BR112020018949A2 - Aplicador de plasma - Google Patents
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Abstract
a presente invenção refere-se a um núcleo eletrotécnico para produzir um plasma frio à pressão atmosférica ou à baixa pressão para o tratamento de superfícies de seres humanos e/ou animais e/ou técnicas. o núcleo eletrotécnico tem um lado voltado para a superfície a ser tratada e um lado voltado para a direção oposta à superfície a ser tratada e compreende as seguintes camadas, dispostas umas sobre as outras, começando do lado voltado para a superfície a ser tratada: uma primeira camada isolante; uma primeira estrutura de eletrodo que é conectada a um primeiro meio de contato para estabelecer contato elétrico entre a primeira estrutura de eletrodo e uma unidade de fonte de energia e que é aterrada durante a operação; uma segunda camada isolante, que é projetada para isolar galvanicamente a primeira estrutura de eletrodo e uma segunda estrutura de eletrodo uma da outra; uma segunda estrutura de eletrodo que é conectada a um segundo meio de contato para estabelecer contato elétrico entre a segunda estrutura de eletrodo e uma unidade de fonte de energia e que é acionada, durante a operação, por um sinal de tensão que é fornecido por uma unidade de fonte de energia e que é suficiente para gerar um plasma; uma terceira camada isolante, que é projetada para isolar galvanicamente a segunda estrutura de eletrodo e uma terceira estrutura de eletrodo uma da outra; uma terceira estrutura de eletrodo que é dotada de um terceiro meio de contato para aterrar a terceira estrutura de eletrodo durante a operação.
Description
Relatório Descritivo da Patente de Invenção para “APLICA- DOR DE PLASMA”.
[0001] A presente invenção refere-se a um aplicador de plasma para gerar um plasma frio para o tratamento de superfícies de seres humanos ou animais ou técnicas. Além disso, a invenção se refere a um núcleo eletrotécnico para um aplicador de plasma.
[0002] Para operação, um aplicador de plasma é tipicamente conec- tado por meio de um cabo a uma unidade de fonte de alimentação, por exemplo, um gerador de alta tensão, que fornece um sinal de tensão que é suficiente para inflamar um plasma físico. A unidade de alimenta- ção pode compreender um controlador que controla a corrente, a tensão ou o tempo de tratamento, por exemplo.
[0003] O aplicador de plasma tipicamente compreende um núcleo eletrotécnico. Um núcleo eletrotécnico compreende um sistema de múl- tiplas camadas que, na direção da espessura da camada, compreende as seguintes camadas em sucessão: uma primeira camada isolante, uma primeira estrutura de eletrodo, uma segunda camada isolante, em particular uma camada dielétrica, uma segunda estrutura de eletrodo. Quando um aplicador de plasma com esse núcleo eletrotécnico é colo- cado em uma superfície a ser tratada, a primeira camada isolante, como a camada mais inferior, é atribuída a uma superfície a ser tratada. Nor- malmente, a segunda estrutura de eletrodo é tipicamente acionada ati- vamente por um sinal de tensão e muitas vezes configurada como um eletrodo de superfície. Como regra, a primeira estrutura de eletrodo forma um contraeletrodo e está no potencial de terra.
[0004] Uma tensão, que pode ser modulada e normalmente é mo- dulada, é aplicada durante a operação entre a segunda estrutura de ele- trodo e um contraeletrodo, que também pode ser formado por uma su- perfície a ser tratada.
[0005] O potencial do contraeletrodo pode ser um potencial de terra ou um potencial desviado do mesmo. Aqui, o sinal de tensão se refere à tensão aplicada, que pode ser modulada de forma senoidal, triangular ou retangular, por exemplo. Além disso, o sinal de tensão também pode ser composto de pulsos individuais.
[0006] Por razões de simplicidade, esta descrição se refere repeti- damente a uma estrutura de eletrodo "acionado". A tensão - ou seja, o sinal de tensão - é sempre aplicada entre a estrutura do eletrodo acio- nado e o contraeletrodo. Uma vez que o contraeletrodo tipicamente - mas não necessariamente - está no potencial de terra, a expressão sim- plificada “o sinal de tensão é aplicado à estrutura do eletrodo acionado” é usada para descrever que a tensão aplicada atua entre a estrutura do eletrodo acionado e o contraeletrodo.
[0007] Como regra, um núcleo eletrotécnico compreende um conec- tor de aterramento, que é conectado de forma eletricamente condutiva à primeira estrutura de eletrodo, e um conector de alta tensão, que é conectado de forma eletricamente condutiva à segunda estrutura de ele- trodo. A primeira e a segunda estruturas de eletrodo são normalmente conectadas a uma unidade de fonte de alimentação por meio de um cabo no conector de aterramento e no conector de alta tensão, em que a dita unidade de fonte de alimentação, durante a operação, fornece um sinal de tensão que é suficiente para inflamar um plasma e é transmitido para a segunda estrutura de eletrodo.
[0008] A segunda camada isolante é tipicamente disposta entre a primeira e a segunda estruturas de eletrodo e isola eletricamente a pri- meira e a segunda estruturas de eletrodo uma da outra. Consequente- mente, a segunda camada isolante impede um curto-circuito entre a pri- meira e a segunda estruturas de eletrodo por meio de isolamento galvâ- nico. Por meio de uma tensão aplicada à segunda estrutura de eletrodo na forma de um sinal de tensão, um gás ou mistura de gases fornecida, tal como o ar, é ionizada e convertida em um estado reativo no espaço de gás vedado formado entre o aplicador de plasma e a superfície a ser tratada. Assim, um plasma físico é gerado. O plasma se distribui unifor- memente no espaço de gás vedado e interage com a superfície a ser tratada.
[0009] Núcleos eletrotécnicos que compreendem apenas a se- gunda estrutura de eletrodo e a segunda camada isolante também são conhecidos. Assim, a segunda camada isolante é situada durante a ope- ração no lado voltado para a superfície a ser tratada. A primeira estru- tura de eletrodo, em particular, não é fornecida em tais núcleos eletro- técnicos; em vez disso, a função do eletrodo de aterramento é realizada durante a operação pelo corpo humano ou animal ou pela própria su- perfície a ser tratada. A título de exemplo, tal núcleo eletrotécnico é des- crito no documento DE 10 2017 100 161 A1. Nesse caso, a superfície a ser tratada forma um contraeletrodo.
[0010] Além dos três estados da matéria: sólido, líquido e gasoso, o plasma é denominado como o quarto estado da matéria. Se quantida- des suficientes de energia, por exemplo, na forma de energia elétrica, são fornecidas a um gás ou mistura de gases, alguns dos átomos do gás são ionizados, ou seja, os elétrons são removidos da camada atô- mica e se movem como partículas livres, deixando o átomo carregado positivamente. Se um gás consiste em uma proporção suficientemente alta de íons e elétrons livres, o estado da matéria é denominado plasma físico. Assim, o plasma físico é matéria, alguns de seus constituintes são componentes carregados, íons e elétrons, que se movem como por- tadores de carga livre.
[0011] Os processos de colisão fazem com que alguns átomos do gás ou da mistura de gases ionizada sejam convertidos em um estado excitável. Após a desexcitação, esses átomos emitem sua energia na forma de radiação eletromagnética, cujo espectro se estende desde a faixa de UV, por meio da faixa espectral visível, até a faixa de infraver- melho. Além disso, os átomos e os íons excitados podem interagir qui- micamente e se ligar para formar novas moléculas.
[0012] Para fins de geração de um plasma, jatos de plasma, tochas, as descargas corona e a descarga de barreira dielétrica (DBD) são co- nhecidas. No caso de descargas de barreira dielétrica (DBD), os plas- mas são tipicamente gerados à pressão atmosférica, longe do equilíbrio térmico. Uma tensão CA aplicada leva à formação de minúsculos canais de descarga a cada período. Uma vez que os canais de descarga cons- tituem apenas uma fração de todo o volume de descarga e o tempo de duração da descarga é severamente restringido pelo acoplamento ca- pacitivo, a temperatura média do gás na descarga permanece próxima à temperatura ambiente. Consequentemente, um plasma frio à pressão atmosférica ou baixa pressão pode ser gerado por meio da descarga da barreira dielétrica (DBD). Plasma à pressão atmosférica se refere ao caso especial de um plasma físico em que a pressão do gás no plasma corresponde aproximadamente àquela da atmosfera circundante - a chamada pressão normal. Se a pressão do gás no plasma for inferior à pressão atmosférica, então, isso é denominado como plasma de baixa pressão. O plasma frio, com temperatura abaixo de 40 °C, é atualmente pesquisado para aplicações em medicina de plasma e já encontrou suas primeiras aplicações.
[0013] O principal objetivo da medicina de plasma está no uso tera- pêutico de plasma; ou seja, o plasma físico deve ser aplicado direta- mente no corpo humano ou animal. Os alvos primários aqui são a mo- dificação auxiliada por plasma de superfícies biorrelevantes, uma bio- descontaminação/esterilização com base em plasma e um uso terapêu- tico direto para promover a cicatrização de feridas.
[0014] As possíveis aplicações residem, em primeiro lugar, na área de efeitos antimicrobianos e, em segundo lugar, na modificação direci- onada e controlável de células e tecidos de mamíferos. As aplicações médicas de plasma são discutidas, em particular, no contexto do apoio a processos de cicatrização, com particular enfoque no tratamento de feridas crônicas, no tratamento de doenças infecciosas da pele e no tra- tamento de doenças inflamatórias da pele (dermatites).
[0015] De acordo com o estado atual da pesquisa, os principais componentes ativos dos plasmas frios são espécies reativas de nitrogê- nio e oxigênio, radiação UV, partículas carregadas e campos elétricos. Espécies reativas de nitrogênio e oxigênio são formadas a curto prazo e localmente pelo acoplamento de energia elétrica em gases que não são biologicamente eficazes por si só (argônio, hélio, nitrogênio, oxigê- nio, ar e misturas dos mesmos) e por meio de interação subsequente com meios adjacentes (ar atmosférico, líquidos, superfícies). Os cam- pos elétricos e os sinais causados por eles desempenham um papel importante na regulação dos processos de cicatrização inerentes ao corpo. No caso de uma lesão, esses sinais são alguns dos primeiros sinais que o corpo recebe sobre a dita lesão. Assim, por exemplo, a eletroestimulação de feridas é um método de tratamento reconhecido que pode reativar e manter processos de reparo fisiológico e inerentes ao corpo de uma forma direcionada.
[0016] Aqui, as aplicações de plasma planas que permitem que su- perfícies humanas e/ou animais, em particular feridas, sejam tratadas completa e homogeneamente com o uso de um plasma frio à pressão atmosférica, são de particular interesse médico.
[0017] O documento DE 10 2014 220 488 A1 descreve um aparelho para gerar um plasma frio à pressão atmosférica para o tratamento de superfícies humanas e/ou animais. O aparelho compreende um sistema de múltiplas camadas plano flexível com um lado voltado para a super-
fície a ser tratada e um lado voltado para longe da superfície a ser tra- tada. O sistema de múltiplas camadas, que forma um núcleo eletrotéc- nico, compreende as seguintes camadas:
[0018] - uma primeira camada de eletrodo no lado afastado do sis- tema de múltiplas camadas,
[0019] - uma segunda camada de eletrodo no lado da frente do sis- tema de múltiplas camadas, em que a camada de eletrodo tem uma multiplicidade de recortes ou uma modalidade em forma de grade ou sinuosa,
[0020] - uma camada dielétrica, que é disposta entre a primeira ca- mada de eletrodo e a segunda camada de eletrodo, e
[0021] - uma camada espaçadora, que é disposta adjacente à se- gunda camada de eletrodo no lado da frente do sistema de múltiplas camadas e que, durante a operação, garante uma distância entre a su- perfície a ser tratada e a segunda camada de eletrodo disposta na parte inferior.
[0022] O aparelho descrito deve facilitar o tratamento de feridas de grandes áreas, em particular de feridas com mais de 200 cm2.
[0023] Para gerar o plasma frio à pressão atmosférica, um aparelho como descrito no documento DE 10 2014 220 488 A1 é tipicamente co- nectado por meio de um cabo a um gerador de alta tensão, a fim de transferir uma alta tensão para a primeira camada de eletrodo. Tipica- mente, o cabo para transferir a alta tensão pode ser conectado a uma camada de eletrodo de um aparelho como descrito no documento DE 10 2014 220 488 A1 por meio de um aparelho de encaixe adequado para alta tensão.
[0024] O documento DE 10 2015 101 391 B4 descreve um disposi- tivo de geração de plasma, que compreende um portador de eletrodo e um primeiro eletrodo e um segundo eletrodo. O primeiro eletrodo é dis-
posto sobre ou no portador de eletrodo. Além disso, o mesmo compre- ende uma conexão de contato de plugue adequada para alta tensão para contatar eletricamente pelo menos um dos eletrodos. A conexão de contato de plugue compreende um plugue e uma tomada de encaixe para receber o plugue. A tomada de encaixe é disposta com segurança sobre ou no portador do eletrodo e conectada de forma eletricamente condutiva a um dos eletrodos.
[0025] É um objetivo da presente invenção facilitar um aplicador de plasma melhorado.
[0026] De acordo com um primeiro aspecto, o objetivo é alcançado por um núcleo eletrotécnico para gerar um plasma frio à pressão atmos- férica ou à baixa pressão para o tratamento de superfícies humanas e/ou animais e/ou técnicas.
[0027] O núcleo eletrotécnico tem um lado voltado para a superfície a ser tratada e um lado voltado para longe da superfície a ser tratada e compreende as seguintes camadas, dispostas umas sobre as outras, começando do lado voltado para a superfície a ser tratada:
[0028] - uma primeira camada isolante,
[0029] - uma primeira estrutura de eletrodo que é dotada de um pri- meiro contato para estabelecer contato elétrico entre a primeira estru- tura de eletrodo e uma unidade de fonte de alimentação e que é aterrada durante a operação,
[0030] - uma segunda camada isolante, que é configurada para iso- lar galvanicamente a primeira estrutura de eletrodo e uma segunda es- trutura de eletrodo uma da outra,
[0031] - uma segunda estrutura de eletrodo que é dotada de um se- gundo contato para estabelecer contato elétrico entre a segunda estru- tura de eletrodo e uma unidade de fonte de alimentação e que é acio- nada durante a operação por um sinal de tensão que é fornecido por uma unidade de fonte de alimentação e que é suficiente para inflamar um plasma,
[0032] - uma terceira camada isolante, que é incorporada para isolar galvanicamente a segunda estrutura de eletrodo e uma terceira estru- tura de eletrodo uma da outra,
[0033] - uma terceira estrutura de eletrodo que é dotada de um ter- ceiro contato para aterrar a terceira estrutura de eletrodo durante a ope- ração.
[0034] A invenção tem como base a descoberta de que a integração vertical de um aplicador de plasma convencional pode ser reduzida se um núcleo eletrotécnico for projetado para ser seguro ao toque por si mesmo. Se um núcleo eletrotécnico já fornece ele próprio proteção de contato, é possível dispensar um invólucro que é seguro ao toque, que é complexo na produção, e é possível usar um invólucro alternativo que compreende apenas uma única camada moldada por injeção e ele pró- prio não garante proteção de contato.
[0035] Os inventores reconheceram que um núcleo eletrotécnico que já é seguro para ser tocado por conta própria pode ser usado como um módulo independente. Ou seja, esse núcleo eletrotécnico pode ser inserido em vários invólucros ou pode ser disposto no último sem que quaisquer exigências especiais sejam colocadas sobre um invólucro no que diz respeito à proteção de contato.
[0036] Os inventores reconheceram, além disso, que se um núcleo eletrotécnico compreender uma terceira estrutura de eletrodo, que cum- pra a função de um eletrodo de aterramento, no lado voltado para longe da superfície a ser tratada, então a proteção de contato e a blindagem EMC podem ser garantidas de maneira particularmente fácil. A terceira camada isolante é então disposta entre a segunda e a terceira estrutu- ras de eletrodo e isola eletricamente a segunda e a terceira estruturas de eletrodo uma da outra. Consequentemente, a terceira camada iso- lante impede um curto-circuito entre a segunda estrutura de eletrodo, à qual é aplicada tensão durante a operação, e a terceira estrutura de eletrodo de blindagem por meio de isolamento galvânico.
[0037] Modalidades preferenciais do núcleo eletrotécnico de acordo com o primeiro aspecto
[0038] A terceira estrutura de eletrodo é configurada preferencial- mente de modo a ter um efeito de blindagem. A terceira estrutura de eletrodo é configurada preferencialmente como um eletrodo de superfí- cie sem lacunas relativamente grandes. Em contraste com isso, a pri- meira estrutura de eletrodo de preferência tem uma geometria especial e é configurada de uma forma tal que intensidades de campo elétrico adequadamente altas se formam em suas seções de eletrodo, de pre- ferência no lado voltado para longe da segunda estrutura de eletrodo, de modo que um plasma gerado seja distribuído como um plasma de superfície no lado voltado para o corpo da primeira estrutura de eletrodo. Isto pode ser conseguido em virtude da primeira estrutura de eletrodo ter lacunas correspondentemente grandes, que podem ser formadas, por exemplo, por distâncias apropriadas entre as seções de eletrodo da primeira estrutura de eletrodo. A primeira estrutura de eletrodo é aquela estrutura de eletrodo que está situada mais próxima da superfície a ser tratada durante o uso. Durante a operação, o plasma se forma direta- mente na primeira estrutura de eletrodo, ou seja, entre o corpo e a pri- meira estrutura de eletrodo. Isso funciona se a primeira estrutura de ele- trodo tiver recortes através dos quais - se o conceito de “linha de campo” for considerado - linhas de campo possam emergir do núcleo eletrotéc- nico.
[0039] A primeira camada isolante é formada preferencialmente por um material biocompatível.
[0040] A segunda estrutura de eletrodo pode igualmente ter uma geometria específica e, particularmente nesse caso, ser disposta com uma sobreposição definida com a primeira estrutura de eletrodo.
[0041] O núcleo eletrotécnico pode ter uma configuração flexível de modo que o último, para fins de um tratamento de plasma, possa ser adaptado em termos de seu formato a um formato de uma superfície a ser tratada.
[0042] O núcleo eletrotécnico também pode ser configurado rigida- mente em um formato especificado, que pode já ser, por exemplo, par- ticularmente adequada para um tratamento de plasma de um determi- nado segmento corporal ou de uma determinada superfície técnica.
[0043] A título de exemplo, o formato básico do núcleo eletrotécnico pode ser angular, redondo ou qualquer formato poligonal.
[0044] Em uma modalidade, o núcleo eletrotécnico compreende um aparelho de encaixe, em que o primeiro e o segundo contato da primeira e segunda estruturas de eletrodo, respectivamente, formam, adequada- mente uma primeira e segunda pistas condutoras do aparelho de en- caixe. As pistas condutoras preferencialmente se projetam cada uma no mesmo lado longitudinal do núcleo eletrotécnico do lado longitudinal da respectiva estrutura de eletrodo correspondente. Além disso, o aparelho de encaixe compreende, de preferência, uma aba, que é conectada ade- quadamente à segunda camada isolante. De preferência, a primeira e a segunda pistas condutoras são isoladas galvanicamente uma da outra pela aba.
[0045] Em uma modalidade, o núcleo eletrotécnico compreende, além disso, uma estrutura espaçadora que é disposta adjacente à pri- meira camada isolante no lado do núcleo eletrotécnico voltado para a superfície a ser tratada de modo que a estrutura espaçadora fique situ- ada entre uma superfície a ser tratada e a primeira camada isolante du- rante um tratamento de plasma.
[0046] A estrutura espaçadora pode ser formada por um material biocompatível. A título de exemplo, a estrutura espaçadora pode ter um formato de favo de mel ou um formato de X, O, Z, M, E ou W.
[0047] Um contato ou uma estrutura de eletrodo do núcleo eletro- técnico também pode ter pelo menos um recurso que muda de uma tal forma, como consequência de um primeiro uso, que não seja mais pos- sível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a segunda estrutura de eletrodo. Isso pode garantir o uso único do núcleo eletrotécnico. A título de exemplo, esse recurso poderia ser um afunilamento de uma seção de eletrodo de uma estrutura de eletrodo, que é destruída pouco antes do final do primeiro uso por um pulso de alta corrente a ser fornecido naquele ponto. O aspecto de uso único é discutido em mais detalhes abaixo.
[0048] Aspectos adicionais que podem contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, em cada caso por conta própria e independen- temente dos outros aspectos adicionais, são descritos abaixo.
[0049] Um aspecto adicional se refere a um recurso que muda de uma tal forma, como consequência do uso, que não é mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para um núcleo eletrotécnico. Este recurso pode ser realizado para diferentes aplicadores de plasma e, em particular, para diferentes núcleos eletro- técnicos ou aparelhos de encaixe de um aplicador de plasma, em com- binação com os aspectos restantes descritos no presente documento, ou então independentemente dos mesmos.
[0050] Esse aspecto, que por si só pode contribuir para um aplica- dor de plasma aprimorado, consiste em um contato ou uma estrutura de eletrodo ter pelo menos um recurso que mude de uma forma tal, como consequência do uso, que não seja mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para um núcleo eletrotécnico. Um recurso que muda de modo que, como uma consequência do uso, não seja mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para in- flamar um plasma para um núcleo eletrotécnico serve para garantir que uma aplicação de plasma seja usada apenas uma vez.
[0051] Esse aspecto pode, de preferência, ser realizado em um nú- cleo eletrotécnico do tipo descrito aqui, em particular em um núcleo ele- trotécnico de acordo com o primeiro aspecto, mas também pode ser re- alizado em outros aplicadores de plasma. Em particular, outro aplicador de plasma poderia compreender um núcleo eletrotécnico com apenas uma segunda estrutura de eletrodo e uma segunda camada isolante de modo que um contraeletrodo seja realizado durante a aplicação por uma superfície a ser tratada. Outro aplicador de plasma também poderia compreender um núcleo eletrotécnico com uma primeira camada iso- lante, uma primeira estrutura de eletrodo, uma segunda camada isolante e uma segunda estrutura de eletrodo. O recurso que garante o uso único em um núcleo eletrotécnico é preferencialmente realizado como uma parte constituinte de uma estrutura de eletrodo à qual um sinal de tensão é aplicado durante a operação.
[0052] Em uma variante de modalidade desse aspecto, o recurso é formado por um afunilamento de um contato ou de uma seção de ele- trodo de uma estrutura de eletrodo, que é destruída pouco antes do final da primeira utilização por um pulso de alta corrente a ser fornecido na- quele ponto.
[0053] Como uma alternativa ou ainda, pode ser prevista, por exem- plo, uma memória, por exemplo, na forma de um chip de memória, cujo conteúdo é alterado na primeira utilização e lido antes de cada aplica- ção.
[0054] Um aplicador de plasma com um recurso que garante o uso único também pode compreender um núcleo eletrotécnico que é for- mado por uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame.
[0055] Opcionalmente, um aplicador de plasma com um recurso que garante o uso único pode compreender um invólucro e/ou uma es- trutura de distância e/ou uma porta de acesso para fornecer e remover um meio fluido para e de um espaço de gás, respectivamente. Opcio- nalmente, um aplicador de plasma que tem um recurso que garante o uso único também pode compreender uma unidade de fonte de alimen- tação integrada.
[0056] Um aplicador de plasma que tem pelo menos um recurso que serve para garantir que o aplicador de plasma seja capaz de ser usado apenas uma vez também pode compreender pelo menos um sensor que é configurado, durante a operação, para capturar e emitir variáveis de medição relevantes para um tratamento de plasma e/ou cicatrização de ferida, em particular variáveis de medição fisiológica e/ou física de um segmento de corpo coberto pelo aplicador de plasma durante o uso.
[0057] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com os mesmos, se refere a um invólucro com uma bolsa, na qual um núcleo eletrotécnico pode ser disposto de forma removível. Um invólucro com uma bolsa pode ser realizado como parte constituinte de diferentes apli- cadores de plasma e também pode ser combinado, entre outras coisas, com o aspecto relacionado ao uso único.
[0058] De acordo com esse aspecto, o objetivo é alcançado por um aplicador de plasma com núcleo eletrotécnico e um invólucro com uma bolsa. A bolsa é preferencialmente configurada de uma forma tal que um núcleo eletrotécnico possa ser inserido na dita bolsa e então ser pelo menos parcialmente envolvido pelo invólucro. Um núcleo eletrotécnico que pode ser inserido no bolsa é preferencialmente configurado de acordo com pelo menos uma das modalidades descritas do primeiro as- pecto. No entanto, um núcleo eletrotécnico que pode ser inserido na bolsa também pode ser um núcleo eletrotécnico com um desenho que se desvia daquele do primeiro aspecto. A título de exemplo, esse núcleo eletrotécnico pode ser um núcleo eletrotécnico que compreende apenas uma segunda estrutura de eletrodo e uma segunda camada isolante.
Também é concebível que um núcleo eletrotécnico que pode ser inse- rido em uma bolsa compreenda apenas uma primeira camada isolante, uma primeira estrutura de eletrodo, uma segunda camada isolante e uma segunda estrutura de eletrodo.
Um aplicador de plasma que com- preende um invólucro com uma bolsa também pode compreender um núcleo eletrotécnico que é formado por uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame e que é inserido na bolsa.
Opcionalmente, um aplicador de plasma que compreende um invólucro com uma bolsa pode compreender uma estrutura espaçadora e/ou uma porta de acesso para um meio fluido.
Opcionalmente, um aplicador de plasma que compre- ende um invólucro com uma bolsa também pode compreender uma uni- dade de fonte de alimentação integrada.
Um aplicador de plasma que compreende um invólucro com uma bolsa também pode compreender um contato ou uma estrutura de eletrodo com pelo menos um recurso que muda de uma forma tal, como consequência do uso, que não é mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a segunda estrutura de eletrodo.
O invólucro é preferenci- almente formado por um material biocompatível.
