIGURAS 1A e 1B. Prendemos uma manta térmica no extremo de uma superfície curva aquecida, introduzindo no meio uma chapa offset e aplicamos na manta uma tensão envolvente sobre à chapa, garantindo um contato progressivo e linear. O processo pode ser envolvente restrito ou contínuo.

Description

"ESTUFA CURVA DE CONFORMIDADE TÉRMICA PROGRESSIVA,PARA O TRATAMENTO TÉRMICO OU QUEIMA DAS MATRIZESLITOGRÁFICAS TAMBÉM DENOMINADAS CHAPAS OFFSET"

A presente invenção refere-se a uma estufa para o tratamentotérmico das chapas offset denominado também "queimar a chapa",

Como detalhado nas FIGURAS 1A e 1B. Prendemos uma mantatérmica no extremo de uma superfície curva aquecida, introduzindo nomeio uma chapa offset e aplicamos na manta uma tensão envolventesobre à chapa, garantindo um contato progressivo e linear. O processopode ser envolvente restrito ou contínuo.

No estado da técnica, o processo de tratamento térmico ou queima,se efetua introduzindo a chapa offset, em um forno ou estufa, à umatemperatura constante, e um determinado tempo de permanência.

Parâmetros estabelecidos pelo fabricante das chapas, a fim deendurecer/cristalizar a camada da chapa offset e alongar a sua vida útil,especialmente em impressões de longa tiragem, aumentando sua dureza,resistência a produtos químicos e riscos na superfície da chapa offset.

O inconveniente dos fornos usados no mencionado processo é queno interior do forno, o aquecimento da chapa offset é por convecçãoatravés do ar, préviamente aquecido por resistências elétricas ou placasde irradiação infravermelho, sendo muito dificultoso, conseguir umahomogeneidade da temperatura em toda a superfície da chapa offset econseqüentemente uma homogeneidade na cristalização ouendurecimento da camada na chapa offset, comprometendo a durabilidadeesperada pelo impressor gráfico em toda a superfície da chapa offset deuma forma homogênia.

Além da dificuldade da homogeneidade térmica, temos o alto custoenergético por perdas de calor, nas aberturas das portas para a carga edescarga das chapas offset, nos sistemas manuais (off-line) e nasaberturas para a passagem das chapas offset entrada/saída nos sistemasautomáticos (on-line) através de esteiras de malha metálica para suportaro calor interno do forno.

Por conta destes e outros inconvenientes não mencionados, apósum longo período de estudo, pesquisas e testes, baseados mais na físicaquântica que na termodinâmica, a transmissão térmica por contato ofereceum rendimento bem maior que os fornos atuais usados no mercado gráficoe mesmo provenientes do ramo da alimentação.

Existe ainda, o tratamento térmico das chapas fotopolímeras violetas,que no processo de revelado precisa de pré-aquecimento (pre-heat),englobadas na mesma solução.

A transmissão térmica por contato de superfícies, tem a vantagem deser mais fácil de administrar o aportamento de calor, de forma rápida ehomogênea na superfície da chapa offset. Por ter espessuras inferiores a0.5 mm e ser de alumínio com um alto poder de absorção térmica oaquecimento é quase que instantâneo e só precisa esquentar a superfícieda estufa que estará em contato com a chapa offset.

O sistema acima mencionado tem a chapa offset e de alumínio, comdimensões mínimas parecidas a 30 cm χ 40 cm e máximas de 84 cm χ 110cm com espessuras de 0,12 mm a 0,40 mm e aquecida na temperatura dequeima, geralmente na faixa de 220°C / 260°C.

O contato da chapa com uma superfície plana não consegue umahomogeneidade de forma total em toda sua área, produzindo-se, porcausa de sua dilatação: deformações em forma de ondulações, crateras erugosidades na superfície da chapa offset, podendo ser de forma permanente,tomando impossível o aquecimento uniforme e chegando assim na perda dachapa offset.

Visando uma solução definitiva para o mencionado processo, foidesenvolvida por mim a patente de invenção: "ESTUFA CURVA DECONFORMIDADE TÉRMICA PROGRESSIVA, PARA O TRATAMENTOTÉRMICO OU QUEIMA DAS MATRIZES LITOGRÁFICAS TAMBÉMDENOMINADAS CHAPAS OFFSET".

Como detalhado nas FIGURAS 1A e 1B. Tendo como objetivoprincipal uma superfície curva (podendo ser cilíndrica) aquecida no interiorpor resistências elétricas ou infravermelhos.

Prendemos no extremo da curva, uma manta térmica e introduzimos nomeio uma chapa offset. Aplicamos uma tensão envolvente sobre a chapa,garantindo um contato progressivo e linear, sendo que qualquer deformaçãoserá efetiva apenas na línhea de contato, criando uma deformação única econtrolada, que a tensão envolvente irá deslocando na chapa offset econformando-a ao longo da superfície curva até nela ficar conformada.

Na FIGURA 2: Vemos o mesmo sistema já descrito, com a varianteque: um cilindro substitui a forma curva e a manta térmica é uma correiaenvolvente, fazendo o mesmo efeito já descrito, porém em forma deentrada/saída contínua e aplicando esteiras (não descritas no desenho)tornando o sistema automático.

Pode ser adaptada em todos os mecânismos já descritos uma segundamanta/correia interna, entre a chapa e a superfície aquecida fazendo umsanduíche na chapa offset com a finalidade de facilitar a sua extração.

Com pequenas adaptações nas correias, o mesmo aparelho servetambém para o tratamento térmico das chapas fotopolímeras violetas, queno processo de revelado precisa de pré-aquecimento (pre-heat).

Claims (5)

1.

"ESTUFA CURVA DE CONFORMIDADE TÉRMICA PROGRESSIVA,PARA O TRATAMENTO TÉRMICO OU QUEIMA DAS MATRIZESLITOGRÁFICAS TAMBÉM DENOMINADAS CHAPAS OFFSET".Caracterizado por (FIG.

1 a/b) uma estufa curva 1, aquecida a suasuperfície por resistências elétricas 2, prendendo num extremo uma mantatérmica 3, com a função de envolver matrizes litográficas 4, aplicando umaforça envolvente no outro extremo.Pode-se ainda acrescentar uma segunda manta térmica 5 afim defacilitar a extração da chapa offset.1.

"ESTUFA CURVA DE CONFORMIDADE TÉRMICA PROGRESSIVAAUTOMÁTICA (ON-LINE), PARA O TRATAMENTO TÉRMICO OUQUEIMA DAS MATRIZES LITOGRÁFICAS TAMBÉM DENOMINADASCHAPAS OFFSET".Caracterizado por (FIG.

2) uma estufa de corpo cilíndrico com o giromotorizado 1, aquecida a sua superfície por resistências elétricas internas-2 envolvendo o cilindro com manta térmica 3, esticada e guiada por roletes-4 formando uma correia continua com a função de guiar matrizeslitográficas 5, em contato com a superfície do cilindro aquecida e com umadeterminada pressão, tendo entrada e saída contínua 5a / 5b.Pode-se ainda acrescentar uma segunda correia 6 térmica a fim defacilitar a extração da chapa offset.Na FIG. 3 vemos uma variante do sistema mais acondicionado parao tratamento das chapas violeta de fotopolímero.