Particularmente, se o próprio núcleo eletrotécnico garantir proteção de contato, tal como o nú- cleo eletrotécnico de acordo com o primeiro aspecto, o invólucro pode ter uma configuração de camada única e não fornecer proteção de con- tato.
O invólucro pode compreender silicone e/ou lacas e/ou um reves- timento de parileno.
O invólucro também pode ter uma região ocupada por ganchos, em que o aplicador de plasma pode ser preso a um têxtil, por exemplo, uma atadura.
O aplicador de plasma também pode com- preender uma camada separada que compreende uma camada de ade- são de um lado e que é ocupada por ganchos no outro lado.
Com o lado no qual a camada de adesão está situada, esta camada pode ser fixada ao aplicador de plasma e o aplicador de plasma pode então ser fixado à camada em um têxtil com o lado ocupado por ganchos. Em princípio, essa camada dentro de uma camada adesiva em um lado e com um outro lado ocupado com um gancho também é adequada para uso com qualquer outro dos aplicadores de plasma descritos aqui, que deve ser fixado de forma removível a um têxtil.
[0059] Um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico e um invólucro com uma bolsa também pode compreender pelo menos um sensor que é configurado, durante a operação, para capturar e emitir variáveis de medição relevantes para um tratamento de plasma e/ou cicatrização de feridas, em particular variáveis de medição fisiológica e/ou física de um segmento de corpo coberto pelo aplicador de plasma durante o uso.
[0060] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, tanto por si só quanto independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combina- ção com um ou mais desses aspectos, se refere a um aplicador de plasma disposto em um saco. O aplicador de plasma pode ser realizado em várias variações e também pode, por exemplo, compreender um in- vólucro com uma bolsa e/ou um recurso que garante o uso único. Além disso, ou como uma alternativa a isso, o aplicador de plasma também pode compreender um núcleo eletrotécnico de acordo com o primeiro aspecto.
[0061] Assim, este aspecto se refere a um aplicador de plasma que compreende um núcleo eletrotécnico e um invólucro e que é fixado a um saco fornecido para envolver um determinado segmento de corpo, por exemplo um pé, e assim formar um espaço de gás vedado. O saco pode ser formado por uma película fina. Para um tratamento de plasma, um pé a ser tratado pode ser colocado no saco. Em seguida, o saco pode ser fixado, por exemplo, acima do tornozelo, por exemplo, por meio de uma faixa de borracha ou uma tira, a fim de formar um espaço de gás vedado. O saco pode ter pelo menos um orifício, que preferenci- almente tem um diâmetro entre 1 cm e 8 cm. O aplicador de plasma é disposto de uma maneira tal que cubra o orifício. O aplicador de plasma é disposto, de preferência, sobre o orifício de uma maneira tal que o núcleo eletrotécnico fique contíguo ao orifício. No lado voltado para o orifício, o aplicador de plasma pode ser fixado na borda externa do apli- cador de plasma ao saco de uma maneira que circunda o pelo menos um orifício. Durante o uso, um plasma inflamado pode entrar no saco através do orifício e pode interagir com a superfície a ser tratada. Con- sequentemente, isso facilita um tratamento de área grande, por exem- plo, de um pé ou pelo menos um lado inferior do pé.
[0062] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por conta própria e independentemente dos as- pectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com aspectos individuais ou uma pluralidade desses aspectos, se refere a uma porta de acesso. Uma porta de acesso pode ser realizada como parte constituinte de vários aplicadores de plasma. A título de exemplo, um aplicador de plasma que compreende uma porta de acesso de acordo com este aspecto poderia compreender um núcleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto e/ou um invólucro com uma bolsa e/ou um recurso para garantir o uso único.
[0063] Assim, de acordo com este aspecto, um aplicador de plasma compreende uma porta de acesso, em que a porta de acesso é disposta e incorporada de uma forma tal que, antes, durante e/ou após o trata- mento de plasma, um meio fluido possa ser fornecido ou removido de um espaço de gás vedado formado pelo invólucro entre um núcleo ele- trotécnico e uma superfície a ser tratada. Um meio fluido é um meio gasoso e/ou líquido e/ou um meio líquido com constituintes sólidos adi- cionados na forma de, por exemplo, micropartículas solúveis e/ou inso-
lúveis. Um aplicador de plasma com uma porta de acesso pode ter de- senhos diferentes e, em particular, ser realizado com vários núcleos ele- trotécnicos. Um núcleo eletrotécnico desse aplicador de plasma com uma porta de acesso tem, de preferência, uma configuração flexível e pode ser realizado com formatos básicos diferentes, por exemplo, em forma redonda ou quadrilateral. Uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma com uma porta de acesso pode ter uma geometria específica. Se o núcleo eletrotécnico compreender pelo menos duas estruturas de eletrodo com uma geometria específica, as seções de eletrodo das duas estruturas de eletrodo podem ser dis- postas, por exemplo, com uma sobreposição definida em relação uma à outra. Em particular, um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma com uma porta de acesso pode compreender apenas uma se- gunda estrutura de eletrodo e uma segunda camada isolante ou apenas uma primeira camada isolante, uma primeira estrutura de eletrodo, uma segunda camada isolante e uma segunda estrutura de eletrodo, ou pode ser configurado de acordo com o primeiro aspecto descrito acima. Um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma com uma porta de acesso também pode ser formado por uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame. A título de exemplo, um núcleo eletrotécnico adequado pode ser produzido em virtude de um portador de eletrodo, que representa uma camada isolante, que é impressa respectivamente com uma estrutura de eletrodo em um ou ambos os lados. Isso pode ser feito com o uso de um método de impressão em tela rotativa. Além disso, uma porta de acesso pode compreender uma válvula e/ou um encaixe ou uma rosca correspondente para um encaixe.
[0064] Um aplicador de plasma com uma porta de acesso também pode compreender um contato ou uma estrutura de eletrodo com pelo menos um recurso que muda de uma forma tal, como consequência do uso, que não é mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a segunda estrutura de eletrodo.
[0065] De preferência, o invólucro de um aplicador de plasma com uma porta de acesso pode envolver pelo menos parcialmente o núcleo eletrotécnico. Um aplicador de plasma com uma porta de acesso tam- bém pode compreender um invólucro com uma bolsa, na qual um núcleo eletrotécnico pode ser inserido. De preferência, um invólucro de um apli- cador de plasma com uma porta de acesso é formado por um material biocompatível. A título de exemplo, um invólucro pode compreender si- licone, lacas, têxteis e/ou um revestimento de parileno. O invólucro tam- bém pode compreender um filme VAC. Se o próprio núcleo eletrotécnico já tiver uma configuração que é segura ao toque, o invólucro pode ter uma configuração de camada única e pode ser projetado de uma forma tal que o último não precise garantir proteção de contato. O invólucro também pode compreender uma porta de acesso, por meio da qual um meio fluido pode ser descarregado do espaço de gás vedado. Um apli- cador de plasma com uma porta de acesso também pode compreender uma unidade de fonte de alimentação integrada. Um aplicador de plasma com uma porta de acesso também pode compreender uma es- trutura espaçadora. A estrutura espaçadora é preferencialmente for- mada por um material biocompatível. A título de exemplo, a estrutura espaçadora pode ser formada por uma espuma VAC. Um aplicador de plasma com uma porta de acesso também pode compreender uma ca- mada de adesão, que é preferencialmente disposta como uma última camada no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada e que é incorporada para fixar o aplicador de plasma a uma superfície a ser tratada. Um aplicador de plasma com uma porta de acesso também pode compreender um aparelho de encaixe que pode ser conectado com segurança ao núcleo eletrotécnico. O aparelho de encaixe preferencialmente tem uma configuração em formato de aba.
Um aplicador de plasma com uma porta de acesso também pode com- preender pelo menos um sensor que é configurado para capturar e emi- tir variáveis de medição durante o uso, em que as ditas variáveis de medição são relevantes para um tratamento de plasma e/ou para a ci- catrização de feridas, em particular variáveis de medição fisiológica e/ou física de um segmento de corpo coberto pelo aplicador de plasma du- rante o uso.
[0066] Um aplicador de plasma com uma porta de acesso também pode ser configurado para permanecer em uma superfície a ser tratada durante um período de tempo relativamente longo para fins de trata- mento, em particular durante o período de tempo necessário para a ci- catrização de feridas. Esse aplicador de plasma com uma porta de acesso pode ser configurado para selar uma superfície a ser tratada. No caso desse aplicador de plasma, fornecido para vedação, com uma porta de acesso, a camada de adesão é preferencialmente formada por um silicone ou um adesivo PU e o invólucro é formado por um material impermeável ao ar. Em particular, a camada de adesão pode compre- ender um adesivo que perde suas propriedades adesivas por meio da exposição à luz ultravioleta ou por contato com álcool.
[0067] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com as- pectos individuais ou uma pluralidade desses aspectos, se refere a uma unidade de fonte de alimentação integrada. Uma unidade de fonte de alimentação de acordo com esse aspecto pode ser integrada em vários aplicadores de plasma. A título de exemplo, a unidade de fonte de ali- mentação pode ser integrada em um aplicador de plasma que compre- ende uma porta de acesso e/ou um núcleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto e/ou um invólucro com uma bolsa e/ou um recurso para garantir o uso único.
[0068] Este aspecto pode ser realizado por um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada, em que a última compreende um armazenamento de energia que é conectado eletrica- mente a um núcleo eletrotécnico do aplicador de plasma e configurado para transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma em uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico durante a opera- ção.
A título de exemplo, o armazenamento de energia pode ser um acumulador, uma bateria ou um capacitor.
Uma unidade de fonte de ali- mentação desse tipo, integrada no aplicador de plasma, pode ser im- plantada em combinação com vários tipos de aplicadores de plasma.
Em particular, um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma desse aspecto pode compreender apenas uma segunda estrutura de eletrodo e uma segunda camada isolante ou apenas uma primeira camada iso- lante, uma primeira estrutura de eletrodo, uma segunda camada isolante e uma segunda estrutura de eletrodo, ou pode ser configurado de acordo com o primeiro aspecto descrito acima.
Um núcleo eletrotécnico adequado pode ser produzido com o uso de um método de impressão de tela rotativa, em que uma estrutura de eletrodo respectiva é impressa em um ou ambos os lados de um portador de eletrodo.
A camada iso- lante entre as duas estruturas de eletrodo é então realizada pelo porta- dor de eletrodo.
Um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada também pode ser formado por uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame.
Uma camada isolante disposta no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada é preferencialmente formada por um material biocompatível.
De preferência, o núcleo eletrotécnico do apli- cador de plasma com a unidade de fonte de alimentação integrada tem uma configuração flexível, de modo que o aplicador de plasma possa ser adaptado em termos de seu formato ao formato de uma superfície a ser tratada.
O núcleo eletrotécnico do aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada pode compreender pelo me- nos uma estrutura de eletrodo com uma geometria específica. Se uma pluralidade de estruturas de eletrodo do núcleo eletrotécnico tiver uma geometria específica, estas podem ser dispostas em relação umas às outras de uma forma tal que as seções de eletrodo das respectivas es- truturas de eletrodo tenham uma sobreposição definida umas com as outras.
[0069] Um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de ali- mentação integrada também pode compreender um contato ou uma es- trutura de eletrodo com pelo menos um recurso que muda de uma forma tal, como consequência do uso, que não é mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a segunda es- trutura de eletrodo. Um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada também pode compreender um invólucro com uma bolsa, na qual um núcleo eletrotécnico pode ser inserido.
[0070] De preferência, um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada tem um invólucro que, pelo menos parcialmente, ou mesmo completamente, envolve o núcleo eletrotéc- nico. Em particular, um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada, em que o núcleo eletrotécnico é completa- mente envolvido por um invólucro, é adequado para ser implantado em um corpo humano ou animal para um tratamento de plasma. Um invó- lucro de um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimen- tação integrada é preferencialmente formado por um material biocom- patível. Um invólucro de um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada pode compreender silicone, lacas, têx- teis e/ou um revestimento de parileno. Se o próprio núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada tiver uma configuração que é segura ao toque, o invólucro pode ter uma configuração de camada única e não precisa garantir ele próprio proteção de contato. Um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada também pode compreender uma es- trutura espaçadora, que é preferencialmente formada de um material biocompatível e destinada a criar uma distância definida entre o aplica- dor de plasma e uma superfície a ser tratada, distância na qual um plasma pode inflamar.
[0071] Um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de ali- mentação integrada também pode compreender uma porta de acesso através da qual um meio fluido pode ser fornecido ou removido de um espaço de gás vedado que é formado antes, durante ou após um trata- mento de plasma.
[0072] Um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de ali- mentação integrada pode compreender um circuito elétrico que é prefe- rencialmente conectado entre a unidade de fonte de alimentação inte- grada e o núcleo eletrotécnico e que, durante a operação, é configurado para converter um sinal de tensão fornecido pela unidade de fonte de alimentação em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma e transmitir o sinal de tensão convertido para o núcleo eletrotécnico. O circuito elétrico é então integrado no aplicador de plasma como um com- ponente do dito aplicador de plasma. O circuito elétrico também poderia ser realizado como uma parte constituinte da unidade de fonte de ali- mentação, de modo que a unidade de fonte de alimentação seja confi- gurada para fornecer durante a operação um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma. A unidade de fonte de alimentação integrada também pode compreender arranjos de bobina receptora eletricamente conectada ao armazenamento de energia e pode ser configurada de uma forma tal que o armazenamento de energia possa ser carregado em virtude da energia elétrica que é transferida indutivamente de um arranjo de bobina transmissora para o arranjo de bobina receptora no aplicador de plasma por meio do dito arranjo de bobina transmissora.
Uma unidade de fonte de alimentação com arranjos de bobina receptora é particularmente adequada para um aplicador de plasma que se des- tina a ser implantado. Particularmente, se um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada não se destina a ser implantado em um corpo, o dito aplicador de plasma pode compreender um aparelho de encaixe que é conectado de forma eletricamente con- dutiva à unidade de fonte de alimentação integrada e destinado a ser conectado a uma unidade de fonte de alimentação externa a fim de car- regar o armazenamento de energia da unidade de fonte de alimentação integrada.
[0073] Um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de ali- mentação integrada também pode compreender pelo menos um sensor que é configurado para capturar e emitir variáveis de medição durante o uso, em que as ditas variáveis de medição são relevantes para um tratamento de plasma e/ou para a cicatrização de feridas, em particular variáveis de medição fisiológica e/ou física de um segmento de corpo coberto pelo aplicador de plasma durante o uso. Particularmente, se um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação inte- grada se destina a ser implantado em um corpo humano ou animal, pode ser vantajoso que o dito aplicador de plasma compreenda pelo menos um sensor. Então, o aplicador de plasma pode permanecer im- plantado no corpo por um período de tempo relativamente longo, que inclui o tempo para a cicatrização de uma ferida, em particular, mas tam- bém pode incluir meses ou mesmo anos. Durante esse período de tempo, o pelo menos um sensor do aplicador de plasma pode capturar e emitir variáveis de medição relevantes para um tratamento de plasma e/ou para a cicatrização de feridas. O estado de uma ferida e/ou o pro- gresso da cicatrização da ferida pode então ser avaliado com base nes- sas variáveis de medição de saída. Particularmente, se um aplicador de plasma se destina a ser implantado, é preferível que as variáveis de medição capturadas por um sensor possam ser transferidas e/ou lidas sem fio. A título de exemplo, o aplicador de plasma pode compreender um transponder RFID, que pode acessar dados que representam as va- riáveis de medição capturadas armazenadas em um chip de memória e pode transferir esses dados para um leitor se uma solicitação corres- pondente for feita ao transponder por um leitor.
[0074] Mesmo se o aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada não se destinar a ser implantado, mas a ser aplicado ou fixado do lado de fora a uma superfície a ser tratada durante o uso, pode ser vantajoso que o dito aplicador de plasma permaneça após um tratamento de plasma em uma ferida ser tratada por um perí- odo de tempo relativamente longo, em particular pelo tempo que a ferida leva para cicatrizar, por exemplo, até mesmo durante semanas ou me- ses. De preferência, o aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação integrada é configurado de uma forma tal que uma su- perfície a ser tratada possa ser vedada com o aplicador de plasma. No caso desse aplicador de plasma, fornecido para vedação, com uma uni- dade de fonte de alimentação integrada, a camada de adesão é prefe- rencialmente formada por um silicone ou um adesivo PU e o invólucro é formado por um material impermeável ao ar. Em particular, a camada de adesão pode compreender um adesivo que perde suas propriedades adesivas por meio da exposição à luz ultravioleta ou por contato com álcool. Se um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de ali- mentação integrada destinada à vedação compreende pelo menos um sensor, esse sensor pode emitir e capturar variáveis de medição durante a aplicação, em que as ditas variáveis de medição são relevantes para um tratamento de plasma e/ou para a cicatrização de feridas, quando uma superfície a ser tratada é vedada pelo aplicador de plasma.
[0075] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com os mesmos, se refere a uma unidade de fonte de alimentação móvel autô- noma. A fonte de alimentação de acordo com esse aspecto pode ser usada para fornecer um sinal de tensão para diferentes aplicadores de plasma. A título de exemplo, esses diferentes aplicadores de plasma podem compreender uma unidade de fonte de alimentação integrada e/ou uma porta de acesso e/ou um núcleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto e/ou um invólucro com uma bolsa e/ou um recurso para garantir o uso único.
[0076] De acordo com esse aspecto, o objetivo estabelecido no iní- cio é alcançado por uma unidade de fonte de alimentação móvel autô- noma com um aparelho de inserção e um armazenamento de energia, para conexão a um aparelho de encaixe de um aplicador de plasma e para fornecer um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para um aparelho de encaixe encaixado com o aparelho de inserção. A unidade de fonte de alimentação compreende, de preferência, um cir- cuito elétrico que é configurado para converter uma tensão fornecida pelo armazenamento de energia em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma e transmitir o dito sinal de tensão para o aparelho de inserção. Essa unidade de fonte de alimentação é preferencialmente configurada como uma unidade autônoma de apenas alguns centíme- tros cúbicos, que deve ser conectada mecânica e eletricamente a um aplicador de plasma e que pode ser fixada a, por exemplo, um paciente juntamente com o aplicador de plasma. Em contraste com a unidade de fonte de alimentação integrada em um aplicador de plasma, a unidade de fonte de alimentação móvel autônoma, de acordo com este aspecto, é conectada de forma substituível ao aplicador de plasma. Um aparelho de inserção de acordo com esse aspecto pode ser implantado em com- binação com vários aplicadores de plasma e, por exemplo, pode ser co-
nectado a um aplicador de plasma que compreende um núcleo eletro- técnico com apenas uma segunda estrutura de eletrodo e uma segunda camada isolante ou apenas com uma primeira camada isolante, uma primeira estrutura de eletrodo, uma segunda camada isolante e uma se- gunda estrutura de eletrodo ou que é configurada de acordo com o pri- meiro aspecto descrito acima. Um aparelho de inserção de acordo com esse aspecto pode ser conectado a um aplicador de plasma que com- preende um núcleo eletrotécnico que é formado por uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame. Um aparelho de inserção de acordo com este aspecto pode ser conectado a um aplicador de plasma que tem pelo menos um recurso que muda de uma maneira tal, como consequência do uso, que não é mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para o aplicador de plasma. Um aparelho de inserção de acordo com esse aspecto também pode compreender um tubo que pode ser conectado a, ou encaixado com uma porta de acesso de um aparelho de encaixe ou de um aplicador de plasma.
[0077] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com um ou mais desses aspectos, se refere a um núcleo eletrotécnico que com- preende pelo menos um fio condutor elétrico isolado. O núcleo eletro- técnico de acordo com esse aspecto pode ser implantado como uma parte constituinte de vários aplicadores de plasma. A título de exemplo, o mesmo pode ser implantado em aplicadores de plasma que compre- endem uma unidade de fonte de alimentação integrada e/ou uma porta de acesso e/ou um invólucro com uma bolsa e/ou um recurso para ga- rantir o uso único.
[0078] Assim, esse aspecto se refere a um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico isolado, que é acio- nado por um sinal de tensão durante a operação, com um contraeletrodo que, nesse caso, é realizado, de preferência, por um fio condutor elétrico isolado adicional ou por uma superfície a ser tratada.
De preferência, é fornecido um invólucro a fim de envolver o pelo menos um fio condutor elétrico isolado em uma superfície a ser tratada, de uma forma tal que um espaço de gás vedado na melhor extensão possível seja formado, dentro do qual um plasma pode inflamar durante o tratamento com plasma.
Um invólucro também pode compreender uma bolsa, na qual o núcleo eletrotécnico formado pelo fio eletricamente condutor pode ser inserido.
A título de exemplo, esse núcleo eletrotécnico pode ser uma malha de arame, um pano de arame ou uma rede de arame, que é for- mada por um ou mais fios condutores elétricos isolados.
Em particular, uma estrutura de eletrodo, que é acionada durante a aplicação e for- mada por um ou mais fios condutores elétricos isolados, e uma estrutura de eletrodo adicional, que é igualmente formada por um ou mais fios condutores elétricos isolados e que realiza um contraeletrodo durante a operação, podem juntas formar uma malha de arame, um pano de arame ou uma rede de arame em virtude dos fios isolados correspon- dentes das duas estruturas de eletrodo serem entrelaçados, por exem- plo.
Também é concebível que um fio eletricamente condutor que forma a estrutura de eletrodo acionada durante o uso e um fio adicional que realiza um contraeletrodo durante a operação sejam dispostos juntos em um revestimento de cabo, mas sejam isolados galvanicamente um do outro.
Também é concebível que um fio condutor elétrico isolado sim- ples forme uma estrutura de eletrodo simples sem que o fio seja dis- posto em uma estrutura comparativamente complicada, como um pano ou uma malha.
Durante o uso, um contraeletrodo é então preferencial- mente realizado por uma superfície a ser tratada.
Um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico na forma de um fio isolado também pode ser fornecido com um aparelho de encaixe do tipo aqui descrito. Esse aparelho de encaixe também pode ter um recurso que garante o uso único do aplicador de plasma. Um condutor elétrico também pode ser conectado a uma unidade de fonte de alimentação móvel que, du- rante a operação, transmite um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para o fio condutor elétrico isolado através de comutação de um contato de comutação. Um aplicador de plasma com um núcleo ele- trotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico isolado também pode compreender pelo menos um sensor que é configurado, durante a operação, para capturar e emitir variáveis de medição rele- vantes para um tratamento de plasma e/ou cicatrização de feridas, em particular variáveis de medição fisiológica e/ou física de um segmento de corpo coberto pelo aplicador de plasma durante o uso.
[0079] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com um ou mais desses aspectos, se refere a um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico, um invólucro, uma estrutura espaçadora, uma ca- mada de adesão e um aparelho de encaixe. O aplicador de plasma de acordo com esse aspecto também pode compreender uma unidade de fonte de alimentação integrada e/ou uma porta de acesso e/ou um invó- lucro com uma bolsa e/ou um recurso para garantir o uso único e/ou um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elé- trico isolado ou um núcleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto. Para inflamar um plasma, o aplicador de plasma de acordo com esse aspecto também pode ser conectado a uma unidade de fonte de alimentação móvel.
[0080] De acordo com esse aspecto, um aplicador de plasma com- preende um núcleo eletrotécnico, um invólucro, uma estrutura espaça-
dora, uma camada de adesão e um aparelho de encaixe.
O núcleo ele- trotécnico preferencialmente tem uma configuração flexível.
O núcleo eletrotécnico pode ser realizado com os diferentes formatos básicas, por exemplo, um formato básico redondo ou poligonal e, em particular, um formato básico quadrilateral.
De preferência, o núcleo eletrotécnico é um núcleo eletrotécnico de acordo com o primeiro aspecto; ou seja, o mesmo tem uma modalidade com seis camadas e é seguro ao toque durante a operação.
No entanto, o aplicador de plasma de acordo com esse aspecto também pode ser implantado com vários núcleos eletro- técnicos diferentes.
Pelo menos uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico pode ter uma geometria específica.
Se pelo menos duas estruturas de eletrodo do núcleo eletrotécnico têm uma geometria espe- cífica, as seções de eletrodo dessas estruturas de eletrodo são prefe- rencialmente dispostas com uma sobreposição definida uma em relação à outra.
Se o núcleo eletrotécnico compreender uma pluralidade de es- truturas de eletrodo, uma camada isolante é preferencialmente disposta entre duas das estruturas de eletrodo em cada caso, a fim de isolar gal- vanicamente as estruturas de eletrodo correspondentes uma da outra.
De preferência, pelo menos uma camada isolante adicional é disposta no lado do aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada e é preferencialmente formada por um material biocompatível.
De prefe- rência, o invólucro envolve pelo menos parcialmente o núcleo eletrotéc- nico.
Esse invólucro pode ser realizado de forma que, durante a opera- ção, o mesmo forme um espaço de gás vedado entre o núcleo eletro- técnico e uma superfície a ser tratada.
De preferência, o invólucro é for- mado por um material biocompatível.
Particularmente, se o próprio nú- cleo eletrotécnico já tiver uma configuração que é segura ao toque, o invólucro pode ter uma configuração de camada única e não precisa ele próprio garantir a proteção de contato.
A título de exemplo, o invólucro pode compreender silicone, lacas ou um revestimento de parileno.
A estrutura espaçadora é preferencialmente formada por um material bio- compatível.
A estrutura espaçadora é preferencialmente disposta no lado do aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada e adjacente à estrutura de eletrodo do aplicador de plasma voltada para a superfície a ser tratada e é configurada para criar entre um núcleo ele- trotécnico e uma superfície a ser tratada uma distância definida e, por- tanto, um volume de gás definido, no qual um plasma gerado pode ser distribuído.
A título de exemplo, a estrutura espaçadora pode ter um for- mato de favo de mel ou um formato de X, O, Z, M, E ou W.
A camada de adesão é configurada para fixar o aplicador de plasma em uma su- perfície a ser tratada e é preferencialmente disposta como uma última camada no lado do aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada.
A título de exemplo, a camada de adesão pode ser disposta ao longo do perímetro do aplicador de plasma como uma estrutura no lado do aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada.
No en- tanto, a camada de adesão pode ser disposta sobre toda a área do lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada.
O aparelho de encaixe é preferencialmente conectado com segurança a um núcleo eletrotécnico e configurado para transmitir um sinal de tensão para uma estrutura de eletrodo acionado do núcleo eletrotécnico du- rante a operação.
Esses aparelhos de encaixe são descritos em deta- lhes abaixo.
O aparelho de encaixe preferencialmente tem uma configu- ração em formato de aba.
Um aparelho de encaixe em formato de aba pode ser formado em virtude das estruturas do eletrodo e das camadas isolantes do núcleo eletrotécnico que são estendidas para essa aba.
O tamanho do aparelho de encaixe é preferencialmente dimensionado de uma maneira tal que, dependendo do comprimento das distâncias de fuga de corrente, nenhuma descarga parcial surja dentro de um apare- lho de encaixe encaixado e um aparelho de inserção durante a opera- ção.
[0081] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, tanto por si só quanto independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combina- ção com aspectos individuais ou uma pluralidade desses aspectos, se refere a uma camada de adesão para um aplicador de plasma, configu- rada para cumprir simultaneamente a função de uma estrutura espaça- dora. Em particular, a camada de adesão de acordo com esse aspecto representa um produto dedicado e pode ser usada como um módulo junto com aplicadores de plasma configurados de formas diferentes. A título de exemplo, tais aplicadores de plasma podem compreender uma unidade de fonte de alimentação integrada e/ou uma porta de acesso e/ou um invólucro com uma bolsa e/ou um recurso para garantir o uso único e/ou um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico isolado ou um núcleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto.
[0082] Esse aspecto se refere a uma camada de adesão para um aplicador de plasma, configurada para cumprir simultaneamente a fun- ção de uma estrutura espaçadora. Uma camada de adesão de acordo com esse aspecto é configurada de modo que, durante a operação, possa ser usada para fixar um aplicador de plasma em uma superfície a ser tratada e, então, permitir que uma distância definida seja estabe- lecida entre um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma e uma superfície a ser tratada de modo que um plasma que surge possa ser distribuído sobre a superfície a ser tratada. A título de exemplo, essa camada de adesão pode ser formada por um adesivo, em particular um adesivo de silicone ou poliuretano (PU). A título de exemplo, um adesivo que forma a camada de adesão pode ter uma geometria específica, por exemplo, um padrão de favo de mel ou um formato de X, O, Z, M, E ou W e pode ser aplicado no lado de um aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada. Para um tratamento de plasma, o aplicador de plasma com uma camada de adesão aplicada é colocado em uma superfície a ser tratada e fixado nesta última por meio da camada de adesão. Quando em contato com a superfície a ser tratada, o adesivo que forma a camada de adesão adere com uma geometria específica à superfície a ser tratada de modo que um volume de gás definido é criado em cada região sem adesivo, na qual o plasma gerado pode ser distri- buído. Alternativamente, a camada de adesão pode ser aplicada na su- perfície a ser tratada, de preferência em torno da ferida a ser tratada, para os fins do tratamento de plasma e o lado voltado para a ferida do aplicador de plasma pode, subsequentemente, ser fixado ao lado dis- tante da ferida da camada de adesão fixada à superfície a ser tratada de modo que um volume de gás definido seja criado em cada região sem adesivo, na qual um plasma gerado pode ser distribuído.
[0083] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com pelo menos um desses aspectos, se refere a um invólucro com fendas de inserção, no qual uma unidade de fonte de alimentação ou um aparelho de inserção pode ser inserido. Um invólucro de acordo com esse as- pecto pode ser realizado para vários aplicadores de plasma que, por exemplo, compreendem uma unidade de fonte de alimentação inte- grada e/ou uma porta de acesso e/ou um invólucro com uma bolsa e/ou um recurso para garantir o uso único e/ou um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico isolado ou um núcleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto. A unidade de fonte de alimentação que pode ser inserida nas fendas de inserção pode ser uma unidade de fonte de alimentação móvel autônoma, em particular. O aparelho de inserção que pode ser inserido nas fendas de inserção pode ser conectado, em particular, por meio de um cabo a uma unidade de fonte de alimentação que tende a ser usada de forma esta- cionária.
[0084] De acordo com esse aspecto, um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico compreende um invólucro com fendas de inser- ção. O núcleo eletrotécnico pode ser um núcleo eletrotécnico de acordo com qualquer uma das variantes de modalidade descritas no presente documento. O núcleo eletrotécnico preferencialmente tem uma configu- ração flexível. O núcleo eletrotécnico pode ser projetado com qualquer formato básico. No entanto, um formato básico quadrilátero ou redondo é preferencial. De preferência, o núcleo eletrotécnico é um núcleo ele- trotécnico de seis camadas que já tem ele próprio uma configuração que é segura ao toque, de acordo com o primeiro aspecto. Pelo menos uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico pode ter uma geometria específica. No entanto, o núcleo eletrotécnico também poderia ter qua- tro camadas e, consequentemente, não ser seguro ao toque. O núcleo eletrotécnico também poderia compreender uma pluralidade de estrutu- ras de eletrodo com uma geometria específica. Se um núcleo eletrotéc- nico compreender uma pluralidade de estruturas de eletrodo com geo- metrias específicas, as seções de eletrodo das respectivas estruturas de eletrodo podem ser dispostas com uma sobreposição definida uma em relação à outra. Se o núcleo eletrotécnico compreender uma plura- lidade de estruturas de eletrodo, pelo menos uma camada isolante é preferencialmente disposta entre duas estruturas de eletrodo adjacen- tes em cada caso, a fim de isolar galvanicamente as duas estruturas de eletrodo correspondentes uma da outra. A título de exemplo, um núcleo eletrotécnico adequado pode ser produzido com o uso de um método de impressão de tela rotativa em virtude de uma estrutura de eletrodo respectiva ser impressa em um ou ambos os lados de um portador de eletrodo. De preferência, o núcleo eletrotécnico compreende uma ca- mada isolante adicional, que é disposta no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada. Esta camada isolante adicio- nal é preferencialmente formada por um material biocompatível. O invó- lucro pode ser projetado de modo a envolver completamente o núcleo eletrotécnico. A título de exemplo, o invólucro pode compreender sili- cone, lacas ou um revestimento de parileno. De preferência, o invólucro compreende fendas de inserção que são dispostas no lado do aplicador de plasma voltado para longe da superfície a ser tratada e que são con- figuradas de uma forma tal que uma unidade de fonte de alimentação, complementar às fendas de inserção, ou um aparelho de inserção possa ser inserido nas fendas de inserção a fim de serem então conectadas aos contatos do núcleo eletrotécnico.
[0085] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com pelo menos um desses aspectos, se refere a um invólucro com propriedades de absorção. Além disso, o invólucro pode ter uma bolsa, na qual um núcleo eletrotécnico pode ser inserido, e/ou fendas de inserção, nas quais uma unidade de fonte de alimentação ou um aparelho de inserção pode ser inserido. Um invólucro de acordo com esse aspecto pode ser realizado para vários aplicadores de plasma que, por exemplo, compre- endem uma unidade de fonte de alimentação integrada e/ou uma porta de acesso e/ou um recurso para garantir o uso único e/ou um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico iso- lado ou um núcleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto.
[0086] De acordo com esse aspecto, um aplicador de plasma pode compreender um núcleo eletrotécnico, um invólucro com propriedades de absorção, uma camada de adesão, uma estrutura espaçadora e um aparelho de encaixe. De preferência, o núcleo eletrotécnico é configu-
rado de acordo com uma das variantes de um núcleo eletrotécnico des- crito no presente documento.
A título de exemplo, o núcleo eletrotécnico pode ser configurado de acordo com o núcleo eletrotécnico do primeiro aspecto e já pode ele próprio garantir a proteção de contato.
Um núcleo eletrotécnico adequado pode ser produzido com o uso de um método de impressão de tela rotativa, em que uma estrutura de eletrodo respec- tiva é impressa em um ou ambos os lados de um portador de eletrodo.
De preferência, o núcleo eletrotécnico tem uma configuração flexível.
O núcleo eletrotécnico pode ser implantado em vários formatos básicos.
O núcleo eletrotécnico pode ter um formato básico que é, por exemplo, redondo ou poligonal, de preferência quadrilateral.
Pelo menos uma es- trutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico pode ter uma geometria es- pecífica.
Se uma pluralidade de estruturas de eletrodo do núcleo eletro- técnico tiver uma geometria específica, essas estruturas de eletrodo, em particular, podem ser dispostas umas em relação às outras de uma forma tal que as seções de eletrodo das respectivas estruturas de ele- trodo tenham sobreposição definida umas com as outras.
Se o núcleo eletrotécnico compreender uma pluralidade de estruturas de eletrodo, as estruturas de eletrodo adjacentes são, de preferência, isoladas gal- vanicamente umas das outras por uma camada isolante.
De preferên- cia, uma camada isolante adicional é disposta no lado voltado para uma superfície a ser tratada e fica situada durante o uso entre uma superfície a ser tratada e aquela estrutura de eletrodo que tem a menor distância da superfície a ser tratada durante o uso.
Mesmo se o núcleo eletrotéc- nico compreender apenas uma estrutura de eletrodo, uma camada iso- lante é preferencialmente disposta adjacente a essa estrutura de ele- trodo no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada.
Uma camada isolante disposta no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada é preferencialmente formada por um material biocompatível.
[0087] O invólucro, de preferência, envolve completamente o núcleo eletrotécnico e tem propriedades de absorção pelo menos em uma parte. O invólucro também pode ter uma bolsa, na qual o núcleo eletro- técnico é disposto de forma removível. O invólucro com propriedades de absorção consiste preferencialmente em pelo menos uma camada de materiais para absorção de líquido e/ou remoção de líquido e/ou dis- tribuição de líquido, tais como, por exemplo, têxtil, gaze, espuma PU, camada distribuidora, camada de contato com a ferida, estrutura espa- çadora. A estrutura espaçadora é preferencialmente formada por um material biocompatível e pode ser realizada pelo próprio invólucro. De preferência, a estrutura espaçadora é formada por um material permeá- vel ao ar. A estrutura espaçadora também pode compreender gaze, ab- sorvente, têxteis, celulose ou espuma de PE. A camada de adesão é preferencialmente disposta, em toda a área, como uma última camada no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada e é configurada para fixar o aplicador de plasma a uma superfície a ser tratada. A camada de adesão também pode ter recortes maiores e/ou menores. O aparelho de encaixe pode ser conectado com segurança ao núcleo eletrotécnico e preferencialmente tem uma configuração em for- mato de aba. Um aparelho de encaixe em formato de aba pode ser re- alizado em virtude das estruturas de eletrodo e as camadas isolantes dos núcleos eletrotécnicos serem estendidas em formato de aba. O ta- manho do aparelho de encaixe é preferencialmente dimensionado de uma maneira tal que, dependendo do comprimento das distâncias de fuga de corrente, nenhuma descarga parcial surja dentro de um apare- lho de encaixe encaixado e um aparelho de inserção durante a opera- ção.
[0088] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com pelo menos um desses aspectos, se refere a um aplicador de plasma que se destina a permanecer em uma superfície a ser tratada por um período de tempo relativamente longo. O aplicador de plasma de acordo com esse aspecto também pode compreender uma unidade de fonte de ali- mentação integrada e/ou uma porta de acesso e/ou um recurso para garantir o uso único e/ou um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico isolado ou um núcleo eletrotécnico con- figurado de acordo com o primeiro aspecto e/ou um invólucro com pro- priedades absorventes e/ou com uma bolsa e/ou fendas de inserção.
[0089] Assim, este aspecto se refere a um aplicador de plasma des- tinado a permanecer em uma superfície a ser tratada por um período de tempo relativamente longo, que compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro, uma camada de adesão, uma estrutura espaçadora, um aparelho de encaixe e pelo menos um sensor. O aplicador de plasma pode ser realizado com vários núcleos eletrotécnicos. No entanto, o nú- cleo eletrotécnico é preferencialmente um núcleo eletrotécnico de acordo com o primeiro aspecto; ou seja, tem uma modalidade com seis camadas que é ela própria segura ao toque. De preferência, o núcleo eletrotécnico tem uma configuração flexível que a última pode ser adap- tada em termos de seu formato a um formato de uma superfície a ser tratada. A título de exemplo, o núcleo eletrotécnico pode ter um formato básico redondo, um formato básico quadrilateral ou qualquer outro for- mato básico poligonal. Pelo menos uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico pode ter uma geometria específica. Se uma pluralidade de estruturas de eletrodo do núcleo eletrotécnico tiver uma geometria es- pecífica, essas estruturas de eletrodo, em particular, podem ser dispos- tas umas em relação às outras de uma forma tal que as seções de ele- trodo das respectivas estruturas de eletrodo tenham uma sobreposição definida umas com as outras. Se o núcleo eletrotécnico compreender uma pluralidade de estruturas de eletrodo, as estruturas de eletrodo ad- jacentes são, de preferência, isoladas galvanicamente umas das outras por uma camada isolante. De preferência, uma camada isolante adicio- nal é disposta no lado voltado para uma superfície a ser tratada e fica situada durante o uso entre uma superfície a ser tratada e aquela estru- tura de eletrodo que é disposta na menor distância da superfície a ser tratada durante o uso. Mesmo se o núcleo eletrotécnico compreender apenas uma estrutura de eletrodo, uma camada isolante é preferencial- mente disposta adjacente a essa estrutura de eletrodo no lado do apli- cador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada. Uma ca- mada isolante disposta no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada é preferencialmente formada por um mate- rial biocompatível.
[0090] O invólucro envolve pelo menos parcialmente o núcleo ele- trotécnico. De preferência, o invólucro é formado por um material bio- compatível. A título de exemplo, o invólucro pode compreender silicone, lacas ou um revestimento de parileno. Particularmente, se o núcleo ele- trotécnico do próprio aplicador de plasma já tiver ele próprio uma confi- guração que é segura ao toque, o invólucro pode ter uma configuração de camada única e não precisa ele próprio garantir a proteção de con- tato. A estrutura espaçadora é preferencialmente disposta adjacente ao núcleo eletrotécnico no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada. A estrutura espaçadora é preferencialmente for- mada por um material biocompatível. A camada de adesão é preferen- cialmente disposta como última camada no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada. A título de exemplo, a camada de adesão pode ser guiada ao longo do perímetro do aplicador de plasma como uma estrutura no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada e pode, assim, formar uma borda adesiva.
[0091] O aparelho de encaixe pode ser conectado com segurança ao núcleo eletrotécnico. O aparelho de encaixe preferencialmente tem uma configuração em formato de aba em virtude das estruturas de ele- trodo e as camadas isolantes do núcleo eletrotécnico serem estendidas em um formato de aba. O pelo menos um sensor é preferencialmente configurado para capturar e emitir variáveis de medição durante o uso, em que as ditas variáveis de medição são relevantes para um trata- mento de plasma e/ou para a cicatrização de feridas, em particular vari- áveis de medição fisiológica e/ou física de um segmento de corpo co- berto pelo plasma aplicador durante o uso. Para tratar uma superfície durante um período de tempo relativamente longo, o que pode, em par- ticular, incluir o tempo que leva para uma ferida cicatrizar, o aplicador de plasma pode ser configurado de uma forma tal que uma superfície a ser tratada seja vedada pelo plasma aplicador durante o uso. Assim, a camada de adesão é preferencialmente formada por um adesivo de si- licone ou PU e o invólucro é formado por um material impermeável ao ar. Em particular, a camada de adesão pode ter um adesivo que perde suas propriedades adesivas quando exposto à luz ultravioleta ou quando entra em contato com álcool, de modo que o aplicador de plasma possa ser removido de uma superfície a ser tratada após um tratamento relativamente longo. Pela duração de um tratamento de longo prazo, as variáveis de medição emitidas pelo ao menos um sen- sor, por exemplo, dentro do escopo de telemonitoramento ou monitora- mento residencial, podem ser avaliadas e o progresso da cicatrização de feridas pode ser avaliado com base nisso.
[0092] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com pelo menos um desses aspectos, se refere a uma estrutura espaçadora, ela própria uma fonte de plasma, para um aplicador de plasma. Uma estru- tura espaçadora de acordo com esse aspecto representa um produto independente e pode ser usada como um módulo junto com aplicadores de plasma configurados de formas diferentes. A título de exemplo, tais aplicadores de plasma podem compreender uma unidade de fonte de alimentação integrada e/ou uma porta de acesso e/ou um recurso para garantir o uso único e/ou um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico isolado ou um núcleo eletrotécnico con- figurado de acordo com o primeiro aspecto e/ou um invólucro com pro- priedades absorventes e/ou com uma bolsa e/ou fendas de inserção.
[0093] Esse aspecto se refere a uma estrutura espaçadora, ela pró- pria uma fonte de plasma, para um aplicador de plasma. Assim, a estru- tura espaçadora cumpre tanto a função de uma estrutura espaçadora quanto a da fonte de plasma. Essa estrutura espaçadora tem pelo me- nos uma estrutura de eletrodo e é preferencialmente projetada com uma geometria específica. Em particular, a estrutura espaçadora pode ter uma série de cavidades ou passagens, que são projetadas de modo que um plasma gerado durante a aplicação possa interagir com uma super- fície a ser tratada. Se a estrutura espaçadora compreender apenas uma estrutura de eletrodo, um sinal de tensão é aplicado a esse último du- rante o uso para fins de inflamar um plasma. Então, o contraeletrodo é preferencialmente realizado pela própria superfície a ser tratada. A es- trutura espaçadora também pode ter uma estrutura de eletrodo, que é acionada durante o uso, e um contraeletrodo. A título de exemplo, a estrutura espaçadora pode ser formada por um cabo plano que é, ao mesmo tempo, uma fonte de plasma. O cabo plano também pode ser um cabo plano de dois núcleos. Um isolamento de um cabo plano pre- ferencialmente tem uma espessura de entre 5 µm e 100 µm, preferen- cialmente de menos de 100 µm, preferencialmente de entre 40 µm e 60 µm, preferencialmente de 50 µm.
[0094] Pelo menos as regiões da estrutura espaçadora que entram em contato com uma superfície a ser tratada durante o uso são prefe- rencialmente formadas por um material biocompatível.
[0095] A estrutura espaçadora pode ser conectada a um aparelho de encaixe. No caso de uma estrutura espaçadora com um aparelho de encaixe, pelo menos uma estrutura de eletrodo da estrutura espaça- dora, em particular, é conectada de forma eletricamente condutiva a uma pista condutora do aparelho de encaixe de modo que, quando o aparelho de encaixe é conectado a uma unidade de fonte de alimenta- ção, por exemplo, por meio de um cabo, um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma possa ser transmitido para a pelo menos uma estrutura de eletrodo durante o uso.
[0096] Durante o uso, a estrutura espaçadora pode ser fixada a uma superfície a ser tratada por meio de uma camada de adesão. No en- tanto, é preferível que a estrutura espaçadora para um tratamento de plasma seja fixada a uma superfície a ser tratada por meio de um filme, em particular um filme que tenha propriedades adesivas em um lado. Em seguida, o filme é puxado sobre a estrutura espaçadora e a super- fície a ser tratada de modo que a estrutura espaçadora seja fixada na superfície a ser tratada pelo filme. De preferência, um espaço de gás vedado é formado pela película aplicada, no qual um espaço de gás pode ser gerado durante o uso e o dito plasma pode interagir com a superfície a ser tratada. Também pode ser utilizado um filme que não tem superfície com propriedades adesivas. Esse filme, que por si só não adere à superfície a ser tratada, pode ser fixado à superfície a ser tra- tada por meio de uma camada de adesão. Além disso, esse filme pode ser fixado à superfície a ser tratada em virtude da geração de um vácuo no espaço de gás vedado. Também pode ser usado um filme no qual surge um contato adesivo entre seções desse filme quando as ditas se- ções são aproximadas. Esse filme pode ser encontrado com sobreposi- ção sobre um segmento de corpo de um paciente, por exemplo, a fim de assim fixar a estrutura espaçadora em uma superfície a ser tratada e formar um espaço de gás vedado.
[0097] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com pelo menos um desses aspectos, se refere a um aplicador de plasma que se destina a ser aplicado a uma superfície a ser tratada em certos formatos tridimensionais. Um aplicador de plasma de acordo com esse aspecto também pode compreender uma unidade de fonte de alimentação inte- grada e/ou uma porta de acesso e/ou um recurso para garantir o uso único e/ou um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico isolado ou um núcleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto e/ou um invólucro com propriedades ab- sorventes e/ou com uma bolsa e/ou fendas de inserção.
[0098] Um aspecto adicional se refere a um aplicador de plasma que é configurado para ser aplicado a uma superfície a ser tratada de uma forma específica, por exemplo, na forma de uma tenda ou um cone, para um tratamento de plasma. Um aplicador de plasma de acordo com esse aspecto compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro, uma camada de adesão e um aparelho de encaixe. O aplicador de plasma pode ser realizado com vários núcleos eletrotécnicos. No entanto, o nú- cleo eletrotécnico é preferencialmente um núcleo eletrotécnico de acordo com o primeiro aspecto; ou seja, é seguro ao toque. Um núcleo eletrotécnico adequado pode ser produzido com o uso de um método de impressão de tela rotativa, por exemplo, em que uma estrutura de eletrodo respectiva é impressa em um ou ambos os lados de um porta- dor de eletrodo. O formato básico do aplicador de plasma pode surgir, em particular, daquele formato tridimensional no qual o aplicador de plasma deve ser colocado para um tratamento de plasma. A título de exemplo, se o aplicador de plasma se destina a ser levado a uma forma cônica para um tratamento de plasma, o formato básico do aplicador de plasma pode corresponder à face lateral aberta enrolada do cone. Esse aplicador de plasma preferencialmente tem um formato flexível. Para um tratamento de plasma, um aplicador de plasma flexível pode ser co- locado em torno de um tubo ou um cabo de um acesso existente a um paciente, por exemplo, sem o acesso ao corpo a ser tratado, já colo- cado, que deve ser removido para um tratamento de plasma.
[0099] No entanto, o aplicador de plasma também pode ter um for- mato rígido; por exemplo, o mesmo já pode ter o formato de um cone. Em particular, esse aplicador de plasma com um formato rígido pode ter um orifício ou uma fenda, através da qual um tubo ou cabo pode ser guiado. A título de exemplo, esse orifício ou essa fenda pode ser encon- trado na ponta do cone ou na face lateral de um aplicador de plasma cônico.
[00100] Pelo menos uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotéc- nico pode ter uma geometria específica. Se uma pluralidade de estrutu- ras de eletrodo do núcleo eletrotécnico tem uma geometria específica, as seções de eletrodo das respectivas estruturas de eletrodo são prefe- rencialmente dispostas em relação umas às outras com uma sobrepo- sição definida. De preferência, uma camada isolante é disposta entre as estruturas de eletrodo adjacentes, em que a dita camada isolante é con- figurada para isolar galvanicamente as duas estruturas de eletrodo ad- jacentes uma da outra. No lado voltado para uma superfície a ser tra- tada, o aplicador de plasma compreende preferencialmente uma ca- mada isolante adicional, que é preferencialmente formada por um ma- terial biocompatível.
[00101] O invólucro pode envolver parcial ou mesmo completamente o núcleo eletrotécnico. O invólucro é preferencialmente formado por um material biocompatível. Se o próprio núcleo eletrotécnico já tiver uma configuração que seja segura ao toque, pode ser suficiente que o invó- lucro seja formado por apenas uma camada e não para garantir ele pró- prio uma proteção de contato. A título de exemplo, o invólucro pode compreender silicone, lacas, têxteis e/ou um revestimento de parileno. A camada de adesão é preferencialmente disposta de uma forma tal que o aplicador de plasma possa ser fixado no formato fornecido, para um tratamento de plasma, a uma superfície a ser tratada. A título de exem- plo, se o aplicador de plasma se destinar a ser aplicado de forma cônica a uma superfície a ser tratada, a camada de adesão é preferencialmente disposta no lado da face lateral voltada para a superfície a ser tratada.
[00102] Um aspecto adicional que pode contribuir para um aplicador de plasma aprimorado, por si só e independentemente dos aspectos restantes descritos no presente documento ou em combinação com pelo menos um destes aspectos, se refere a um aplicador de plasma que é adequado, em particular, para tratar feridas de grande área com uma área de alguns e/ou vários decímetros quadrados (por exemplo, quei- maduras e, em particular, queimaduras de grande área). A título de exemplo, esse aplicador de plasma também pode compreender uma unidade de fonte de alimentação integrada e/ou uma porta de acesso e/ou um recurso para garantir o uso único e/ou um núcleo eletrotécnico que compreende pelo menos um fio condutor elétrico isolado ou um nú- cleo eletrotécnico configurado de acordo com o primeiro aspecto e/ou um invólucro com propriedades absorventes e/ou com uma bolsa e/ou fendas de inserção.
[00103] Um aspecto adicional se refere a um aplicador de plasma que é adequado, em particular, para o tratamento de feridas de grande área (por exemplo, queimaduras de grande área). O aplicador de plasma é adequado para ser fixado com um lado voltado para longe da superfície a ser tratada a um material de suporte e para ser usado junto com esse material de suporte.
A título de exemplo, um material de su- porte pode ser uma camada espacial ou uma bandagem ou um filme grande.
O aplicador de plasma de acordo com esse aspecto compre- ende um núcleo eletrotécnico, um invólucro e uma camada de adesão.
De preferência, o aplicador de plasma compreende, além disso, uma unidade de fonte de alimentação integrada.
O aplicador de plasma pode ser realizado com vários núcleos eletrotécnicos.
A título de exemplo, um núcleo eletrotécnico adequado pode ser produzido com o uso de um método de impressão de tela rotativa.
O núcleo eletrotécnico também pode ter pelo menos uma camada na qual uma pluralidade de estruturas de eletrodos independentes é disposta e não interconectada eletrica- mente e, respectivamente, forma regiões de tratamento independentes eletricamente.
A pluralidade de estruturas de eletrodo dentro de uma camada pode ser acionada com uma diferença de tempo, isto é, em cascata.
No entanto, o núcleo eletrotécnico preferencialmente é um nú- cleo eletrotécnico de acordo com o primeiro aspecto e é seguro ao to- que.
O núcleo eletrotécnico também pode ser implantado em vários for- matos básicos.
Pelo menos uma estrutura de eletrodo do núcleo eletro- técnico pode ter uma geometria específica.
Se uma pluralidade de es- truturas de eletrodo do núcleo eletrotécnico tiver uma geometria espe- cífica, essas estruturas de eletrodo, em particular, podem ser dispostas umas em relação às outras de uma forma tal que as seções de eletrodo das respectivas estruturas de eletrodo tenham uma sobreposição defi- nida umas com as outras.
Se o núcleo eletrotécnico compreender uma pluralidade de estruturas de eletrodo, as estruturas de eletrodo adjacen- tes são, de preferência, isoladas galvanicamente umas das outras por uma camada isolante.
De preferência, pelo menos uma camada isolante adicional é disposta no lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada e é preferencialmente formada por um material biocompatível.
O invólucro envolve pelo menos parcialmente o núcleo eletrotécnico e é preferencialmente formado por um material biocompa- tível. Se o próprio núcleo eletrotécnico já tiver uma configuração que é segura ao toque, o invólucro pode ter uma configuração de camada única e não precisa ele próprio garantir a proteção de contato. A título de exemplo, o invólucro pode compreender silicone, lacas, têxteis e/ou um revestimento de parileno.
[00104] A camada de adesão é preferencialmente disposta como úl- tima camada no lado do aplicador de plasma voltado para longe de uma superfície a ser tratada. A camada de adesão é preferencialmente con- figurada para prender o aplicador de plasma em seu lado voltado para a superfície a ser tratada com um material de suporte, por exemplo, uma camada espacial ou um filme.
[00105] O aplicador de plasma também pode ter um aparelho de en- caixe, que preferencialmente tem uma configuração em formato de aba. O aparelho de encaixe pode ser conectado com segurança ao núcleo eletrotécnico.
[00106] A unidade de fonte de alimentação opcionalmente integrada no aplicador de plasma compreende uma fonte de energia, que pode ser um acumulador, uma bateria ou um capacitor. A unidade de fonte de alimentação é preferencialmente conectada a uma estrutura de ele- trodo do núcleo eletrotécnico e é configurada para fornecer um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma. A unidade de fonte de ali- mentação pode compreender um circuito elétrico que é configurado para converter um sinal de tensão em um sinal de tensão suficiente para in- flamar um plasma. A unidade de fonte de alimentação integrada também pode compreender arranjos de bobina receptora eletricamente conec- tada ao armazenamento de energia e pode ser configurada de uma forma tal que o armazenamento de energia possa ser carregado em vir- tude da energia elétrica que é transferida indutivamente de um arranjo de bobina transmissora para o arranjo de bobina receptora no aplicador de plasma por meio do dito arranjo de bobina transmissora. Se um apli- cador de plasma compreender um aparelho de encaixe, o aparelho de encaixe é preferencialmente conectado de forma eletricamente condu- tiva à unidade de fonte de alimentação de modo que a unidade de fonte de alimentação, em particular um acumulador ou capacitor, da unidade de fonte de alimentação possa ser carregada conectando-se o aparelho de encaixe a uma unidade de fonte de alimentação externa. VARIANTES DE MODALIDADES PREFERENCIAIS DE UM APLICA-
[00107] Em uma variante de modalidade em que um aplicador de plasma compreende um invólucro, o último pode ser formado por um material biocompatível, tal como silicone médico, uma laca, um adesivo, um filme, um têxtil, um têxtil de compressão ou um material orgânico tal como uma gaze, celulose ou algodão.
[00108] Em uma variante de modalidade em que um aplicador de plasma compreende um invólucro, o dito invólucro do aplicador de plasma pode compreender pelo menos uma camada com materiais de absorção de líquido e/ou remoção de líquido e/ou distribuição de líquido.
[00109] Em uma variante de modalidade em que um aplicador de plasma compreende uma porta de acesso, a dita porta de acesso é dis- posta e configurada de uma forma tal que, durante o tratamento de plasma, um meio fluido possa ser fornecido ou removido de um espaço de gás vedado formado pelo invólucro entre o núcleo eletrotécnico e uma superfície a ser tratada. Um meio fluido é um meio gasoso ou lí- quido.
[00110] Em uma variante de modalidade em que um aplicador de plasma compreende um invólucro, o invólucro do aplicador de plasma pode compreender fendas de inserção que são dispostas no lado do aplicador de plasma voltado para longe da superfície a ser tratada e que são configuradas de modo que uma unidade de fonte de alimentação ou um aparelho de inserção, complementar às fendas de inserção, possa ser inserido nas fendas de inserção para então ser conectado eletricamente aos contatos do núcleo eletrotécnico.
[00111] Um aplicador de plasma como descrito aqui, ou então outro aplicador de plasma, pode compreender uma parte ocupada pelo lado de gancho de um fecho de velcro em um lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada.
[00112] Em uma variante de modalidade em que um aplicador de plasma compreende uma unidade de fonte de alimentação integrada, a dita unidade de fonte de alimentação integrada pode compreender uma unidade de fonte de alimentação conectada eletricamente a contatos do núcleo eletrotécnico, a fim de transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a segunda estrutura de eletrodo durante a operação.
[00113] Em uma variante de modalidade em que um aplicador de plasma compreende uma unidade de fonte de alimentação integrada, a unidade de fonte de alimentação integrada pode compreender um cir- cuito elétrico que é configurado para converter uma tensão fornecida pelo armazenamento de energia em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma e transmitir o dito sinal de tensão para o contato da segunda estrutura de eletrodo.
[00114] Em uma variante de modalidade em que um aplicador de plasma compreende um aparelho de recepção de energia conectado eletricamente pelo menos ao contato da segunda estrutura de eletrodo, o aparelho de recepção de energia pode conter, respectivamente, um ou mais arranjos de bobinas receptoras. A energia elétrica pode ser transferida de um arranjo de bobina transmissora de um aparelho de distribuição de energia para os arranjos de bobina receptora no aplica- dor de plasma por meio de indução eletromagnética.
[00115] Um tratamento de plasma com um aplicador de plasma é re- alizado durante um determinado tempo de tratamento.
Esse tempo de tratamento é tipicamente de 1 a 10 minutos, preferencialmente 2 minu- tos.
No caso em que o plasma é fornecido em forma pulsada durante o tratamento com plasma, o tempo somado dentro do qual o plasma é de fato inflamado durante o tratamento de plasma corresponde a uma por- ção comparativamente pequena, por exemplo 10%, da duração total do tratamento de plasma.
Assim, se a duração total de um tratamento de plasma é de dois minutos, por exemplo, e um ciclo de trabalho do plasma ligado para o plasma desligado é igual a 1 para 9, um plasma só é inflamado durante um período de tempo acumulado de 12 segun- dos.
O uso do aplicador de plasma tipicamente termina com o fim do tratamento de plasma.
Embora o uso de um aplicador de plasma seja restrito ao período de tempo de um tratamento de plasma, o próprio aplicador de plasma pode ser aplicado a uma superfície a ser tratada antes e depois de um tratamento de plasma.
A título de exemplo, pode ser vantajoso para o sucesso do tratamento se um aplicador de plasma for aplicado sobre uma ferida, mesmo por uma certa quantidade de tempo após um tratamento de plasma.
A título de exemplo, após um tratamento de plasma com a duração de um minuto, um aplicador de plasma pode permanecer sobre a ferida por mais cinco minutos para assim melhorar o sucesso do tratamento.
O uso de um aplicador de plasma por um período de tempo relativamente longo pode ser vanta- joso, pois um aplicador de plasma cobre a superfície a ser tratada e veda a área da ferida contra a recolonização por micro-organismos ex- ternos.
Se um aplicador de plasma for usado aplicado a uma ferida du- rante um período de tempo relativamente longo, por exemplo, por vários dias ou então várias semanas, é vantajoso que um aplicador de plasma seja configurado de modo que um tratamento de plasma possa ser rea- lizado múltiplas vezes com o aplicador de plasma.
[00116] Um primeiro uso de um aplicador de plasma se refere ao pri- meiro tratamento de plasma realizado com o aplicador de plasma.
[00117] Um aplicador de plasma serve essencialmente para tratar superfícies humanas ou animais. Um aplicador de plasma é particular- mente adequado para o tratamento de feridas, tais como feridas crôni- cas e/ou feridas após cirurgia. Além disso, um aplicador de plasma tam- bém é adequado para o tratamento de queimaduras, arranhões, etc. O uso para desinfecção, tratamento de rugas, redução de cicatrizes e/ou outros tratamentos cosméticos também é concebível. Uma aplicação no campo do tratamento de plasma de superfícies técnicas também é pos- sível. A título de exemplo, as superfícies técnicas podem ser refinadas por um tratamento de plasma. Nesse caso, a ativação por plasma, a deposição química de vapor auxiliada por plasma e a deposição física de vapor devem ser mencionadas como princípio ativo primário.
[00118] Para o tratamento por plasma de uma superfície humana ou animal ou técnica, um aplicador de plasma é preferencialmente fixado de uma forma tal que o núcleo eletrotécnico esteja situado na ou pró- ximo à superfície humana ou animal ou técnica a ser tratada.
[00119] Um aplicador de plasma pode compreender um núcleo ele- trotécnico e um aparelho de encaixe, um invólucro e uma camada de adesão. Então, o aparelho de encaixe é, de preferência, conectado ele- tricamente a pelo menos uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotéc- nico e adequado para a transmissão de sinais de tensão, preferencial- mente com uma amplitude que varia de várias centenas de volts até 10 kV.
[00120] Um aplicador de plasma pode ter um núcleo eletrotécnico plano com pelo menos uma estrutura de eletrodo. De preferência, esse aplicador de plasma compreende um aparelho de encaixe que é conec- tado de forma eletricamente condutiva a pelo menos uma estrutura de eletrodo, a fim de transmitir um sinal de tensão para pelo menos essa estrutura de eletrodo.
[00121] Um aplicador de plasma pode ser configurado de uma forma tal que possa se adaptar de forma flexível, em particular de forma inter- ligada, a qualquer superfície curva e, consequentemente, também possa ser usado para um tratamento de plasma para tratar áreas da pele que são difíceis de tratar, tais como, por exemplo, o pé. Nessa va- riante de modalidade, o aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, que pode ser colocado de forma flexível em um formato apropriado.
[00122] Alternativamente, um aplicador de plasma pode ser configu- rado não em uma forma flexível e maleável, mas em uma forma rígida com um formato especificado. Nesse caso, um núcleo eletrotécnico pode compreender pelo menos uma camada ou estrutura que não é fle- xível e predetermina um formato rígido para o aplicador de plasma. O formato predeterminado é vantajosamente adaptado ao uso do aplica- dor de plasma em uma superfície com formato específico ou em um determinado segmento de corpo. Um aplicador de plasma com um for- mato rígido pode ser vantajoso, por exemplo, para fixação em tecidos moles ou estruturas de feridas moles.
[00123] Um aplicador de plasma também pode ser configurado para ser fixado de forma cônica em torno de um tubo ou cabo. Nesse caso, um aplicador de plasma é preferencialmente colocado em torno de um tubo ou cabo de modo que um espaço de gás vedado com a forma de um cone surja sob um aplicador de plasma, em que a superfície a ser tratada é localizada sob o cone e um plasma é inflamado durante o uso no espaço de gás vedado entre o interior do cone e a superfície a ser tratada. Vantajosamente, não é necessário remover um acesso já colo- cado ao corpo a ser tratado para realizar um tratamento com um aplica- dor de plasma no acesso ao corpo a ser tratado. Se for conhecido antes de um acesso ser estabelecido que um tratamento com um aplicador de plasma deve ocorrer, pode ser vantajoso se um aplicador de plasma tiver um orifício ou uma fenda, por exemplo, em uma ponta de cone, através da qual o cabo ou tubo pode ser guiado. Como resultado, um acesso pode ser colocado primeiro e um tratamento de plasma pode ocorrer posteriormente sem que o acesso tenha que ser removido.
[00124] Pode ser vantajoso se uma área de curativo de feridas do aplicador de plasma ou um aplicador de plasma tiver ele próprio uma configuração escalável. Um aplicador de plasma escalável pode ter uma multiplicidade de formatos, tais como, por exemplo, poligonal, redondo, em formato de 8 (borboleta) ou um formato adaptado a estruturas do corpo específicas, por exemplo, a região sob o seio ou calcanhar. Em particular, a área de curativo de feridas do aplicador de plasma pode ser escalável em uma faixa de alguns centímetros a muitas dezenas de cen- tímetros. Aqui, é preferível que um aplicador de plasma com uma área maior do que aproximadamente 20 cm x 20 cm tenha uma modalidade retangular ou redonda. É particularmente adequado que um aplicador de plasma com uma área menor tenha um formato que se adapta a es- truturas corporais específicas.
[00125] No escopo desta descrição, um sistema de múltiplas cama- das feito de estruturas de eletrodo e camadas isolantes adjacentes, que gera um plasma durante a operação, é denominado como um núcleo eletrotécnico. O arranjo das estruturas e camadas nesse núcleo eletro- técnico pode ser diferente em núcleos eletrotécnicos diferentes. Em vá- rias variantes de um núcleo eletrotécnico, as estruturas e camadas indi- viduais podem ser configuradas com uma superfície fechada ou a uma geometria específica.
[00126] Várias modalidades preferenciais de um núcleo eletrotécnico são descritas abaixo; essas são adequadas para um núcleo eletrotéc- nico de um aplicador de plasma como descrito aqui e/ou de qualquer outro aplicador de plasma. Um núcleo eletrotécnico tipicamente tem uma sequência de camadas isolantes e estruturas de eletrodo, que são dispostas em uma pilha de camadas adjacentes e, consequentemente, formam um sistema de múltiplas camadas.
[00127] Em uma modalidade, um núcleo eletrotécnico tem uma con- figuração plana e compreende pelo menos uma estrutura de eletrodo, que é preferencialmente acionada por um sinal de tensão durante a ope- ração, e pelo menos uma camada isolante que, durante o uso, fica situ- ada entre a estrutura de eletrodo acionada e uma superfície a ser tra- tada. Assim, durante o uso, a estrutura de eletrodo acionada fica situada no lado do núcleo eletrotécnico voltado para longe da superfície a ser tratada.
[00128] Como regra, um núcleo eletrotécnico tem formato retangular. Em várias variantes, um núcleo eletrotécnico tem uma forma circular, uma forma oval, uma forma hexagonal ou qualquer outra forma poligo- nal. Em várias outras variantes, um núcleo eletrotécnico tem um formato tridimensional, por exemplo, o formato de um cilindro ou um cuboide. Em outras variantes, o núcleo eletrotécnico tem um formato que é adap- tado especificamente a um determinado segmento de corpo (por exem- plo, um calcanhar, um dedo, um peito).
[00129] Em uma modalidade, um núcleo eletrotécnico compreende pelo menos uma primeira e uma segunda estruturas de eletrodo, em que a primeira e a segunda estruturas de eletrodo têm um potencial res- pectivo diferente que se desvia do potencial de terra em cada caso (ele- trodos flutuantes).
[00130] Em uma modalidade, um núcleo eletrotécnico compreende,
começando do lado voltado para a superfície a ser tratada, uma primeira camada isolante, que é preferencialmente biocompatível e, consequen- temente, particularmente adequada para o tratamento de uma superfí- cie humana ou animal. Uma primeira estrutura de eletrodo, tipicamente no potencial de terra, é disposta na camada isolante. A primeira estru- tura de eletrodo é seguida por uma segunda camada isolante, que é uma camada dielétrica, para ser preciso que serve para desacoplar gal- vanicamente a primeira estrutura de eletrodo de uma segunda estrutura de eletrodo disposta na segunda camada isolante. Durante o uso, a se- gunda estrutura de eletrodo é tipicamente acionada com um sinal de tensão para inflamar um plasma.
[00131] Em uma modalidade, um núcleo eletrotécnico compreende apenas uma segunda estrutura de eletrodo, que é preferencialmente acionada por um sinal de tensão durante a operação, e uma segunda camada isolante que, durante o uso, é disposta entre a segunda estru- tura de eletrodo e a superfície a ser tratada. Durante a operação do nú- cleo eletrotécnico, o contraeletrodo é então realizado, em particular como parte constituinte de um aplicador de plasma, pelo corpo humano ou animal ou técnico ou pela própria superfície a ser tratada.
[00132] Vantajosamente, todas as camadas e/ou estruturas de um núcleo eletrotécnico são conectadas umas às outras de maneira interli- gada e sem inclusões de ar, corpos estranhos ou materiais estranhos, pelo menos por meio de adesão.
[00133] Um núcleo eletrotécnico também pode ser dotado de orifícios ou passagens em uma parte, ou então esses podem ser distribuídos por toda a área do dito núcleo eletrotécnico. Os orifícios ou passagens po- dem facilitar um transporte de meio através do núcleo eletrotécnico, do lado voltado para uma superfície a ser tratada para o lado do aplicador de plasma voltado para longe de uma superfície a ser tratada ou, no sentido inverso, do lado voltado para longe de uma superfície a ser tra- tada para o lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada.
[00134] Em uma variante de modalidade, em que o núcleo eletrotéc- nico tem orifícios ou passagens em parte ou distribuídos por toda a área do dito núcleo eletrotécnico, os orifícios ou passagens têm um diâmetro que varia entre 1 mm e 10 mm.
[00135] Em uma variante de modalidade, em que um núcleo eletro- técnico tem orifícios ou passagens em parte ou distribuídos por toda a área do dito núcleo eletrotécnico, os orifícios ou passagens são dispos- tos nas regiões onde não há estrutura de eletrodo. Assim, as estruturas do eletrodo não são danificadas ao perfurar ou puncionar os orifícios.
[00136] De preferência, as distâncias de fuga de corrente são leva- das em consideração ao organizar orifícios ou passagens e projetar os diâmetros dos mesmos em um núcleo eletrotécnico com orifícios ou passagens, a fim de facilitar uma formação de plasma homogêneo no lado do núcleo eletrotécnico voltado para uma superfície a ser tratada.
[00137] Um núcleo eletrotécnico descrito no escopo dessa descrição pode ser produzido, por exemplo, por meio de um método de dispensa- ção, por impressão 3D ou por impressão em tela ou impressão em tela rotativa. Aqui, uma ou mais estruturas de eletrodo são construídas passo a passo dentro de uma pluralidade de etapas do processo. As estruturas de eletrodo são separadas por camadas isolantes. A dispen- sação ou impressão pode ser realizada alternadamente com material condutor e isolante eletricamente. De preferência, um núcleo eletrotéc- nico descrito dentro do escopo desta descrição é produzido com o uso de impressão de tela rotativa. De preferência, pelo menos uma camada isolante do núcleo eletrotécnico é formada por um filme no qual outras camadas do núcleo eletrotécnico, ou seja, estruturas de eletrodo e/ou camadas isolantes formadas por lacas e/ou filmes, são impressas umas sobre as outras com o uso do dispositivo método de impressão da tela rotativa. Essas camadas isolantes do núcleo eletrotécnico, formadas por um filme e/ou laca, apresentam, preferencialmente, uma espessura que varia entre 10 µm e 500 µm. De preferência, a espessura de uma ca- mada isolante é escolhida de uma forma tal que não haja ruptura elétrica durante o uso entre as estruturas de eletrodo impressas em cada lado do filme ou da laca. Para determinar uma espessura adequada, é pos- sível levar em consideração, entre outras coisas, a resistência à ruptura das lacas ou do filme, que forma essa camada isolante, como a magni- tude da tensão que é aplicada durante a aplicação entre as estruturas de eletrodo impressas no filme. Uma camada isolante formada por um filme é preferencialmente livre de poros, que também são denominados como furos.
[00138] Em termos de sua extensão lateral, um núcleo eletrotécnico pode ser maior do que uma estrutura de eletrodo do dito núcleo eletro- técnico. A título de exemplo, um núcleo eletrotécnico pode ter uma área de 20 cm x 20 cm ou então 30 cm x 30 cm ou ainda maior, enquanto a área de uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico é de apenas 10 cm x 10 cm.
[00139] Um núcleo eletrotécnico com uma área maior do que as es- truturas do eletrodo do núcleo eletrotécnico pode ser cortado no tama- nho desejado para um tratamento de plasma. No entanto, o tamanho mínimo é determinado pela área das estruturas de eletrodo. Particular- mente no caso de um núcleo eletrotécnico cuja área é maior do que as estruturas de eletrodo do núcleo eletrotécnico, as estruturas de eletrodo podem ser dispostas de qualquer maneira desejada em relação à área do núcleo eletrotécnico dentro da área.
[00140] Modalidades preferenciais de uma estrutura de eletrodo são descritas abaixo; essas são adequadas para uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico como descrito aqui e/ou de qualquer outro núcleo eletrotécnico. Uma estrutura de eletrodo descrita aqui é tipica- mente formada por uma estrutura eletricamente condutora. A estrutura eletricamente condutora representa então uma estrutura de eletrodo.
[00141] Uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico ou, no caso de uma pluralidade de estruturas de eletrodo, as estruturas de ele- trodo de um núcleo eletrotécnico preferencialmente têm uma configura- ção plana e formam uma camada de um núcleo eletrotécnico. Uma es- trutura de eletrodo pode ser disposta sobre ou em um portador de ele- trodo. Uma estrutura de eletrodo pode ser formada por um material con- dutor, em particular com um metal, por exemplo, na forma de uma ca- mada de metal fina, filme de metal, malha de metal e/ou uma camada de polímero condutor. A título de exemplo, um portador de eletrodo pode ser um filme não impresso. Uma estrutura de eletrodo, ou estruturas de eletrodo, pode então ser impressa no filme não impresso ou em um por- tador de eletrodo alternativo, por exemplo, com o uso de verniz condutor de prata.
[00142] Em uma modalidade, uma estrutura de eletrodo de 10 µm de espessura e feita de verniz condutor de prata, por exemplo, é impressa diretamente em um dos dois lados de uma camada isolante, em parti- cular uma camada dielétrica, de modo que a própria camada dielétrica seja o portador do eletrodo.
[00143] Uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico tam- bém pode ser formada por fios condutores elétricos que são tecidos em um têxtil. Nesse caso, o porta-eletrodo é realizado pelo tecido e a estru- tura de eletrodo é disposta no porta-eletrodo. Também pode ser vanta- joso formar pelo menos uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletro- técnico de um material condutor, preferencialmente flexível, tal como um plástico condutor, um material enriquecido com partículas condutoras,
um filme metálico ou grafite. Como regra, uma estrutura de eletrodo con- figurada dessa forma não exige um portador de eletrodo adicional. A título de exemplo, uma estrutura de eletrodo configurada dessa forma pode ser produzida por meio de um método de dispensação.
[00144] Um núcleo eletrotécnico preferencialmente compreende pelo menos duas estruturas de eletrodo, especificamente uma primeira e uma segunda estruturas de eletrodo, em que a segunda estrutura de eletrodo é acionada durante o uso por meio de uma tensão na forma de um sinal de tensão, aplicado em relação ao potencial de referência. A primeira estrutura de eletrodo é tipicamente aterrada. Caso um núcleo eletrotécnico tenha uma primeira e uma segunda estruturas de eletrodo, a primeira estrutura de eletrodo tipicamente fica voltada para a superfí- cie a ser tratada durante o uso. A distância entre a primeira estrutura de eletrodo e a segunda estrutura de eletrodo é preferencialmente inferior a 1 mm, em particular inferior a 200 µm, preferencialmente inferior a 100 µm. Vantajosamente, um sinal de tensão mais baixo é necessário para inflamar um plasma como resultado de uma pequena distância.
[00145] Uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico pode ser configurada como uma camada com uma área fechada, que se es- tende completamente ou apenas parcialmente sobre a área do núcleo eletrotécnico. Uma segunda e uma terceira estruturas de eletrodo, em particular, são preferencialmente configuradas como eletrodos de su- perfície, uma vez que nenhuma linha de campo elétrico para gerar um plasma deve passar por essas estruturas de eletrodo durante um trata- mento de plasma. Uma estrutura de eletrodo e, em particular, a primeira estrutura de eletrodo, que é situada no lado de um núcleo eletrotécnico voltado para a superfície a ser tratada, também pode ter uma geometria específica e pode ser disposta dentro de uma camada. Uma estrutura de eletrodo com uma geometria específica pode ter, por exemplo, uma forma sinuosa, uma forma espiral, ser formada por uma área com orifí- cios, ter uma forma quadrada, um formato de U, um formato de E, um formato de M, um formato de L, um formato de C, um formato de X ou um formato de O e pode se estender lateralmente dentro de uma ca- mada de um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma. Uma es- trutura de eletrodo com uma geometria específica é preferencialmente formada por seções de eletrodo dispostas regularmente, que preferen- cialmente formam um padrão regular.
[00146] Em uma modalidade de um núcleo eletrotécnico com uma pluralidade de estruturas de eletrodo, uma primeira e uma segunda es- truturas de eletrodo, em particular, têm a mesma geometria específica e suas seções de eletrodo são dispostas em diferentes camadas de um núcleo eletrotécnico com um deslocamento com uma sobreposição de- finida uma em relação à outra. Em particular, pelo menos uma camada isolante, por exemplo, na forma de um filme, um adesivo ou uma laca, fica situada entre duas estruturas de eletrodo. Também pode ser vanta- joso se a pluralidade de estruturas de eletrodo de um núcleo eletrotéc- nico tiver geometrias diferentes.
[00147] A sobreposição das seções do eletrodo pode ter influência significativa na capacitância de um núcleo eletrotécnico e na magnitude da intensidade do campo elétrico gerado pelo núcleo eletrotécnico du- rante a operação. Se as seções de eletrodo de uma primeira e de uma segunda estrutura de eletrodo forem dispostas congruentes uma à ou- tra, de modo que as seções de eletrodo se sobreponham completa- mente, a intensidade do campo é tipicamente pequena e a capacitância está em um máximo. O que tipicamente se aplica é que a capacitância é maior quando as seções do eletrodo se sobrepõem completamente, enquanto a capacitância diminui com a sobreposição reduzida das se- ções do eletrodo. Em geral, uma alta intensidade de campo elétrico com uma pequena distância entre as duas estruturas de eletrodo é vantajosa para inflamar um plasma. À medida que a distância aumenta, aumenta também a amplitude do sinal de tensão exigido para inflamar um plasma. No entanto, uma capacitância comparativamente pequena é vantajosa, uma vez que um núcleo eletrotécnico então reage mais rapi- damente e as distorções no sinal de tensão são fracas devido a um pe- queno componente capacitivo.
[00148] Em um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma, uma pluralidade de estruturas de eletrodo também pode ser disposta dentro de uma camada do dito núcleo eletrotécnico. Cada uma das estruturas de eletrodo representa uma estrutura de eletrodo individual por si só, que, em termos de sua extensão lateral, se estende apenas por uma parte da área de um núcleo eletrotécnico. De preferência, a pluralidade de estruturas de eletrodos nessa camada é distribuída uniformemente sobre a área de um núcleo eletrotécnico, isto é, sobre a área do curativo. A pluralidade de estruturas de eletrodo dentro de uma camada pode ser interconectada eletricamente. Também é concebível que apenas certas estruturas de eletrodo individuais dentro da camada sejam interconec- tadas eletricamente, de modo que grupos de estruturas de eletrodo in- terconectadas eletricamente sejam formados. Além disso, pode ser van- tajoso se as estruturas de eletrodo dentro de uma camada não estive- rem eletricamente interconectadas e cada uma formar regiões de trata- mento independentes eletricamente. A pluralidade de estruturas de ele- trodo dentro de uma camada pode ser acionada com uma diferença de tempo, isto é, em cascata. Vantajosamente, o acionamento em cascata pode levar à redução de uma tomada de energia por intervalo de tempo e/ou a uma redução no tempo de tratamento.
[00149] A pluralidade de estruturas de eletrodo dentro de uma ca- mada de um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma pode ser formada a partir dos materiais mencionados acima e nos formatos men-
cionados acima, que foram especificados acima em relação às estrutu- ras de eletrodo descritas acima.
[00150] As estruturas de eletrodo descritas no presente documento têm preferencialmente uma espessura de alguns µm até várias cente- nas de µm.
[00151] Se uma estrutura de eletrodo não for formada sobre toda a área, ou seja, não como um eletrodo de superfície, mas em vez disso como uma das geometrias especiais descritas acima, a espessura e a largura das seções de eletrodo da estrutura de eletrodo com uma das geometrias especiais são escolhidas preferencialmente de uma forma tal que a estrutura de eletrodo não seja destruída pela carga térmica durante a operação de um aplicador de plasma ou que o aplicador de plasma não exceda uma temperatura de 40 °C durante a operação. A menos, naturalmente, que o uso único de um núcleo eletrotécnico deva ser garantido.
[00152] A propriedade do material decisiva nesse caso é a resistên- cia elétrica ou a impedância que, dependendo do material e da geome- tria, não deve exceder um certo valor de, como regra, alguns ohms. De- pendendo do material empregado e de sua condutância, as seções de eletrodo dessa estrutura de eletrodo têm vantajosamente uma seção transversal escolhida apropriadamente. As seções de eletrodo com uma largura de 5 mm e uma espessura de 14 µm foram consideradas vanta- josas. No entanto, em várias variantes, esses valores podem se desviar dos valores especificados e, não obstante, levar a propriedades do ma- terial que são vantajosas para aplicações específicas. A título de exem- plo, para algumas aplicações pode ser vantajoso se as seções de ele- trodo de uma estrutura de eletrodo tiverem uma largura de 1 mm e uma espessura de 70 µm. A título de exemplo, para outras aplicações pode ser vantajoso se as seções de eletrodo de uma estrutura de eletrodo tiverem uma largura de 10 mm e uma espessura de 7 µm.
[00153] Em uma modalidade, uma estrutura de eletrodo é de longos polímeros flexíveis. O interior de um polímero flexível produzido, por- tanto, compreende preferencialmente um polímero condutor, tal como silicone enriquecido com partículas condutoras, como carbono ou nano- tubos de carbono. De preferência, um material biocompatível (por exem- plo, silicone) é impresso ou dispensado em torno da estrutura de ele- trodo. Vantajosamente, a estrutura de eletrodo produzida desse modo pode ter uma multiplicidade de formas diferentes e não precisa ser ne- cessariamente plana.
[00154] Em uma modalidade, uma estrutura de eletrodo é formada por uma malha de arame, um pano de arame ou uma rede de arame. Essa malha de arame, pano de arame ou rede de arame pode ser for- mada por um único fio isolado ou uma pluralidade de fios isolados. Se os fios forem isolados, uma camada isolante separada na qual os fios são embutidos se torna desnecessária. Uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame correspondente, portanto, já representa um núcleo eletrotécnico comparativamente simples. Assim, uma fonte de plasma comparativamente simples pode ser realizada por uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame. Se uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame for formada por um único arame, um contraeletrodo é realizado durante o uso por uma superfície a ser tra- tada. Se uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame for formada por uma pluralidade de arames, pelo menos um arame pode ser acionado por um sinal de tensão durante o uso e pelo menos um outro arame pode ser aterrado; o último então representa um contraele- trodo.
[00155] Um fio de uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame representa um condutor elétrico comparativamente simples. Uma malha de arame, pano de arame ou rede de arame também pode ser formada por um condutor elétrico simples na forma de pelo menos um cabo plano. Um cabo plano nesse sentido pode ter uma seção transver- sal quadrada ou retangular. Um condutor elétrico simples tem, preferen- cialmente, um revestimento isolante.
[00156] Também é concebível que uma fonte de plasma seja for- mada por um único condutor elétrico isolado, por exemplo um fio iso- lado, sem que esse último seja disposto em uma estrutura comparativa- mente complicada, como um tecido ou uma malha. Se um condutor elé- trico, por exemplo, um fio isolado, for disposto acima de uma superfície a ser tratada e uma corrente for aplicada ao mesmo, a superfície a ser tratada pode atuar como um contraeletrodo e pode inflamar um plasma entre a superfície a ser tratada e o fio isolado. Assim, nesse caso, um fio isolado é colocado sobre ou em uma superfície a ser tratada, por exemplo, como um laço ou em uma dimensão.
[00157] Modalidades preferenciais de uma camada isolante são des- critas abaixo; dentro do escopo desta descrição, a dita camada isolante também é denominada como uma camada dielétrica e é adequada como uma parte constituinte de um núcleo eletrotécnico como descrito no presente documento e/ou de qualquer outro núcleo eletrotécnico. Uma camada isolante, como descrito no presente documento, pode ser formada por uma estrutura isolante eletricamente. A estrutura isolante eletricamente representa então uma camada isolante.
[00158] Para impedir um fluxo de corrente entre uma estrutura de eletrodo acionada durante o uso e uma possível estrutura de eletrodo adicional no potencial de terra, pelo menos uma camada isolante é situ- ada preferencialmente em um núcleo eletrotécnico entre as respectivas estruturas de eletrodo ou a pelo menos uma estrutura de eletrodo acio- nada por um sinal de tensão durante a operação e uma superfície hu- mana ou animal ou técnica a ser tratada.
[00159] Uma camada isolante pode consistir em plástico ou cerâmica ou ambos, por exemplo. Uma camada isolante tem preferencialmente uma espessura entre alguns µm e algumas centenas de µm. Como no caso de uma estrutura de eletrodo, a escolha da espessura de uma ca- mada isolante depende das constantes do material elétrico, em particu- lar da constante dielétrica e da resistência à ruptura.
[00160] Pode ser vantajoso que a espessura de uma camada iso- lante a ser escolhida seja comparativamente fina e, por exemplo, se si- tue na região de 50 µm. Como regra, uma espessura baixa leva a uma amplitude mais baixa de um sinal de tensão necessário para inflamar um plasma. Além disso, uma espessura baixa pode ser vantajosa para garantir uma alta flexibilidade do aplicador de plasma.
[00161] Dependendo do uso, por exemplo, no caso de um aplicador de plasma com uma forma rígida, uma espessura de 200 µm ou mais pode ser vantajosa. Particularmente ao usar materiais inflexíveis, tais como cerâmicas que não podem ser produzidas para serem arbitraria- mente finas, uma espessura de pelo menos 200 µm pode ser vantajosa.
[00162] De preferência, uma camada isolante tem uma espessura que é inferior a 1 mm, em particular inferior a 200 µm, preferencialmente inferior a 100 µm.
[00163] De preferência, uma camada isolante é realizada como uma camada de área total.
[00164] De preferência, uma camada isolante é livre de poros, isto é, não há ou há muito poucos orifícios ou cavidades presentes e, portanto, nenhum canal de descarga se forma através da camada isolante. De preferência, uma camada isolante tem uma resistência dielétrica de pelo menos 5 kV por mm de espessura. Além disso, é preferencial que a extensão lateral de uma camada isolante corresponda à dimensão de uma estrutura de eletrodo em um núcleo eletrotécnico mais uma borda que se projeta além da mesma, em que a borda é preferencialmente dimensionada de modo que pelo menos cubra o comprimento de as dis- tâncias de fuga de corrente.
[00165] Em uma modalidade, a extensão lateral de uma camada iso- lante é escolhida de uma forma tal que não haja descarga de arco entre uma segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante o uso, e uma primeira e/ou terceira estrutura de eletrodo no potencial de referên- cia ou uma superfície a ser tratada.
[00166] Vantajosamente, as distâncias de fuga de corrente podem ser reduzidas fechando pelo menos parcialmente um núcleo eletrotéc- nico com um invólucro. Em uma modalidade em que um núcleo eletro- técnico é pelo menos parcialmente envolvido por um invólucro, uma ex- tensão lateral de uma camada isolante pode ser dimensionada com base no invólucro empregado de uma forma tal que uma borda da ca- mada isolante que se projeta além de uma estrutura de eletrodo seja dimensionada para ser menor do que uma distância de fuga de corrente que especificaria a amplitude de um sinal de tensão exigido para infla- mar um plasma por si só.
[00167] Uma primeira camada isolante que é voltada diretamente para uma superfície a ser tratada durante o uso compreende, preferen- cialmente, um material biocompatível, tal como laca, silicone, PU ou re- vestimentos. Os revestimentos podem ser aplicados, por exemplo, com o uso de processos químicos úmidos, deposição química a vapor auxi- liada por plasma (PACVD), deposição química a vapor (CVD), proces- sos de anodização ou galvanoplastia.
[00168] Modalidades preferenciais de um aparelho de encaixe são descritas abaixo. Um aparelho de encaixe como descrito no presente documento pode ser uma parte constituinte de um aplicador de plasma como descrito no presente documento e/ou de qualquer outro aplicador de plasma e serve para conectar um núcleo eletrotécnico de um aplica- dor de plasma, em particular, a uma unidade de fonte de alimentação por meio do estabelecimento de uma conexão a um aparelho de inser- ção com uma configuração complementar. Uma vez que um aparelho de encaixe é uma parte constituinte de um aplicador de plasma, o mesmo representa um aparelho de contato de encaixe do aplicador.
[00169] Um aparelho de encaixe é preferencialmente conectado com segurança a um núcleo eletrotécnico e, em particular, a uma segunda estrutura de eletrodo que é acionada durante o uso e – caso presente - às estruturas de eletrodo aterradas de um núcleo eletrotécnico. De pre- ferência, um aparelho de encaixe é adequado para transmitir um sinal de tensão na faixa de kV, particularmente na faixa de várias centenas de volts a 10 kV, para uma segunda estrutura de eletrodo.
[00170] Um aparelho de encaixe preferencialmente tem pelo menos uma pista condutora elétrica, que é uma estrutura condutora elétrica e que leva a pelo menos uma estrutura de eletrodo. Assim, uma pista con- dutora é disposta em contato eletricamente condutivo com uma estru- tura de eletrodo, preferencialmente em um lado longitudinal da estrutura de eletrodo correspondente, e preferencialmente se estende de forma perpendicular em relação ao lado longitudinal da estrutura de eletrodo correspondente em um plano comum com a estrutura de eletrodo. Se um núcleo eletrotécnico compreende uma pluralidade de estruturas de eletrodo, pelo menos uma pista condutora, como regra, é disposta em cada uma das estruturas de eletrodo. Para isolar eletricamente as pistas condutoras umas das outras, pelo menos uma aba isolante é disposta entre as pistas condutoras em cada caso. De preferência, a mesma é conectada de forma segura a uma camada isolante e formada pelo mesmo material isolante elétrico que a camada isolante. Em particular, a aba pode ser uma parte constituinte integrante da respectiva camada isolante.
[00171] Um aparelho de encaixe pode ser conectado de forma se- gura a um núcleo eletrotécnico por meio de, por exemplo, laminação, adesão, solda ou um método alternativo de conexão de material. Uma pista condutora de um aparelho de encaixe preferencialmente tem uma espessura comparável a uma estrutura de eletrodo de um núcleo ele- trotécnico correspondente e preferencialmente também consiste no mesmo material ou nos mesmos materiais, e a mesma preferencial- mente tem uma condutância de uma ordem de magnitude comparável a essa estrutura de eletrodo.
[00172] De preferência, um núcleo eletrotécnico e um aparelho de encaixe são produzidos em um processo de fabricação comum. Então, por exemplo, uma pista condutora e uma estrutura de eletrodo eletrica- mente conectada à dita pista condutora são coproduzidas simultânea e diretamente como uma estrutura de eletrodo com a pista condutora em uma etapa de fabricação. Então, por exemplo, uma camada isolante e uma aba são produzidas simultânea e diretamente como uma camada isolante com uma aba integral em uma etapa de fabricação adicional e são aplicadas juntas a uma estrutura de eletrodo com uma pista condu- tora. Assim, um núcleo eletrotécnico com um aparelho de encaixe é pro- duzido como um produto comum nesse processo de fabricação. Uma estrutura de eletrodo com uma pista condutora consiste, então, no mesmo material e tem uma espessura homogênea. Da mesma forma, uma camada isolante com uma aba formada integralmente consiste em um material e tem a mesma espessura em todos os lugares. Vantajosa- mente, um núcleo eletrotécnico e um aparelho de encaixe não precisam ser produzidos em processos de fabricação separados e ser subse- quentemente conectados um ao outro.
[00173] Esse núcleo eletrotécnico com um aparelho de encaixe, por- tanto, se desvia dos formatos básicos acima mencionados de um núcleo eletrotécnico sem um aparelho de encaixe na medida em que a formato básico é complementado por, por exemplo, um aparelho de encaixe em formato de aba. Aqui, as estruturas de eletrodo e as camadas isolantes do núcleo eletrotécnico são preferencialmente estendidas para essa aba.
[00174] Uma perfuração pode ser fornecida entre o núcleo eletrotéc- nico e o aparelho de encaixe na transição do aparelho de encaixe para o núcleo eletrotécnico ou na posição em que um aparelho de encaixe é conectado ao núcleo eletrotécnico. A função da perfuração reside na redução da resistência entre o aparelho de encaixe e o núcleo eletro- técnico. A perfuração representa um ponto de ruptura pretendido. Após um tratamento de plasma, o aparelho de encaixe pode ser rompido ou removido do núcleo eletrotécnico nessa perfuração. Como resultado, um aplicador de plasma pode permanecer em uma superfície a ser tra- tada por um período de tempo relativamente longo, de dias a semanas, independentemente de uma unidade de fonte de alimentação, uma vez que o aparelho de encaixe, não mais necessário, pode ser removido.
[00175] O aparelho de encaixe preferencialmente tem a forma de um cartão com chip, isto é, um comprimento de aproximadamente 5 cm a 16 cm, uma largura de 1 cm a 3 cm e uma altura entre aproximadamente 0,2 mm e 1 mm. As dimensões de um aparelho de encaixe também podem divergir dos valores especificados e são dimensionadas com base no comprimento das distâncias de fuga de corrente, dependendo da amplitude de um sinal de tensão para inflamar um plasma. Vantajo- samente, a extensão lateral de um aparelho de encaixe é escolhida de uma forma tal que não haja descarga de arco entre a segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante o uso, e uma estrutura de eletrodo adicional no potencial de referência, por exemplo, uma primeira ou ter- ceira estrutura de eletrodo, ou uma superfície a ser tratada.
[00176] Em uma configuração preferencial, um aparelho de encaixe ou um aparelho de inserção é configurado como um aparelho de en- caixe com um reforço, com uma altura entre 0,2 mm e 1,5 cm, com um comprimento entre 5 cm e 20 cm, e com uma largura entre 1 cm e 3 cm. Um aparelho de inserção correspondente tem uma configuração com- plementar a fim de receber o plugue. Como resultado da forma seme- lhante a um cartão com chip do aparelho de encaixe, ou seja, uma altura pequena e um comprimento comparativamente longo, é possível manter distâncias de fuga de corrente, em particular, de uma forma tal que ne- nhuma descarga parcial surja dentro do aparelho encaixe e aparelho de inserção encaixados. As dimensões especificadas para o comprimento, largura e altura também podem ser vantajosamente realizadas indepen- dentemente umas das outras, de modo que as distâncias de fuga de corrente continuem a ser mantidas. Além disso, é preferencial que o aparelho de inserção compreenda um revestimento isolante para redu- zir as ondas eletromagnéticas emitidas, tendo em conta a distância de fuga de corrente. Com o uso das dimensões especificadas, é possível, em particular, realizar distâncias de fuga de corrente entre pistas con- dutoras aplicadas de uma pluralidade de centímetros. O fator decisivo aqui é a tensão aplicada para gerar o plasma. Tipicamente, quanto mais alta a tensão pretendida a ser aplicada para fins de geração de um plasma, maiores também devem ser as distâncias de fuga. As proprie- dades, em particular as propriedades dielétricas, do material empregado e o grau de contaminação do material empregado também são decisi- vas. Mesmo no caso de uma superfície contaminada do material empre- gado, as distâncias de fuga de corrente devem ser tipicamente projeta- das para serem comparativamente grandes.
[00177] Um aparelho de encaixe com um reforço em uma forma de cartão com chip preferencialmente tem uma conexão permanente com um núcleo eletrotécnico, realizável, por exemplo, por laminação, ligação adesiva, solda ou como uma extensão direta do núcleo eletrotécnico na forma de uma aba. O aparelho de encaixe é, de preferência, parcial- mente envolvido pelo material de um invólucro de um aplicador de plasma, por exemplo, em virtude de ser sobremoldado com silicone. Além disso, o aparelho de encaixe pode compreender pistas condutoras impressas ou depositadas por vapor ou causticadas. Um aparelho de encaixe pode compreender ainda um reforço que é preferencialmente aplicado acima e/ou abaixo da aba e que fortalece mecanicamente o aparelho de encaixe. As pistas condutoras também podem ser configu- radas como um fio de bobina com um revestimento isolante do fio. Op- cionalmente, um aparelho de encaixe também pode ter uma linha de dados, por exemplo, como uma pista condutora ou como um cabo plano. A título de exemplo, pode ser vantajoso instalar uma memória em um aplicador de plasma ou em um acoplamento correspondente ou em uma unidade de fonte de alimentação para coletar dados sobre o uso do apli- cador de plasma.
[00178] Com o uso de um cabo de dados apropriado com acopla- mento, um transponder RFID ou um chip de memória eletrônica não vo- látil, que é situado em um aparelho de encaixe, por exemplo, também pode ser lido por um leitor integrado em um aparelho de inserção com uma configuração complementar a fim de garantir o uso único.
[00179] Vantajosamente, os dados relativos ao próprio aplicador de plasma podem ser armazenados em um chip de memória apropriado. Se o aplicador de plasma com um chip de memória estiver conectado a uma unidade de fonte de alimentação por meio de um cabo de dados apropriado, a unidade de fonte de alimentação é capaz de ler os dados armazenados e capaz de fornecer automaticamente uma certa tensão, um certo padrão de pulso, um certo tempo de tratamento ou parâmetros de tratamento adicionais para operar o aplicador de plasma específico. De preferência, os parâmetros usados são armazenados de forma dire- cionada na unidade de fonte de alimentação para diferentes formatos e tamanhos de aplicador de plasma ou para uma configuração específica do núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma, e são recuperados e usados pela unidade de fonte de alimentação de acordo com o aplica- dor de plasma conectado.
[00180] De preferência, um aparelho de encaixe é fixado a um lado longitudinal de um núcleo eletrotécnico e conectado eletricamente a pelo menos uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico. Também é concebível que um aparelho de encaixe seja aplicado na forma de uma fenda de inserção no lado superior de um núcleo eletrotécnico, ou seja, aquele lado de um núcleo eletrotécnico voltado para o lado a ser tratado e para ser conectado a pelo menos uma estrutura de eletrodo.
[00181] De preferência, o aparelho de encaixe é configurado como um aparelho de encaixe com um reforço com uma altura entre 0,5 mm e 1,5 cm, um comprimento entre 5 cm e 20 cm e uma largura entre 1 cm e 3 cm, e um aparelho de inserção correspondente, complementar ao aparelho de encaixe, é realizado como uma tomada de recepção para receber o aparelho de encaixe.
[00182] A título de exemplo, a fim de transmitir um sinal de tensão para uma segunda estrutura de eletrodo por meio de uma unidade de fonte de alimentação, um aparelho de inserção, complementar a um aparelho de encaixe, pode ser conectado ao aparelho de encaixe, por exemplo. O aparelho de inserção pode ser conectado a um cabo que é conectado a uma unidade de fonte de alimentação predominantemente estacionária. A título de exemplo, uma unidade de fonte de alimentação correspondente pode ser um gerador de alta tensão com uma unidade de controle.
[00183] Vários meios e recursos que podem garantir o uso único de um núcleo eletrotécnico e, em particular, de um aplicador de plasma são descritos abaixo. De preferência, os meios e recursos que garantem o uso único são realizados como uma parte constituinte de um aplicador de plasma, em particular como uma parte constituinte de um aparelho de encaixe como descrito aqui e/ou de qualquer outro aparelho de en- caixe ou como uma parte constituinte de um núcleo eletrotécnico como descrito aqui e/ou de qualquer outro núcleo eletrotécnico.
[00184] Em uma modalidade de um aplicador de plasma, um núcleo eletrotécnico tem pelo menos um recurso que muda de uma forma tal, como consequência de um primeiro uso, que não é mais possível formar um campo elétrico suficientemente forte para inflamar um plasma entre a estrutura de eletrodo acionada durante o uso e a estrutura de eletrodo aterrada. Como resultado, a utilização única de um aplicador de plasma é vantajosamente assegurada. Um recurso de um núcleo eletrotécnico que garante o uso único do aplicador de plasma pode ser, por exemplo, um aparelho autodestrutivo, tal como um fusível elétrico. A título de exemplo, esse fusível elétrico pode ser fornecido por um afunilamento de uma seção de eletrodo de uma estrutura de eletrodo no núcleo ele- trotécnico, que é destruída no final do tratamento por um pulso de alta corrente fornecido naquele ponto, uma vez que o mesmo tem uma re- sistência maior do que o restante da estrutura de eletrodo e, portanto, aquece mais rapidamente. De preferência, esse afunilamento é situado na estrutura de eletrodo que é acionada durante o uso.
[00185] Os seguintes meios e recursos que garantem o uso único de um aplicador de plasma, descritos em relação a um aparelho de en- caixe, também podem ser realizados como recursos de uma estrutura de eletrodo, em particular como uma parte constituinte de uma seção de eletrodo de uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico. De preferência, uma estrutura de eletrodo acionada durante a operação por um sinal de tensão tem pelo menos um recurso ou meios como des- crito em relação a um aparelho de encaixe, a fim de garantir o uso único de um núcleo eletrotécnico, em particular como uma parte constituinte de um aplicador de plasma.
[00186] Em uma modalidade de um aplicador de plasma, um apare- lho de encaixe tem pelo menos um recurso que muda de uma forma tal, como consequência de um primeiro uso, que um aparelho de encaixe não pode mais transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico ou que o núcleo eletrotécnico não pode mais formar um campo elétrico su- ficientemente forte para inflamar um plasma. Como resultado, a utiliza- ção única de um aplicador de plasma é vantajosamente assegurada. Um recurso de um aparelho de encaixe que garante o uso único de um aplicador de plasma pode ser, por exemplo, um aparelho autodestrutivo, tal como um fusível elétrico. A título de exemplo, esse fusível elétrico pode ser fornecido por um afunilamento de uma pista condutora, que é destruída no final do tratamento por um pulso de alta corrente fornecido naquele ponto, pois tem uma resistência maior do que o restante da pista condutora e, portanto, aquece mais rapidamente.
[00187] Em uma modalidade, um aplicador de plasma para gerar um plasma frio para o tratamento de superfícies humanas ou animais ou técnicas compreende um núcleo eletrotécnico plano com pelo menos uma estrutura de eletrodo e uma camada isolante. O aplicador de plasma, além disso, compreende um aparelho de encaixe que é conec- tado de forma eletricamente condutiva a pelo menos uma estrutura de eletrodo, a fim de transmitir um sinal de tensão a pelo menos esta es- trutura de eletrodo. O aparelho de encaixe é preferencialmente realizado para garantir o uso único do aplicador de plasma em virtude do aparelho de encaixe ter pelo menos um componente mecânico e/ou elétrico que é projetado de uma forma tal que, como consequência de um primeiro uso do aplicador de plasma, o mesmo altera suas propriedades técnicas de uma forma tal que o aparelho de encaixe, após a primeira utilização, não pode mais transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a pelo menos uma estrutura de eletrodo.
[00188] A garantia de uso único pode assim ser realizada, por exem- plo, em virtude de um componente elétrico ser destruído devido ao fluxo de corrente como consequência da primeira utilização ou em virtude de um componente mecânico ou elétrico ser destruído ao separar mecani- camente o aparelho de encaixe de um aparelho de inserção comple- mentar.
[00189] O componente mecânico e/ou elétrico mudar sua estrutura de uma forma tal, como consequência de um primeiro uso do aplicador de plasma, que o aparelho de encaixe não possa mais transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a pelo menos uma estrutura de eletrodo após a primeira utilização, garante que o apli- cador de plasma só pode ser usado uma vez. Vantajosamente, isso pode impedir o uso múltiplo de um aplicador de plasma já usado, que já não atende a certas exigências em relação à higiene como consequên- cia do primeiro uso. Consequentemente, é garantido que uma ferida seja tratada apenas por um aplicador de plasma não utilizado.
[00190] O uso de um aplicador de plasma se refere a um tratamento de plasma sendo realizado. Ou seja, um sinal de tensão é inicialmente fornecido com o auxílio de uma unidade de fonte de alimentação, em que o dito sinal de tensão é transmitido para uma estrutura de eletrodo com o objetivo de inflamar um plasma.
[00191] Um recurso correspondente de uso único também pode ser realizado por uma reação química com oxigênio ou nitrogênio atmosfé- rico ou uma reação eletroquímica que é induzida por um sinal de tensão aplicado durante um tratamento de plasma. A título de exemplo, um si- nal de tensão aplicado pode desencadear uma reação eletroquímica nas pistas condutoras, que consistem, por exemplo, de verniz condutor de prata, de um aparelho de encaixe, que acelera uma oxidação de uma pista condutora, em particular nas faces de contato expostas e, conse- quentemente, aumenta a resistência neste ponto. Um sinal de tensão para operar um aplicador de plasma é mudado significativamente como resultado de uma resistência aumentada ou reduzida. Essa mudança pode ser detectada em uma unidade de fonte de alimentação e uma liberação do sinal de tensão pode, como consequência, ser impedida. Assim, em geral, é concebível, por exemplo, que uma oxidação ou ni- tretação da pista condutora no ar reduza sua condutividade e, assim, altere um sinal de tensão de tal forma em termos de, por exemplo, am- plitude, frequência e/ou perfil de sinal (por exemplo, como resultado do fato de que uma oscilação senoidal pura não está mais presente) que possa ser detectada como um sinal de falha por uma unidade de fonte de alimentação e leve a um término automático da emissão de energia pela unidade de fonte de alimentação. Uma opção adicional consiste em explorar uma reação eletroquímica, induzida por um sinal de tensão, para mudar a pista condutora do aparelho de encaixe, o que faz com que o sinal de tensão seja mudado de uma forma tal em termos de, por exemplo, amplitude, frequência e/ou perfil de sinal (por exemplo, como resultado do fato de que uma oscilação senoidal pura não está mais presente) que possa ser detectado como um sinal de falha por uma uni- dade de fonte de alimentação e leve a um término automático da emis- são de energia pela energia unidade de fonte de alimentação.
[00192] Um aparelho de encaixe é preferencialmente realizado de uma maneira tal que possa ser conectado de forma eletricamente con- dutiva e mecânica a um aparelho de inserção que tem uma configuração complementar ao aparelho de encaixe. O componente mecânico do aparelho de encaixe pode ser realizado de uma forma tal que mude sua estrutura de tal forma durante a separação mecânica do aparelho de encaixe do aparelho de inserção que, após a separação, não seja mais possível conectar de forma eletricamente condutiva o aparelho de en- caixe ao aparelho de inserção com o objetivo de transferir uma alta ten- são.
[00193] Essa mudança mecânica pode compreender a quebra de ter- minais de um contato de fixação ou de elementos de travamento e/ou um arranhão e/ou corte da estrutura condutora do aparelho de encaixe.
[00194] Um aparelho de encaixe pode compreender pelo menos um elemento de travamento que é configurado e disposto de uma forma tal que o mesmo trave com o aparelho de inserção quando o aparelho de encaixe está conectado ao dito aparelho de inserção e se torne irrever- sivelmente inutilizável quando o aparelho de aparelho de encaixe for separado de um aparelho de inserção.
[00195] Uma conexão mecanicamente estável é preferencialmente estabelecida conectando-se um aparelho de inserção ao aparelho de encaixe, que só pode ser separado novamente por uma aplicação ativa de força por uma pessoa. A força exigida para este fim encontra-se tipi- camente entre 5 e 50 N, preferencialmente entre 10 e 30 N. De modo que um componente mecânico do aparelho de encaixe mude sua estru- tura de tal maneira como consequência do primeiro uso do aplicador de plasma que o núcleo eletrotécnico não possa mais formar um campo elétrico suficientemente forte para inflamar um plasma, podem ser to- madas providências, por exemplo, para que os elementos de trava- mento do aparelho de encaixe se quebrem ou sejam destruídos. Con- sequentemente, não é mais possível estabelecer uma conexão mecâ- nica estável entre o aparelho de encaixe e o aparelho de inserção. Con- sequentemente, após a separação, ou seja, como uma consequência do primeiro uso, o núcleo eletrotécnico conectado ao aparelho de en- caixe não é mais capaz de formar um campo elétrico suficientemente forte para inflamar um plasma.
[00196] Em uma modalidade de um aplicador de plasma, um apare- lho de encaixe ou um núcleo eletrotécnico compreende um componente elétrico que muda sua estrutura de uma forma tal, como uma conse- quência do primeiro uso de um aplicador de plasma, que o aparelho de encaixe ou o núcleo eletrotécnico não possa mais gerar um campo elé- trico suficiente para inflamar um plasma após o uso pela primeira vez. A título de exemplo, o aparelho de encaixe pode compreender uma pista condutora que se destina a transmitir um sinal de tensão para uma es- trutura de eletrodo e que é destruída por um pulso de alta corrente no final do primeiro uso de um aplicador de plasma. Depois disso, o apare- lho de encaixe não pode mais transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para uma estrutura de eletrodo.
[00197] Em uma modalidade de um aplicador de plasma, uma se- gunda estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico compreende uma região que é destruída por um pulso de alta corrente no final de um primeiro uso de um aplicador de plasma. Depois disso, o núcleo eletro- técnico não pode mais formar um campo elétrico suficientemente forte para inflamar um plasma.
[00198] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um aparelho de encaixe que pode ser eletricamente condutor e meca- nicamente conectado a um aparelho de inserção com uma configuração complementar ao aparelho de encaixe, em que o componente mecânico do aparelho de encaixe muda suas propriedades técnicas de tal forma, durante a separação mecânica do aparelho de encaixe do aparelho de inserção que, após a separação, que não é mais possível reunir de forma eletricamente condutiva o aparelho de encaixe e o aparelho de inserção para fins de transmissão de um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma. A mudança das propriedades técnicas do compo- nente mecânico compreende preferencialmente uma ruptura, arranhão ou corte dos terminais de um contato de fixação.
[00199] De preferência, um aparelho de encaixe ou um núcleo ele- trotécnico de um aplicador de plasma são projetados de uma forma tal que os mesmos sejam mudados de tal forma, como uma consequência de um fluxo de corrente no final do primeiro uso, que o aparelho de en- caixe, após o primeiro uso, não possa mais transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico.
[00200] Uma unidade de fonte de alimentação pode ser configurada para fornecer um pulso de alta corrente no final de um tratamento de plasma, pulso de corrente este que muda ou destrói partes de uma pista condutora no aparelho de encaixe de modo que, quando uma unidade de fonte de alimentação é conectada novamente, não é mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a pelo menos uma estrutura de eletrodo no núcleo eletrotécnico. De pre- ferência, a unidade de fonte de alimentação combinada com o aplicador de plasma emite automaticamente um pulso de corrente excessivo no final do tratamento de plasma, preferencialmente por muito menos de um segundo, preferencialmente na faixa de milissegundos ou mesmo microssegundos. Para garantir que as partes correspondentes de uma pista condutora no aparelho de encaixe sejam destruídas, a intensidade da corrente do pulso de corrente fornecida é preferencialmente esco- lhida de uma forma tal que o ponto de fusão da pista condutora do apa- relho de encaixe seja significativamente excedido e a pista condutora seja destruída. Vantajosamente, isso garante o uso único de um aplica- dor de plasma.
[00201] De preferência, um aparelho de encaixe tem uma pista con- dutora que leva de uma face de contato no aparelho de encaixe a pelo menos uma estrutura de eletrodo, em que essa pista condutora pode ser destruída em pelo menos um ponto por uma corrente com uma in- tensidade de corrente que é maior do que uma intensidade de corrente que ocorre durante a operação de geração do plasma. O pelo menos um ponto tem preferencialmente uma resistência elétrica mais alta do que o restante da pista condutora e/ou o pelo menos um ponto tem uma estabilidade térmica mais baixa do que o restante da pista condutora e/ou o pelo menos um ponto tem um afunilamento com uma seção transversal menor da pista condutora do que o restante da pista condu- tora. Uma pista condutora correspondente consiste preferencialmente em, por exemplo, verniz condutor de prata, metal, filme de metal, um polímero enriquecido com partículas condutoras ou um polímero condu- tor.
[00202] Em particular, o pelo menos um ponto tem uma resistência elétrica mais alta do que o restante da pista condutora. Como alternativa ou além disso, o pelo menos um ponto também pode ter uma estabili- dade térmica mais baixa do que o restante da pista condutora. Ainda como outra alternativa ou além da mesma, o pelo menos um ponto tam- bém pode ter um afunilamento com uma seção transversal menor do que o restante da pista condutora. No ponto da pista condutora com maior resistência elétrica do que no restante da pista condutora, o au- mento da intensidade da corrente leva a um forte aquecimento da pista condutora e, consequentemente, à destruição da pista condutora. Isso garante que o aplicador de plasma só possa ser usado uma vez.
[00203] O uso único de um aplicador de plasma com um aparelho de encaixe com uma pista condutora correspondente também pode ser re- alizado por um ponto da pista condutora com a mesma resistência que o restante da pista condutora, mas com uma estabilidade térmica infe- rior. Se um pulso de corrente com uma intensidade de corrente aumen- tada for fornecido, preferencialmente no final do tratamento de plasma com uma duração significativamente inferior a aproximadamente 1 se- gundo, a carga térmica na pista condutora é aumentada. O ponto com uma estabilidade térmica inferior pode ser configurado de uma forma tal que o mesmo derreta como resultado do pulso de corrente fornecido, tendo como resultado que o uso único de um aplicador de plasma é garantido.
[00204] O uso único de um aplicador de plasma também pode ser garantido por um afunilamento da pista condutora correspondente. Como resultado do afunilamento, a resistência nesse ponto é aumen- tada de uma forma tal que a intensidade de corrente elevada fornecida no final do tratamento leve à fusão da pista condutora nesse ponto. A sobretensão, portanto, leva ao aumento da temperatura no ponto com o afunilamento e, consequentemente, à fusão da pista condutora. A título de exemplo, a dimensão da pista condutora pode ser calculada de acordo com o material empregado de uma forma tal que, dado um de- terminado fluxo de corrente ao longo de um período de tempo definido, o material aumente para uma temperatura que preferencialmente se si- tua significativamente acima do ponto de fusão do material, de modo que a pista condutora derreta neste ponto.
[00205] De preferência, a pista condutora tem uma altura inferior a 0,8 mm e uma largura inferior a 1 cm. Essas pistas condutoras podem ser realizadas por meio de, por exemplo, impressão de tela com um material condutor, causticação direcionada de pistas condutoras ou pis- tas condutoras impressas (por exemplo, eletrônica impressa).
[00206] Um aparelho de encaixe pode ter um chip de memória ele- trônica não volátil que pode ser lido por um contato correspondente no aparelho de inserção quando o aparelho de inserção e o aparelho de encaixe estão interconectados, em que o chip de memória eletrônica não volátil fornece informações que sinalizam a unidade de fonte de ali- mentação conectada para impedir a saída de energia para uma aplica- ção de plasma conectada durante a operação.
[00207] Um aparelho de encaixe compreende um transponder RFID em uma modalidade. O transponder RFID é realizado de uma forma tal que possa ser lido por um leitor integrado em um aparelho de inserção quando o aparelho de inserção correspondente e o aparelho de encaixe estão interconectados.
[00208] O transponder RFID fornece, preferencialmente, informa- ções que impedem a liberação de alta tensão por uma unidade de fonte de alimentação. É concebível que uma identidade seja atribuída a um aplicador de plasma, identidade essa que pode ser lida por um leitor integrado em um aparelho de inserção. A título de exemplo, em um con- trolador de uma unidade de fonte de alimentação, identificadores únicos e individuais para cada aplicador de plasma que foi conectado à unidade de fonte de alimentação podem ser armazenados. Assim, o leitor pode identificar se um aplicador de plasma já foi ou não utilizado. Como alter- nativa ou além disso, também pode ser fornecido um dispositivo de lei- tura/gravação para mudar ou definir um valor armazenado no transpon- der RFID - por exemplo, um sinalizador - que indica que o aplicador de plasma foi usado.
[00209] Em uma modalidade, um aplicador de plasma é realizado para armazenar um código especial ou valor hash em uma memória. De preferência, uma unidade de fonte de alimentação é configurada para definir certos valores para parâmetros de tratamento com base em um código de leitura ou valor hash e emitir durante a operação um sinal de tensão apropriado para um aplicador de plasma conectado à unidade de fonte de alimentação. De preferência, uma unidade de fonte de ali- mentação é configurada para ler os valores dos parâmetros de trata- mento para o tamanho de um aplicador de plasma ou em relação ao tipo de doença que deve ser tratada pelo aplicador de plasma conectado a partir de uma lista armazenada na unidade de fonte de alimentação. De preferência, uma unidade de fonte de alimentação é configurada para verificar se um aplicador de plasma de leitura já foi usado ou se é ade- quado para um determinado tratamento de plasma. Após um tratamento de plasma, um dispositivo de leitura/gravação é preferencialmente con- figurado para destruir o chip com o valor ou para gravar um novo valor na memória. O novo valor contém, por exemplo, apenas zeros, de modo que o aplicador de plasma específico não possa mais ser usado para um tratamento de plasma, uma vez que a unidade de fonte de alimen- tação conectada é preferencialmente configurada para recusar a libera- ção de um sinal de tensão caso números inválidos sejam usados.
[00210] Um transponder RFID também pode ser integrado não em um aparelho de encaixe, mas no aplicador de plasma restante.
[00211] Em uma configuração, um aparelho de encaixe tem um chip de memória eletrônica não volátil, por exemplo, uma EPROM (memória somente leitura programável apagável), que pode ser lida por um con- tato correspondente no aparelho de inserção quando o aparelho de in- serção e o aparelho de encaixe estão interconectados. Semelhante ao caso de um transponder RFID, um valor pode ser gravado no chip de memória eletrônica não volátil na primeira utilização, em que o dito valor indica durante a leitura subsequente que o aplicador de plasma já foi usado. Uma liberação de alta tensão por uma unidade de fonte de ali- mentação não pode mais ser implantada após o primeiro uso. Em con- junto com um controlador correspondente, isso pode impedir o uso múl- tiplo.
[00212] Em vez de um aparelho de encaixe, um chip de memória ele- trônica não volátil também pode ser integrado no aplicador de plasma restante.
[00213] As modalidades de um aparelho de inserção são descritas abaixo. Um aparelho de inserção representa uma unidade complemen- tar a um aparelho de encaixe e é realizado para estabelecer uma cone- xão mecânica e elétrica segura com um aparelho de encaixe.
[00214] Consequentemente, um aparelho de inserção representa um aparelho de contato de encaixe complementar com uma configuração que é complementar a um aparelho de encaixe. Assim, um aparelho de inserção representa uma contraparte de um aparelho de encaixe. Um aparelho de inserção pode, preferencialmente, ser disposto em uma ex- tremidade de um cabo ou ser parte de uma unidade de fonte de alimen- tação.
[00215] De preferência, é previsto um aparelho de inserção que é realizado para transmitir um sinal de tensão a um aparelho de encaixe, encaixado com o aparelho de inserção, de um núcleo eletrotécnico, em particular um aplicador de plasma.
[00216] Um aparelho de inserção é preferencialmente configurado de uma maneira tal que o mesmo possa ser conectado de forma eletrica- mente condutiva a um aparelho de encaixe complementar. Ao reunir um aparelho de encaixe e um aparelho de inserção, uma conexão elétrica e uma conexão mecânica são estabelecidas ao mesmo tempo. Aqui, as pistas condutoras do aparelho de inserção e do aparelho de encaixe são eletricamente isoladas para o exterior no estado reunido.
[00217] Um aparelho de inserção pode ser conectado a um cabo. Por meio do cabo, um aplicador de plasma conectado a um aparelho de in- serção correspondente pode ser conectado a uma unidade de fonte de alimentação predominantemente estacionária. Uma unidade de fonte de alimentação predominantemente estacionária também pode compreen- der um controlador. Um aparelho de inserção pode ser separado do aparelho de encaixe a qualquer momento, e assim, junto com um apli- cador de plasma, o usuário do dito aplicador de plasma pode se mover independentemente da unidade de fonte de alimentação e do aparelho de inserção. No caso em que um aparelho de encaixe é configurado na forma de um plugue, em particular na forma de um cartão com chip, um aparelho de inserção é configurado como um acoplamento correspon- dente para receber o aparelho de encaixe.
[00218] Um aparelho de inserção também pode ser configurado como parte de uma unidade de fonte de alimentação móvel, que prefe- rencialmente compreende um armazenamento de energia, por exemplo, uma bateria, um acumulador ou um capacitor. Então, um aparelho de inserção é tipicamente conectado eletricamente a um armazenamento de energia a fim de fornecer energia elétrica fornecida pelo armazena- mento de energia a um núcleo eletrotécnico - quando o dito aparelho de inserção está conectado a um aparelho de encaixe. Vantajosamente, um aparelho de inserção não precisa ser conectado a um cabo compa- rativamente longo nesse caso, a fim de conectar o aparelho de inserção a uma unidade de fonte de alimentação predominantemente estacioná- ria.
[00219] Para fornecer um sinal de tensão a um aplicador de plasma, um aparelho de inserção de uma unidade de fonte de alimentação móvel pode ser conectado a um aparelho de encaixe e pode ser separado desse último novamente após um tratamento de plasma. No estado reu- nido, uma tensão DC fornecida por um armazenamento de energia é então transformada por meio de um circuito elétrico integrado na uni- dade de fonte de alimentação móvel em um sinal de tensão suficiente para inflamar o plasma e o dito sinal de tensão suficiente é transferido para o aparelho de encaixe através do aparelho de inserção.
[00220] Uma vez que uma bateria ou um acumulador tipicamente for- nece uma tensão DC de poucos volts, um circuito elétrico pode ser for- necido em um aplicador de plasma ou em uma unidade de fonte de ali- mentação móvel, em que o dito circuito elétrico transforma a tensão DC fornecida pela bateria ou acumulador da unidade de fonte de alimenta- ção compacta e móvel em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma, sinal de tensão suficiente este que é transferido para pelo menos uma estrutura de eletrodo para fins de inflamar um plasma. Van- tajosamente, uma unidade de fonte de alimentação móvel forma uma unidade pequena e compacta em comparação com o aplicador de plasma, em que a dita unidade pequena e compacta é capaz de ser carregada por longas distâncias e por períodos de tempo relativamente longos de uma pluralidade de semanas, mesmo que esteja conectada ao aplicador de plasma.
[00221] Assim, no estado reunido, o aplicador de plasma e a unidade de fonte de alimentação móvel, que é comparativamente pequena em comparação com o aplicador de plasma, formam uma unidade que pode ser facilmente transportada por um paciente durante um tratamento de plasma. Assim, uma unidade de fonte de alimentação móvel representa uma unidade de fonte de alimentação autônoma que não torna neces- sário conectar uma unidade de fonte de alimentação usada predomi- nantemente de forma estacionária, como um gerador de alta tensão, ao aplicador de plasma por meio de um cabo e um aparelho de inserção a fim de transmitir um sinal de tensão para pelo menos uma estrutura de eletrodo e inflamar um plasma.
[00222] Isso dá ao usuário de uma unidade de fonte de alimentação móvel, independência de uma unidade de fonte de alimentação usada predominantemente de forma estacionária, que é grande em compara- ção com uma unidade de fonte de alimentação móvel, conectada a uma unidade de fonte de alimentação local, como um gerador de alta tensão, e tipicamente transportado apenas em curtas distâncias, por exemplo, dentro de um hospital. Em particular, um usuário de uma unidade de fonte de alimentação móvel pode tomar uma decisão sobre quando e onde deseja realizar um tratamento de plasma. Um usuário de uma uni- dade de fonte de alimentação móvel é, portanto, independente de infra- estrutura local, tal como a rede elétrica e as tomadas disponíveis. Isso é particularmente vantajoso se um usuário estiver, por um período de tempo relativamente longo de várias semanas, em uma área onde o hospital mais próximo fica distante e, além disso, apenas pouca baga- gem pode ser transportada, ou, em geral, para o setor de cuidados do- miciliares, ou seja, a aplicação fora de uma clínica ou em um ambiente não clínico.
[00223] Um sinal de tensão fornecido por uma unidade de fonte de alimentação móvel pode ser transferido de um aparelho de inserção para um aparelho de encaixe, por exemplo, estabelecendo-se acopla- mento galvânico.
[00224] Em uma modalidade adicional, um aplicador de plasma não tem nenhum aparelho de encaixe e, portanto, não pode ser conectado por meio de um aparelho de inserção a uma unidade de fonte de ali- mentação predominantemente estacionária ou móvel. Para fornecer um sinal de tensão, um armazenamento de energia, por exemplo, uma ba- teria ou um acumulador, pode ser integrado no próprio aplicador de plasma e pode ser conectado eletricamente a pelo menos uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico por meio de um circuito elétrico adequado, por exemplo, um circuito oscilador de bloqueio, com a finali- dade de gerar uma tensão suficiente para inflamar um plasma.
[00225] Caso um acumulador ou um capacitor seja integrado em um aplicador de plasma com um aparelho de encaixe, o acumulador ou o capacitor pode ser carregado conectando-se o aparelho de encaixe a uma unidade de fonte de alimentação. Aqui, também, o acumulador ou o capacitor é conectado eletricamente a pelo menos uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico por meio de um circuito elétrico ade- quado, por exemplo, um circuito oscilador de bloqueio, com a finalidade de gerar uma tensão suficiente para inflamar um plasma. Ao comutar um contato de comutação, a energia armazenada no acumulador ou no capacitor pode, então, ser emitida para pelo menos uma estrutura de eletrodo em um momento posterior.
[00226] Em uma modalidade, um aplicador de plasma não compre- ende um aparelho de encaixe, mas um aparelho de recepção de ener- gia, que contém um ou mais arranjos de bobina receptora em cada caso. Por meio de uma unidade de fonte de alimentação móvel contendo um ou mais arranjos de bobina transmissora, a energia elétrica pode ser transferida dos arranjos de bobina transmissora na unidade de fonte de alimentação móvel para os arranjos de bobina receptora no aplicador de plasma por meio de indução eletromagnética. É igualmente concebí- vel que uma disposição de bobina transmissora esteja contida em um aparelho de distribuição de energia. O aparelho de distribuição de ener- gia é preferencialmente conectado a um cabo e pode ser conectado a uma unidade de fonte de energia estacionária. A energia elétrica forne- cida por uma unidade de fonte de alimentação estacionária pode ser transferida de um arranjo de bobina transmissora no aparelho de distri- buição de energia para um arranjo de bobina receptora no aplicador de plasma por meio de indução eletromagnética. Vantajosamente, o apa- relho de distribuição de energia pode ser completamente envolvido por, por exemplo, um silicone ou uma laca nesta modalidade e é possível dispensar com contatos elétricos livremente acessíveis, tanto dentro quanto sobre o aparelho de dispensação de energia e dentro ou sobre o aplicador de plasma. Um aplicador de plasma configurado dessa forma e um aparelho de dispensação de energia podem ser limpos, de- sinfetados e esterilizados ou autoclavados de forma comparativamente fácil.
[00227] Em contraste com as variantes descritas acima de um apli- cador de plasma com um aparelho de encaixe, que pode ser reunido com um aparelho de inserção, uma transferência de energia na variante de um aplicador de plasma descrito aqui é implantada não por meio de acoplamento galvânico, mas por meio de indução eletromagnética. De preferência, um circuito elétrico realizado para gerar um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma é fornecido no aplicador de plasma ou em uma unidade de fonte de alimentação móvel, ou em ambos. A título de exemplo, um circuito elétrico que transforma uma tensão DC de alguns volts, como é tipicamente fornecida por acumuladores e/ou baterias, em um sinal de tensão AC adequado para transferência indu- tiva, pode ser fornecido em uma unidade de fonte de alimentação móvel. Então, um circuito elétrico que transforma o sinal de tensão induzido nos arranjos da bobina receptora contidos no aplicador de plasma em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma pode ser integrado no aplicador de plasma.
[00228] Em uma modalidade adicional, um aplicador de plasma não compreende um aparelho de encaixe, mas em vez disso, compreende um armazenamento de energia integrado, por exemplo, um acumulador ou um capacitor e um arranjo de bobina integrado para carregar o acu- mulador ou o capacitor. Nesta modalidade, um circuito elétrico que transforma a corrente induzida no arranjo de bobina no aplicador de plasma em um sinal de tensão de corrente suficiente para carregar um acumulador ou capacitor pode ser ainda integrado no aplicador de plasma. Um aplicador de plasma correspondente não exige nenhum aparelho de encaixe e pode ser configurado sem contatos elétricos acessíveis livremente. Um aplicador de plasma configurado dessa ma- neira pode ser limpo, desinfetado e esterilizado ou autoclavado de forma comparativamente fácil. Além disso, esse aplicador de plasma pode ser implantado, por exemplo, no corpo humano ou animal. Em uma modali- dade, um aplicador de plasma é revestido ou equipado com um ou mais ingredientes ativos, eficazes em forma farmacológica e/ou não farmaco- lógica, na forma de moléculas individuais, aglomerados ou comprimidos (por exemplo, morfinas, coagulantes, citocinas, hidrocoloides).
[00229] Em modalidades de um aplicador de plasma sem um apare- lho de encaixe, um núcleo eletrotécnico pode ser configurado com os recursos acima mencionadas, em particular com os recursos especifi- cados em relação à estrutura de eletrodo e à camada isolante. Mesmo nessas modalidades sem um aparelho de encaixe, é possível garantir o uso único do aplicador de plasma, mudando-se os componentes elétri- cos ou mecânicos. A título de exemplo, um componente elétrico desti- nado a transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para pelo menos uma estrutura de eletrodo pode ser mudado de uma forma tal como uma consequência de um primeiro uso que, após o pri- meiro uso, nenhum sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma possa mais ser transmitido para uma estrutura de eletrodo.
[00230] De preferência, um aplicador de plasma para o tratamento de superfícies humanas ou animais compreende um invólucro, em par- ticular feito de um material biocompatível, tal como silicone médico, uma laca, um adesivo, um filme, um têxtil, um têxtil de compressão ou um material orgânico, tal como gaze, celulose ou algodão. Um invólucro que compreende uma combinação dos materiais acima mencionados tam- bém pode ser vantajoso para algumas aplicações. Em particular, um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma pode ser envolvido in- teiramente ou pelo menos em parte por um invólucro.
[00231] Normalmente, um invólucro compreende uma pluralidade de encapsulamentos de silicone sobremoldados. No lado voltado para o lado a ser tratado, é previsto um primeiro encapsulamento de silicone sobremoldado, que cumpre a função de isolamento elétrico. No lado vol- tado para longe do lado a ser tratado, o primeiro encapsulamento de silicone sobremoldado é seguido por um segundo encapsulamento de silicone sobremoldado, que compreende um silicone condutor elétrico. Esse segundo encapsulamento de silicone sobremoldado está no po- tencial de terra e cumpre a função de proteção de contato, de modo que um aplicador de plasma possa ser tocado sem que surja uma avaria elétrica entre o núcleo eletrotécnico e o potencial de referência direta- mente aplicado ao lado externo ou um potencial de referência virtual na forma da superfície a ser tratada. Um terceiro encapsulamento de sili- cone sobremoldado feito de um silicone eletricamente isolante é apli- cado ao segundo encapsulamento de silicone sobremoldado. A produ- ção de tais invólucros exige uma integração vertical comparativamente alta.
[00232] Um invólucro pode ser formado, por exemplo, com o uso de um método de moldagem por injeção, um método de imersão ou um método de pintura. O uso de outros métodos de revestimento, tais como revestimento de plasma ou revestimento de parileno, também é conce- bível. Um invólucro pode ser configurado de forma completa ou apenas parcial. A título de exemplo, pode ser vantajoso se o lado voltado para a ferida não for fechado ou apenas parcialmente fechado e o lado vol- tado para longe da ferida for completamente fechado.
[00233] Em uma modalidade preferencial, um núcleo eletrotécnico compreende uma primeira camada isolante, uma primeira estrutura de eletrodo, que é aterrada durante a operação, uma segunda camada iso- lante, que é configurada para isolar galvanicamente a primeira estrutura de eletrodo de uma segunda estrutura de eletrodo, uma segunda estru- tura de eletrodo, que é acionada durante a operação por um sinal de tensão que é fornecido por uma unidade de fonte de alimentação e su- ficiente para inflamar um plasma, uma terceira camada isolante, que é configurada para isolar galvanicamente a segunda estrutura de eletrodo de uma terceira estrutura de eletrodo e uma terceira estrutura de ele- trodo, que é aterrada durante a operação. Esse núcleo eletrotécnico já fornece proteção de contato por si só. Assim, a proteção de contato não precisa ser assegurada posteriormente por meio de um invólucro apli- cado. Um núcleo eletrotécnico de acordo com essa modalidade prefe- rencial pode preferencialmente ser realizado por um invólucro na forma de apenas uma única camada de silicone, que pode ser vantajosamente configurada para ser comparativamente fina e, portanto, flexível. Em particular, o invólucro não precisa mais garantir proteção de contato, uma vez que essa função é cumprida pela estrutura do primeiro e ter- ceiro eletrodos. Assim, esse invólucro é comparativamente simples e pode ser aplicado em apenas uma etapa de produção. Isso reduz signi- ficativamente a integração vertical durante a produção de um aplicador de plasma em comparação com um aplicador de plasma com um invó- lucro convencional, como descrito acima, uma vez que um invólucro deve ser aplicado separadamente a cada núcleo eletrotécnico. Um nú- cleo eletrotécnico configurado como descrito no presente documento, pelo contrário, pode ser produzido de forma comparativamente fácil em grande número por meio do uso de máquinas de laminação e punciona- mento subsequente.
[00234] Um núcleo eletrotécnico de acordo com essa modalidade preferencial pode ser integrado em vários invólucros em forma tal como módulo, sem exigências particulares que devem ser colocados em um invólucro usado. A título de exemplo, um invólucro possível pode ser realizado por um gesso convencional sem sobremoldagem, no qual o núcleo eletrotécnico é integrado. Um invólucro possível também pode ser realizado por uma almofada absorvente, na qual o núcleo eletrotéc- nico é integrado. Um invólucro possível também pode ser realizado por meias de compressão. O núcleo eletrotécnico também pode ser costu- rado em uma bolsa ou ligado adesivamente com seu lado traseiro a uma manta, um pano, um filme térmico, etc., ou pode ser integrado em um sistema de terapia de invólucro de ferida auxiliado por vácuo (VAC).
[00235] Um invólucro pode ter uma modalidade estruturada, por exemplo, na forma de uma malha ou em forma de diamante ou com recortes. Esse invólucro estruturado é particularmente vantajoso se for configurado em um lado voltado para o corpo de um núcleo eletrotécnico com, por exemplo, um silicone adesivo (silicone não completamente vul- canizado) ou qualquer outro adesivo, por exemplo, à base de acrilato ou de poliuretano. Além disso, um invólucro pode ser realizado de uma forma tal que um invólucro esteja presente em certas regiões em torno de um núcleo eletrotécnico (a forma pode ser, por exemplo, redonda, poligonal, em formato de L, em formato de M, em formato de E, em for- mato de X ou então em formato de O) e nenhum invólucro esteja pre- sente em outras regiões.
[00236] Um invólucro também pode ser realizado de uma forma tal que, fora de uma região em que um plasma é gerado, pelo menos uma Resistência à ruptura e, portanto, a segurança de toque seja garantida entre a pelo menos uma estrutura de eletrodo acionada durante o uso por um sinal de tensão e um potencial de referência de forma potencial- mente direta no lado externo ou um potencial de referência virtual na forma da superfície a ser tratada. Para garantir isso, é necessário com- binar as propriedades elétricas de um material de invólucro e sua es- pessura com o potencial elétrico presente em um núcleo eletrotécnico. Vantajosamente, um fator de segurança adicional é levado em conside- ração. A título de exemplo, o silicone de grau médico tipicamente tem uma resistência à ruptura de aproximadamente 20 kV por mm. Se um invólucro correspondente produzido de silicone de grau médico tiver uma espessura de 1 mm, é possível, por exemplo, aplicar uma tensão de 20 kV sem que ocorram danos ou avarias ao material. No entanto, a resistência à ruptura difere de material para material. Existem lacas es- peciais que têm uma resistência à ruptura significativamente maior do que o silicone de grau médico. Supondo que um sinal de tensão usado para acionar pelo menos uma estrutura de eletrodo tenha uma ampli- tude de 5 kV, ou seja, 10 kV pico a pico. Então, a resistência à ruptura de uma camada de silicone com uma espessura de 250 µm seria sufici-
ente para impedir a ruptura do material. O fator de segurança é tipica- mente dado por um fator de 2. No caso em que um invólucro consiste em silicone de grau médico e a amplitude do sinal de tensão usado para acionar a estrutura de eletrodo é de 5 kV, um invólucro deve ter uma espessura de pelo menos 500 µm. No caso de invólucros produzidos de materiais diferentes, tais como, por exemplo, lacas e/ou poliuretano, é vantajoso combinar a espessura com as propriedades do material usado para o invólucro.
[00237] Um invólucro também pode ser formado por um têxtil, por exemplo na forma de uma bolsa. Um núcleo eletrotécnico pode ser pres- sionado ou então costurado/estampado na dita bolsa. Essa bolsa com um núcleo eletrotécnico inserido ou costurado/estampado pode ser preso diretamente a uma superfície a ser tratada.
[00238] Uma bolsa com um núcleo eletrotécnico inserido ou costu- rado/estampado também pode ser parte de outro têxtil. A bolsa pode ser costurada ou rebitada ou fixada de forma segura, por exemplo, por meio de um adesivo, um velcro ou uma fita adesiva, ao outro têxtil.
[00239] Um invólucro de um núcleo eletrotécnico também pode ser configurado de uma forma tal que o mesmo tenha propriedades de ab- sorção. Um invólucro com propriedades de absorção consiste preferen- cialmente em pelo menos uma camada de materiais para absorção de líquido e/ou remoção de líquido e/ou distribuição de líquido, tais como, por exemplo, têxtil, gaze, espuma PU, camada distribuidora, camada de contato com a ferida, estrutura espaçadora. De preferência, esse invó- lucro com propriedades de absorção fica situado no lado voltado para o corpo de um aplicador de plasma.
[00240] Um invólucro também pode ser formado por uma combina- ção dos materiais acima mencionados (por exemplo, têxteis, silicone, lacas, adesivos, revestimento de parileno, revestimento de plasma, gaze, almofada). Essa combinação pode ser uma mistura dos materiais
(por exemplo, têxtil e silicone como matriz composta) e na forma empi- lhada (por exemplo, diferentes têxteis em camadas de silicone, gaze, espuma de PU, camada distribuidora, camada de contato com a ferida) ou um próximo ao outro ou em lados diferentes. A título de exemplo, um invólucro pode ser formado por um filme fino no lado voltado para longe do paciente, enquanto um invólucro no lado voltado para o paciente con- siste em uma ou mais camadas de têxtil e/ou um ou mais absorventes. Dependendo do uso, um núcleo eletrotécnico também pode ser fixado a uma superfície a ser tratada por meio de um invólucro na forma de bandagem. Nesse caso, um núcleo eletrotécnico é colocado na superfí- cie a ser tratada e fixado ali por meio de uma bandagem de fixação en- rolada uma pluralidade de vezes em torno do núcleo eletrotécnico situ- ado na superfície a ser tratada e na dita superfície a ser tratada.
[00241] Os têxteis acima mencionados para um invólucro podem consistir em materiais tanto orgânicos quanto inorgânicos e numa mis- tura de ambos os materiais.
[00242] Se um aplicador de plasma compreender um aparelho de en- caixe, um invólucro do aparelho de encaixe e de um núcleo eletrotécnico é preferencialmente intertravado e sem inclusões de ar. Se um invólucro for formado por um têxtil ou material com propriedades absorventes, um invólucro intertravado sem inclusões de ar não é necessário. Um invó- lucro de um aparelho de encaixe é vantajosamente projetado levando em consideração um aparelho de inserção correspondente e o tipo de acoplamento entre os mesmos. A título de exemplo, se acoplamento galvânico for fornecido entre um aparelho de encaixe e um aparelho de inserção, pelo menos as faces de contato elétrico do aparelho de en- caixe devem ser livremente acessíveis às faces de contato elétrico do aparelho de inserção. No entanto, se for fornecido acoplamento indutivo por meio de indução eletromagnética, um aplicador de plasma também pode ser completamente fechado por um invólucro.
[00243] Caso um aplicador de plasma não tenha nenhum aparelho de encaixe e um armazenamento de energia for integrado diretamente no aplicador de plasma, o aplicador de plasma também pode ser com- pletamente fechado por um invólucro.
[00244] Um invólucro de um aplicador de plasma pode ser enrique- cido e/ou revestido com um ou mais ingredientes ativos, eficazes de maneira farmacológica e/ou não farmacológica, na forma de moléculas individuais, aglomerados ou comprimidos (por exemplo, morfinas, coa- gulantes, citocinas, hidrocoloides). O enriquecimento com um ingredi- ente ativo farmacologicamente eficaz pode ser vantajoso, em particular, se um aplicador de plasma deve ser integrado em um corpo humano ou animal.
[00245] Um aplicador de plasma pode ser envolvido por gaze pura ou celulose ou materiais comparáveis. Em uma modalidade correspon- dente, um aplicador de plasma não é envolvido por um material biocom- patível, tal como silicone; em vez disso, um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma é tecido ou costurado/estampado em uma atadura de gaze ou travesseiro médico ou em celulose. Aqui, é particularmente vantajoso se o próprio núcleo eletrotécnico tiver proteção de contato, por exemplo, por meio de duas estruturas de eletrodo aterradas (uma primeira e uma terceira estruturas de eletrodo), entre as quais uma es- trutura de eletrodo acionada durante a operação (segunda estrutura de eletrodo) é disposta.
[00246] Em uma variante de modalidade em que um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico com orifícios ou passa- gens que são dispostas sobre uma porção do núcleo eletrotécnico ou de uma maneira distribuída por toda a área do núcleo eletrotécnico, um invólucro pode ser projetado de uma forma tal que o invólucro permita ou facilite ele próprio o transporte de meio através do núcleo eletrotéc- nico de um lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada para o lado do aplicador de plasma voltado para longe de uma superfície a ser tratada. A título de exemplo, um invólucro ade- quado pode ser formado por um material de transporte de mídia ou pode igualmente ter orifícios e passagens.
[00247] Em uma variante de modalidade, na qual um aparelho de en- caixe pode ser separado do núcleo eletrotécnico em uma perfuração, a perfuração pode ser realizada como parte de um invólucro. A função da perfuração está na redução da resistência do invólucro neste ponto; a mesma deve representar um ponto de ruptura predeterminado. Após o tratamento, o aparelho de encaixe pode ser rasgado ou removido nessa perfuração. Como resultado, um aplicador de plasma pode permanecer em uma superfície a ser tratada, por exemplo, durante um período de tempo relativamente longo que pode incluir alguns dias a semanas, e o aparelho de encaixe não mais necessário pode ser removido.
[00248] Em termos de extensão lateral, um invólucro pode ser signi- ficativamente maior do que uma estrutura de eletrodo de um núcleo ele- trotécnico. A título de exemplo, um invólucro pode ter uma área de 20 cm x 20 cm ou então 30 cm x 30 cm ou ainda maior, enquanto a área de uma estrutura de eletrodo é de 10 cm x 10 cm.
[00249] Em uma variante de modalidade, em que um invólucro de um aplicador de plasma tem uma área maior do que a de uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico, um usuário pode cortar o aplicador de plasma no tamanho desejado antes do tratamento de plasma, em que o dito tamanho, por exemplo, é capaz de corresponder à área de uma ferida, em que o tamanho mínimo é especificado pelo tamanho da estrutura de eletrodo.
[00250] Pode ser vantajoso se um aplicador de plasma tiver uma ca- mada de adesão como a última camada no lado voltado para a superfí- cie a ser tratada, a fim de fixar um aplicador de plasma em ou sobre uma área a ser tratada e criar um espaço de gás vedado entre o aplica- dor de plasma e a superfície a ser tratada. Uma camada de adesão con- siste preferencialmente em um material biocompatível, tal como silicone ou um adesivo à base de acrilato e preferencialmente tem uma espes- sura entre alguns µm e várias centenas de µm. A força de adesão de uma camada de adesão pode ser definida diretamente por meio de sua espessura. De preferência, a espessura de uma camada de adesão é menor do que 150 µm, em particular menor do que 60 µm, em particular menor do que 20 µm.
[00251] De preferência, uma camada de adesão tem uma força de adesão que é suficiente para fazer um aplicador de plasma aderir a uma superfície a ser tratada sem meios auxiliares ou material de fixação adi- cional. Em particular, pode ser vantajoso se uma camada de adesão estabelecer um contato adesivo que dura alguns dias ou mesmo várias semanas entre uma superfície a ser tratada e um aplicador de plasma.
[00252] Uma camada de adesão também pode ser formada por um material ou compreender um material que é fotoativo. Nesse contexto, fotoativo significa que a força de adesão do material pode ser influenci- ada por fótons. Antes da irradiação, o material de adesão é adequado para estabelecer um contato adesivo com outra superfície. Após a irra- diação com fótons de um comprimento de onda específico, o material de adesão perde sua força de adesão e não é mais adequado para es- tabelecer um contato adesivo. Um aplicador de plasma com uma ca- mada de adesão fotoativa é adequado, em particular, para uso durante um período de tempo relativamente longo de alguns dias a semanas.
[00253] A título de exemplo, uma camada de adesão pode ser apli- cada com o uso de um método de impressão em tela ou um método de moldagem por injeção. Também é concebível que uma camada de ade- são seja realizada como artigo enrolado, por exemplo, por uma fita ade-
siva de transferência ou por uma fita adesiva dupla-face. Uma fita ade- siva de transferência ou de dupla face pode ter uma concepção elástica e, portanto, flexível, e assim um aplicador de plasma correspondente pode ser adaptado de forma flexível e preso a várias superfícies.
[00254] A título de exemplo, uma camada de adesão pode cobrir a borda de um invólucro de um aplicador de plasma de modo que o con- tato adesivo entre uma superfície a ser tratada e um aplicador de plasma seja estabelecido apenas na dita borda. Uma camada de adesão tam- bém pode cobrir todo o lado de um aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada, de modo que um contato adesivo plano seja estabelecido sobre toda a face de contato entre o aplicador de plasma e a superfície a ser tratada.
[00255] Uma camada de adesão também pode conter orifícios ou en- tão recortes maiores, por exemplo, na forma de círculos ou outros for- matos geométricos. Vantajosamente, um plasma pode inflamar nos ori- fícios ou recortes de uma camada de adesão, configurada em toda a superfície, com orifícios ou recortes relativamente grandes. Ao mesmo tempo, orifícios e recortes representam possibilidades para a difusão dos componentes ativos de um plasma. Além disso, a força de adesão pode ser definida ainda por meio do número e tamanho dos orifícios ou recortes.
[00256] No caso em que uma pluralidade de estruturas de eletrodo é disposta dentro de uma camada, uma camada de adesão pode ser for- mada como uma imagem negativa da distribuição das estruturas de ele- trodo nessa camada. Consequentemente, um espaço de gás, no qual um plasma pode se espalhar, pode ser mantido o maior possível.
[00257] Pode ser vantajoso para uma camada de adesão ter um te- cido ou um têxtil ou para uma camada de adesão ser aplicada a um tecido ou têxtil.
[00258] Em uma modalidade adicional, uma camada de adesão é aplicada no lado de um aplicador de plasma voltado para longe da su- perfície a ser tratada. Isto é particularmente vantajoso se um aplicador de plasma deve ser fixado com o lado voltado para longe da superfície a ser tratada, por exemplo, mantas, panos ou mantas térmicas em pri- meiros socorros, por exemplo, para impedir escorregamento. Nesse caso, surge um espaço de gás vedado, no qual um plasma se acende durante a operação, entre a manta, o pano ou a manta térmica e a su- perfície a ser tratada.
[00259] Em uma modalidade preferencial adicional, uma parte ativa- mente aderente de um fecho de velcro com ganchos é fixada (por exem- plo, ligada adesivamente, costurada) ao lado de um aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada. Essa parte ativamente aderente de um fecho de velcro pode ser usada de forma particularmente vanta- josa para aplicar um aplicador de plasma a uma superfície conectada a, ou coberta com têxtil (por exemplo, roupas, curativo para feridas, ban- dagem de fixação, roupas de compressão), uma vez que os ganchos do fecho de velcro aderem então ao têxtil e, consequentemente, facilitam a fixação de um aplicador de plasma sobre uma ferida.
[00260] Pode ser vantajoso se um aplicador de plasma como descrito aqui compreender uma estrutura espaçadora no lado voltado para a su- perfície a ser tratada. Uma estrutura espaçadora tem a função de criar uma distância definida entre um aplicador de plasma e uma superfície a ser tratada e, consequentemente, criar um volume de gás definido no qual um plasma pode inflamar.
[00261] Uma estrutura espaçadora pode ser conectada de forma per- manente ou não permanente a um aplicador de plasma. A título de exemplo, uma conexão permanente pode ser realizada por ligação ade- siva e/ou moldagem. No caso da conexão não permanente, não há co- nexão mecânica e/ou quimicamente permanente entre um aplicador de plasma e uma estrutura espaçadora.
[00262] Uma vez que a estrutura espaçadora está em contato direto com uma ferida durante um tratamento de plasma, uma estrutura espa- çadora consiste preferencialmente em um material biocompatível (por exemplo, silicone, matriz composta de têxtil/silicone, gaze, absorvente, celulose, gaze para ferida, espuma PU) e/ou de uma combinação dos materiais acima mencionados.
[00263] De preferência, uma estrutura espaçadora não é configurada sobre toda a área. De preferência, uma extensão lateral de uma estru- tura espaçadora é comparável a uma extensão lateral de uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico.
[00264] Em uma modalidade de um aplicador de plasma com uma estrutura espaçadora, a estrutura espaçadora pode ter recortes nos quais um plasma pode inflamar. A título de exemplo, esses recortes po- dem ter um formato de favo de mel ou ser formados por orifícios de diferentes tamanhos ou formados por uma estrutura de malha. Em uma modalidade preferencial adicional, uma estrutura espaçadora é formada por uma estrutura em formato de X, em formato de O, em formato de Z, em formato de M, em formato de E ou em formato de W.
[00265] Em uma modalidade de um aplicador de plasma com uma estrutura espaçadora, a estrutura espaçadora também pode ser for- mada por redes finas ou nervuras com uma largura de algumas cente- nas de µm até alguns mm e com uma altura de algumas centenas de µm até alguns milímetros.
[00266] Uma estrutura espaçadora é preferencialmente realizada de uma maneira tal que a mesma cobre apenas uma parte comparativa- mente pequena de um lado de um aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada, de modo que um plasma se inflama de uma maneira espalhada por uma área comparativamente grande.
[00267] Uma estrutura espaçadora que pode ser disposta de forma destacável em um aplicador de plasma pode ser configurada como um componente separado, independentemente de um aplicador de plasma.
[00268] Uma estrutura espaçadora que pode ser disposta de forma destacável em um aplicador de plasma pode ser realizada por uma ou mais almofadas adesivas. Essas almofadas adesivas tipicamente têm um lado liso ou plano, que é dotado de um material de adesão. Esse lado adesivo pode ser aplicado ao lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada, como resultado do que uma almofada adesiva adere ao aplicador de plasma.
[00269] Uma almofada adesiva pode ter diferentes formatos e tama- nhos. Assim, o formato pode representar um hemisfério, um cuboide, uma pirâmide, um formato de L, formato de O, formato de M, formato de E, formato de X ou uma combinação de formato geométricos tridimen- sionais típicos. O diâmetro de uma almofada adesiva é preferencial- mente entre 1 mm e 6 cm. A altura de uma almofada adesiva é prefe- rencialmente entre 100 µm e 8 mm.
[00270] Uma almofada adesiva pode ser formada por silicone, feltro, gaze, uma espuma de polímero curada, têxteis, PE, PP, PET ou mate- riais e combinações de materiais equivalentes.
[00271] Uma almofada adesiva é preferencialmente formada por um material biocompatível.
[00272] Uma almofada adesiva também pode ter uma modalidade em formato de moldura. Aqui, o diâmetro interno da estrutura pode ser da ordem da extensão lateral de uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico. A título de exemplo, se uma estrutura de eletrodo abrange uma área de 10 cm x 10 cm, o diâmetro interno da moldura também pode estar na faixa de cm. De preferência, no entanto, o diâmetro in- terno é maior do que um lado longitudinal de uma estrutura de eletrodo; ou seja, maior que 10 cm neste caso. A largura da rede da moldura é preferencialmente entre 3 mm e 6 cm. A altura da moldura é preferenci- almente entre 100 µm e 8 mm.
[00273] Uma estrutura espaçadora configurada como uma almofada adesiva em uma forma de moldura é, preferencialmente, realizada de uma forma tal que a estrutura de eletrodo não seja coberta pela estru- tura espaçadora e a formação de plasma no aplicador de plasma não seja impedida pela estrutura espaçadora aplicada.
[00274] Uma estrutura espaçadora configurada como uma almofada adesiva em uma forma de moldura é preferencialmente umedecida com um material de adesão tanto em um lado da estrutura espaçadora vol- tado para o lado a ser tratado quanto no lado da estrutura espaçadora voltado para longe do lado a ser tratado. Para um tratamento de plasma, a estrutura espaçadora pode ser aplicada a uma superfície a ser tratada com o lado da estrutura espaçadora voltado para um lado a ser tratado e um aplicador de plasma pode ser disposto na estrutura espaçadora no lado da estrutura espaçadora voltado para longe do lado a ser tra- tado. A estrutura espaçadora também pode compreender o próprio ma- terial de adesão ou ser formada por este. A estrutura espaçadora com a camada de adesão ou propriedades adesivas pode formar um produto que é independente de um aplicador de plasma e pode ser disposto em vários aplicadores de plasma e ser usado com o último para um trata- mento de plasma.
[00275] Em uma modalidade de um aplicador de plasma com uma estrutura espaçadora, a estrutura espaçadora pode ser equipada e/ou enriquecida com um ou mais ingredientes ativos, eficazes de maneira farmacológica e/ou não farmacológica (por exemplo, morfinas, coagu- lantes, citocinas, hidrocoloides). O equipamento dentro deste signifi- cado pode ser implantado, por exemplo, revestindo-se a superfície de uma estrutura espaçadora com os ingredientes ativos e/ou acumulando- se os ingredientes ativos no material de uma estrutura espaçadora. Para equipar e/ou enriquecer o material de uma estrutura espaçadora com um ou mais ingredientes ativos farmacológicos ou não farmacológicos, pode ser vantajoso se materiais e/ou meios adicionais forem misturados no revestimento e/ou na acumulação. Como resultado, a longevidade e/ou a cinética de liberação dos ingredientes ativos farmacológicos ou não farmacológicos pode ser retardada (por exemplo, retardo) ou ace- lerada.
[00276] Em uma modalidade de um aplicador de plasma com uma estrutura espaçadora, uma estrutura espaçadora pode ser configurada como uma fonte de plasma. Vantajosamente, pelo menos uma estrutura de eletrodo que é aplicada com um sinal de tensão suficiente para infla- mar um plasma durante o uso é então situada dentro de uma estrutura espaçadora. Nessa configuração com uma estrutura de eletrodo como parte constituinte de uma estrutura espaçadora, uma superfície a ser tratada representa um contraeletrodo durante a operação.
[00277] Em uma modalidade de um aplicador de plasma com uma estrutura espaçadora, a estrutura espaçadora pode ser configurada como uma estrutura de eletrodo ao mesmo tempo. Assim, essa estru- tura de eletrodo cumpre ainda a função de uma estrutura espaçadora. Uma estrutura de eletrodo adequada pode ser um condutor elétrico sim- ples formado por um fio com uma seção transversal redonda ou oval. Um condutor elétrico simples também pode ser formado por um cabo plano. Um cabo plano nesse sentido pode ter uma seção transversal quadrada ou retangular. Nesse caso, a estrutura espaçadora é uma fonte de plasma ao mesmo tempo. Também no caso desta modalidade, um contraeletrodo durante o funcionamento é preferencialmente reali- zado pela própria superfície a ser tratada.
[00278] Em uma modalidade, um aplicador de plasma com uma es- trutura espaçadora configurada como uma fonte de plasma, que com- preende uma estrutura de eletrodo ou ele próprio é uma estrutura de eletrodo e que é atingido por um sinal de tensão com o propósito de inflamar uma estrutura, compreende uma estrutura de eletrodo adicio- nal. A título de exemplo, a estrutura de eletrodo adicional pode ser dis- posta como um eletrodo de área total entre a estrutura espaçadora e o aplicador de plasma restante. Uma estrutura de eletrodo adicional for- mada dessa maneira é preferencialmente aterrada de modo que um plasma possa inflamar entre uma estrutura espaçadora configurada como uma fonte de plasma e o eletrodo adicional. Em uma variante dessa modalidade, uma estrutura de eletrodo adicional não é configu- rada em toda a área, mas em vez disso tem recortes, por exemplo, na forma de favos de mel, orifícios de tamanhos diferentes ou formas poli- gonais.
[00279] Em uma modalidade de um aplicador de plasma com uma estrutura espaçadora, a estrutura espaçadora pode compreender pelo menos duas estruturas de eletrodo. Um arranjo preferencial das estru- turas de eletrodo é na forma de camadas umas sobre as outras em re- lação à superfície a ser tratada. De preferência, uma das estruturas de eletrodo está no potencial de referência e pelo menos uma outra das estruturas de eletrodo é aplicada durante a operação com um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma. De preferência, uma estru- tura de eletrodo aterrada é disposta mais perto de uma superfície a ser tratada do que uma estrutura de eletrodo que é acionada durante a ope- ração. A distância entre uma estrutura de eletrodo a ser atingida durante a operação com um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma e uma superfície a ser tratada é preferencialmente maior do que a dis- tância entre uma estrutura de eletrodo aterrada e uma superfície a ser tratada. De preferência, um plasma inflama durante a operação subs- tancialmente em dois lados longitudinais opostos de uma estrutura es- paçadora.
[00280] Em uma modalidade preferencial de um aplicador de plasma com uma estrutura espaçadora configurada como uma fonte de plasma e uma estrutura de eletrodo adicional dentro e/ou entre a estrutura es- paçadora e o aplicador de plasma restante, o aplicador de plasma não compreende nenhum núcleo eletrotécnico configurado como um sis- tema de múltiplas camadas uma vez que uma fonte de plasma já é rea- lizada pela estrutura espaçadora configurada como uma fonte de plasma. Nesse caso, um aplicador de plasma compreende, por exem- plo, um invólucro e uma estrutura espaçadora configurada como uma fonte de plasma.
[00281] Em uma modalidade preferencial, uma estrutura espaçadora configurada como uma fonte de plasma tem um aparelho de encaixe. O aparelho de encaixe pode ser conectado galvanicamente a um aparelho de inserção a fim de transmitir a uma estrutura de eletrodo da estrutura espaçadora um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma. Uma estrutura espaçadora configurada como uma fonte de plasma pode compreender uma primeira estrutura de eletrodo dentro da estrutura es- paçadora e uma segunda estrutura de eletrodo dentro ou fora da estru- tura espaçadora ou apenas uma única estrutura de eletrodo dentro da estrutura espaçadora.
[00282] Numa modalidade preferencial, uma estrutura espaçadora configurada como fonte de plasma é configurada de forma indepen- dente, sem partes constituintes adicionais de um aplicador de plasma. Então, para um tratamento de plasma, um espaço de gás vedado, no qual um plasma deve ser inflamado, pode ser realizado, por exemplo, colocando ou ligando adesivamente um filme sobre a estrutura espaça- dora. Como resultado, a estrutura espaçadora pode ser fixada sobre a superfície a ser tratada. Uma estrutura espaçadora configurada como uma fonte de plasma pode compreender uma primeira estrutura de ele- trodo dentro da estrutura espaçadora e uma segunda estrutura de ele-
trodo dentro ou fora da estrutura espaçadora ou apenas uma única es- trutura de eletrodo dentro da estrutura espaçadora. Pelo menos uma das estruturas de eletrodo pode ser conectada galvanicamente a um aparelho de encaixe.
[00283] Um aplicador de plasma descrito no presente documento pode, ainda, ter uma porta de acesso, por exemplo, para um aparelho de sucção. A porta de acesso é então integrada preferencialmente nesse aplicador de plasma. Uma porta de acesso pode ser usada para uma pluralidade de funções:
[00284] • enxaguar uma ferida enquanto um aplicador de plasma é aplicado a uma superfície a ser tratada,
[00285] • sugar o exsudato possivelmente excretado por uma ferida enquanto um aplicador de plasma é aplicado a uma superfície a ser tra- tada,
[00286] • realizar uma terapia VAC enquanto um aplicador de plasma é aplicado a uma superfície a ser tratada,
[00287] • e uma combinação das funções acima mencionadas antes, depois e/ou durante um tratamento de plasma.
[00288] A porta de acesso é preferencialmente configurada como um bico ou bocal de modo que um tubo possa ser conectado a esse bico ou bocal, cujo tubo é conectado a, por exemplo, uma bomba de vácuo, para ser preciso de uma forma tal que a pressão negativa gerada pela bomba de vácuo possa ser conduzida através do tubo até um bico ou bocal em um aplicador de plasma, de modo que, como resultado, as funções mencionadas (enxágue, sucção, terapia VAC e a combinação de funções individuais entre si, antes, depois e/ou durante um trata- mento de plasma) possam ser satisfeitas no espaço de gás vedado en- tre um aplicador de plasma e uma superfície a ser tratada.
[00289] Um bico ou bocal é preferencialmente em formato de tubo e tem um interior oco. De preferência, uma extremidade desse aparelho em forma de tubo está no espaço de gás vedado entre um aplicador de plasma e uma superfície a ser tratada e a outra extremidade está fora do aplicador de plasma de modo que, quando um aplicador de plasma é disposto em uma superfície a ser tratada, um ou mais meios possam ser adicionados ao espaço de gás vedado ou transportados para fora do espaço de gás vedado através do bico em forma de tubo.
[00290] Um bico ou bocal pode ter uma seção transversal redonda, oval, retangular ou poligonal.
[00291] Em uma modalidade preferencial, um diâmetro interno e um externo de um bico ou bocal é escolhido de uma forma tal que um tubo posa ser pressionado sobre o mesmo e possa ser preso ao bico.
[00292] Em uma modalidade, um bico em formato de tubo compre- ende uma rosca macho ou um encaixe fêmea, a fim de fixar um tubo com uma rosca complementar com a finalidade de adicionar e/ou remo- ver meios para ou de um espaço de gás vedado por meio de uma cone- xão com rosca no bico em formato de tubo. Em uma variante desta mo- dalidade, esse bico em formato de tubo é guiado através de um núcleo eletrotécnico. Um orifício ou recorte pode ser especialmente fornecido para este fim em um núcleo eletrotécnico, cujo orifício ou recorte corres- ponde em termos de diâmetro ao diâmetro externo do bico em formato de tubo. Em uma variante, esse bico em formato de tubo é guiado por um invólucro. Um orifício ou recorte pode ser especialmente fornecido para este fim em um invólucro, cujo orifício ou recorte corresponde em termos de diâmetro ao diâmetro externo do bico em formato de tubo.
[00293] Em uma modalidade preferencial, um bico ou um bocal é in- tegrado em um aparelho de encaixe. Então, uma contraparte para o bico é preferencialmente situada em um aparelho de inserção complementar de modo que, no estado encaixado do aparelho de encaixe e aparelho de inserção, a contraparte no aparelho de inserção estabelece uma co- nexão estanque e hermética com o bico no aparelho de encaixe.
[00294] Em uma modalidade preferencial, um bico em formato de tubo ou um bocal em formato de tubo compreende uma válvula inte- grada de modo que um fluxo do meio ou meios através do bico em for- mato de tubo possa ser regulado e interrompido por meio da dita válvula. Essa válvula pode ser controlável manualmente, controlável por má- quina ou controlável eletronicamente.
[00295] Um sensor como descrito abaixo e, opcionalmente, um sis- tema sensor correspondente pode ser fornecido em todos os aplicado- res de plasma, sejam os mesmos como descrito aqui ou convencionais. De forma puramente exemplificativa, algumas modalidades preferenci- ais de um aplicador de plasma são descritas abaixo com um sensor ou então uma pluralidade, em particular, de sensores diferentes.
[00296] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, que é configurado como uma fonte de plasma, um invólucro, por meio do qual é possível estabelecer um espaço de gás vedado entre um segmento de corpo a ser tratado e o aplicador de plasma, e pelo menos um sensor que é configurado para capturar e for- necer variáveis de medição relevantes para um tratamento de plasma e/ou cicatrização de feridas, em particular variáveis de medição fisioló- gica de um segmento de corpo coberto durante o uso pelo aplicador de plasma.
[00297] Um aplicador de plasma com um sensor pode ser usado de forma particularmente vantajosa, especialmente se um aplicador de plasma se destinar a permanecer em um segmento de corpo a ser tra- tado por um período de tempo relativamente longo, por exemplo, alguns dias a várias semanas, a fim de vedar o último contra influências exter- nas. A título de exemplo, se um tratamento de plasma é realizado no início de um tratamento de uma ferida, pode ser vantajoso para a cica- trização de feridas se um aplicador de plasma estiver permanentemente fixado a um segmento de corpo correspondente e vedar a ferida durante um período relativamente longo de tempo de tipicamente uma plurali- dade de dias até uma pluralidade de semanas, por exemplo, até que uma ferida correspondente seja cicatrizada, tendo como resultado que, vantajosamente, a recontaminação da ferida pode ser impedida. Após um tratamento de plasma, em particular, variáveis de medição caracte- rísticas podem ser capturadas e lidas, por meio de pelo menos um sen- sor, para um espaço de gás vedado e/ou para uma ferida a ser tratada. A captura contém a medição de uma variável de medição e a conversão da última em um sinal de dados que representa a variável de medição. Como resultado, um perfil de tratamento de uma ferida pode ser rastre- ado com base em variáveis de medição lidas, sem que um aplicador de plasma tenha que ser removido para este fim de um segmento de corpo a ser tratado durante um processo de cicatrização. Assim, uma ferida pode permanecer vedada permanentemente durante um processo de cicatrização.
[00298] O pelo menos um sensor é preferencialmente configurado para capturar uma variável de medição, por exemplo, uma pressão de gás, uma temperatura, uma saturação de oxigênio no sangue (valor de SpO2), condutâncias de uma secreção de ferida, uma colonização de bactérias, um valor de pH, um tamanho de ferida, etc. As variáveis de medição capturadas podem então ser armazenadas, por exemplo, como dados que representam as variáveis de medição, em um chip de memória de um sistema sensor com pelo menos um sensor. Os dados podem então ser lidos posteriormente por um leitor externo. A título de exemplo, um sistema sensor que compreende pelo menos um sensor pode compreender um transponder RFID (identificação por radiofre- quência), que é capaz de acessar dados armazenados em um chip de memória e transmitir os dados para um leitor quando uma solicitação correspondente é feita de um leitor para o transponder.
[00299] Um sinal de dados que representa as variáveis de medição também pode ser transmitido, preferencialmente sem fio, de uma uni- dade transmissora do sistema sensor diretamente para uma unidade receptora complementar de um dispositivo de processamento de dados portátil ou estacionário.
[00300] Ao ler as variáveis de medição capturadas por um sensor, é particularmente vantajoso a possibilidade de avaliar um sucesso de tra- tamento de um tratamento de plasma e/ou um progresso de cicatrização de feridas, sem que, para este fim, um aplicador de plasma disposto em um segmento de corpo a ser tratado tenha que ser removido do dito segmento de corpo a ser tratado. Isto é particularmente vantajoso se um aplicador de plasma deve permanecer aplicado a um segmento de corpo a ser tratado por um período de tempo relativamente longo. Um período de tempo relativamente longo é preferencialmente um período de tempo de uma pluralidade de dias ou de uma pluralidade de sema- nas. Resumindo, um período de uma pluralidade de dias também pode corresponder a um período de uma pluralidade de semanas. De prefe- rência, um período de tempo relativamente longo compreende um perí- odo de tempo durante o qual uma ferida cicatrizou pelo menos em grande parte. Durante esse período de tempo, uma ferida a ser tratada é amplamente isolada da atmosfera circundante. Assim, a ferida fica permanentemente vedada durante esse período de tempo.
[00301] Vantajosamente, as variáveis de medição capturadas podem ser lidas e interpretadas diretamente por um médico ou equipe de hos- pital, por exemplo. A partir das variáveis de medição lidas, é possível, por exemplo, avaliar a necessidade de um tratamento de plasma reno- vado ou determinar um momento adequado para remover um aplicador de plasma.
[00302] Também pode ser vantajoso se as variáveis de medição cap- turadas forem lidas pelo próprio paciente. A título de exemplo, um paci- ente pode ler os dados que representam as variáveis de medição em casa e disponibilizá-los para um médico por meio de uma rede, de forma que este possa avaliar o sucesso do tratamento sem consultar o paci- ente pessoalmente. Assim, um aplicador de plasma com pelo menos um sensor facilita de forma particularmente vantajosa o telemonitoramento, às vezes também denominado como monitoramento doméstico, de um paciente por um médico.
[00303] Também é concebível que uma amplitude de um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma seja regulada com base em variáveis de medição capturadas por um sensor ou uma pluralidade de sensores, em particular sensores diferentes. Para este fim, por exemplo, os dados que representam as variáveis de medição ou um sinal de da- dos que representa as variáveis de medição podem ser transmitidos, preferencialmente sem fio ou então por um cabo, para uma interface correspondente de uma unidade de fonte de alimentação de modo que uma amplitude de um sinal de tensão a ser fornecido possa ser modu- lada adequadamente. Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um circuito elétrico que modula um sinal de tensão forne- cido para inflamar um plasma, em particular uma amplitude do sinal de tensão, com base em pelo menos uma variável de medição capturada.
[00304] Um circuito elétrico configurado para modular um sinal de tensão fornecido para inflamar um plasma, em particular uma amplitude do sinal de tensão com base em pelo menos uma variável de medição capturada, também pode ser integrado em uma unidade de fonte de ali- mentação. Então, uma unidade de fonte de alimentação pode ser confi- gurada, por exemplo, para receber e processar um sinal de dados que representa as variáveis de medição capturadas por meio de um cabo ou de forma sem fio, diretamente de um ou mais sensores de um aplicador de plasma ou de um dispositivo de processamento de dados, nos quais os dados que representam as variáveis de medição capturadas são ar- mazenados e para transmitir um sinal de saída correspondente para o circuito elétrico.
[00305] Por conseguinte, é fornecida uma unidade de fonte de ali- mentação, a qual é configurada para fornecer um sinal de tensão sufici- ente para inflamar um plasma e que compreende uma interface para receber um sinal de dados que representa as variáveis de medição cap- turadas e um circuito elétrico, em que o circuito elétrico é configurado para modular um sinal de tensão fornecido para inflamar um plasma, em particular uma amplitude do sinal de tensão, com base no sinal de dados recebido.
[00306] A título de exemplo, um sensor pode ser um sensor de pres- são de gás que é configurado e disposto para medir uma pressão de gás em um espaço de gás vedado ou um sensor de pressão que é con- figurado e disposto para medir a pressão de uma bandagem de com- pressão ou um sensor de temperatura que é configurado e disposto para medir uma temperatura, em particular em um espaço de gás vedado, ou um sensor de valor de pH que é configurado e disposto para medir um valor de pH, em particular de uma ferida, um sensor de umidade que é configurado e disposto para medir uma umidade em um ambiente de ferida ou um sensor de produto metabólico que é configurado e disposto para capturar produtos metabólicos, em particular, aqueles que são ca- racterísticos para a cicatrização de feridas. A título de exemplo, tais pro- dutos metabólicos podem ser proteínas tais como fibrina ou lactatos. Os produtos metabólicos característicos para cicatrização de feridas tam- bém podem ser produtos metabólicos que são emitidos por bactérias sobre um filme bacteriano de uma ferida.
[00307] Um sistema sensor também pode compreender uma plurali- dade de sensores, em particular sensores diferentes, e ser configurado como um sistema microeletromecânico (MEMS), por exemplo. Tais sis- temas microeletromecânicos representam uma unidade compacta que pode ser integrada de forma particularmente vantajosa em um aplicador de plasma.
[00308] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um sistema sensor que compreende uma pluralidade de sensores, em particular sensores diferentes. Os sensores são preferencialmente con- figurados para capturar e emitir, respectivamente, diferentes variáveis de medição fisiológica de um segmento de corpo coberto pelo aplicador de plasma durante o uso. A pluralidade de sensores de um sistema sen- sor é, preferencialmente, disposta em diferentes pontos em um aplica- dor de plasma. De preferência, um sensor da pluralidade de sensores é disposto em um ponto que é particularmente adequado para capturar uma variável de medição correspondente. Um sensor fornecido para medir a pressão de gás é preferencialmente disposto a uma distância da ferida no aplicador de plasma em que o mesmo seja acessível para um espaço de gás. Um sensor de temperatura que é fornecido para me- dir a condutância de uma secreção de ferida é preferencialmente dis- posto de uma maneira tal que esteja em contato com a ferida a ser tra- tada durante o uso.
[00309] Um sistema sensor que compreende uma pluralidade de sensores, em particular sensores diferentes, também pode ser configu- rado como um sistema microfluídico, que também é denominado como um laboratório em um sistema de chip, que pode ser configurado, por exemplo, para capturar um filme bacteriano da ferida ou um tipo e con- centração de patógenos no sangue ou na secreção de uma ferida. Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um sistema sen- sor configurado como um sistema microfluídico, em que o sistema sen- sor é disposto no aplicador de plasma de uma forma tal que fique em contato com uma ferida a ser tratada durante o uso, por exemplo, de modo a ser capaz de captar e analisar a secreção ou sangue da ferida.
[00310] Um sensor é preferencialmente disposto no plasma impli- cado de uma forma tal que variáveis de medição, em particular variáveis de medição fisiológica, relevantes para um tratamento de plasma e/ou cicatrização de feridas possam ser capturadas pelo sensor. Em uma modalidade, um sensor é disposto de modo que o último esteja situado em um espaço de gás vedado a uma distância de um segmento de corpo a ser tratado durante um tratamento de plasma. Um sensor dis- posto desta forma pode, de forma particularmente vantajosa, medir va- riáveis de medição específicas para o espaço de gás vedado, tais como temperatura ou pressão de gás. Em uma modalidade, um sensor é dis- posto de uma forma tal que o último esteja em contato direto com um segmento de corpo a ser tratado durante um tratamento de plasma. Um sensor disposto desta forma pode medir, de forma particularmente van- tajosa, as variáveis de medição específicas ao segmento de corpo a ser tratado, tal como um filme bacteriano ou uma saturação de oxigênio da ferida. Também pode ser vantajoso dispor um sensor de forma que seja possível capturar as variáveis de medição características para um nú- cleo eletrotécnico.
[00311] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro com uma bolsa, em que o núcleo eletrotécnico pode ser inserido na bolsa e removido da mesma, e pelo menos um sensor que é configurado para capturar e enviar variáveis de medição, em variáveis de medição fisiológica particulares, relevantes para um tratamento de plasma e/ou cicatrização de feridas. De prefe- rência, o invólucro é pelo menos parcialmente translúcido ou optica- mente transparente a um ponto tal que uma pessoa pode avaliar um estado de uma ferida visualmente quando o aplicador de plasma é apli- cado a um segmento de corpo a ser tratado, ou seja, sobre a ferida a ser tratada. Então, um tratamento de plasma pode ser realizado pri- meiro. Após o tratamento de plasma, o núcleo eletrotécnico pode ser removido da bolsa de modo que a visão da ferida através do invólucro seja facilitada. Se um tratamento de plasma deve ser realizado nova- mente, um núcleo eletrotécnico, como um módulo, pode ser inserido de volta na bolsa do invólucro. Como resultado, um progresso de uma ci- catrização da ferida também pode ser avaliado visualmente, além de uma interpretação das variáveis de medição capturadas por um sistema sensor. Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um invólucro com uma bolsa, na qual o núcleo eletrotécnico é disposto de forma removível. O invólucro é configurado de uma forma tal que um segmento de corpo seja reconhecível através do invólucro quando o nú- cleo eletrotécnico tiver sido removido e o aplicador de plasma estiver disposto no dito segmento de corpo a ser tratado.
[00312] Uma avaliação visual de uma ferida situada sob um aplicador de plasma aplicado também pode ser facilitada em virtude de um invó- lucro de um aplicador de plasma que compreende uma janela de visua- lização que é disposta naquela região do invólucro, o que permite a uma pessoa avaliar o estado de uma ferida a ser tratada através da janela de visualização sem que um aplicador de plasma tenha que ser remo- vido para este fim. Portanto, um invólucro tem uma janela de visualiza- ção em uma modalidade de um aplicador de plasma, em que a dita ja- nela de visualização é disposta de uma forma tal que um segmento de corpo seja reconhecível através da janela de visualização quando o apli- cador de plasma estiver disposto no dito segmento de corpo.
[00313] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro com uma janela de visualização, em que a janela de visualização é disposta de uma forma tal que um segmento de corpo, ao qual o aplicador de plasma é aplicado, possa ser avaliado visualmente através da janela de visualização, e pelo menos um sensor que é configurado para capturar e emitir variáveis de medi- ção, em particular variáveis de medição fisiológica, relevantes para um tratamento de plasma e/ou cicatrização de feridas. Uma janela de visu- alização é preferencialmente disposta em um invólucro de uma forma tal que a visão de uma ferida não seja bloqueada por um núcleo eletro- técnico. Para este fim, pode ser vantajoso que um núcleo eletrotécnico compreenda uma passagem central, acima da qual é disposta a janela de visualização.
[00314] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro, pelo menos um sensor e uma camada de gel, em que a camada de gel é disposta no lado do aplicador de plasma voltado para um segmento de corpo a ser tratado. Quando um aplicador de plasma é disposto sobre um segmento de corpo a ser tratado, a camada de gel faz com que a pressão de contato exercida pelo aplicador de plasma no segmento de corpo a ser tratado seja dis- tribuída uniformemente sobre uma área do segmento de corpo a ser tratado. Isto é particularmente vantajoso se um aplicador de plasma per- manecer em um segmento de corpo por um período de tempo relativa- mente longo.
[00315] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro, pelo menos um sensor e uma almofada de ar, em que a almofada de ar é disposta no lado do aplicador de plasma voltado para um segmento de corpo a ser tratado. Uma al- mofada de ar preferencialmente tem uma configuração em formato de anel e é preenchida com ar. Aqui, a almofada de ar em forma de anel tem um diâmetro interno, que corresponde ao diâmetro da abertura na almofada de ar em forma de anel, e um diâmetro externo, que corres- ponde ao diâmetro do escopo geral da almofada de ar. O diâmetro in- terno corresponde preferencialmente a pelo menos uma extensão late- ral de uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico. O diâmetro externo corresponde preferencialmente às dimensões externas do apli- cador de plasma. Quando um aplicador de plasma é disposto em um segmento de corpo a ser tratado, a almofada de ar preferencialmente faz com que a pressão de contato exercida pelo aplicador de plasma no segmento de corpo a ser tratado seja distribuída uniformemente. Isto é particularmente vantajoso se um aplicador de plasma permanecer em um segmento de corpo por um período de tempo relativamente longo.
[00316] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro, pelo menos um sensor e uma camada que é enriquecida ou revestida com ingredientes ativos farma- cologicamente e/ou não farmacologicamente eficazes e que é situada diretamente no segmento de corpo a ser tratado durante um tratamento de plasma. Essa camada pode ser realizada de forma particularmente vantajosa por uma estrutura espaçadora. Particularmente, se uma ferida for vedada por um período de tempo relativamente longo, preferencial- mente até que a ferida esteja cicatrizada, os ingredientes ativos podem ser liberados para a ferida a ser tratada durante este período de tempo a fim de ajudar na cicatrização da ferida e a fim de tratar indicações específicas e/ou adicionais.
[00317] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro, pelo menos um sensor e uma camada de adesão, em que a camada de adesão é configurada para garantir o contato adesivo entre o aplicador de plasma restante e uma superfície a ser tratada durante um período de tempo de uma plurali- dade de dias, em particular até que a ferida tenha cicatrizado com su- cesso. Esse período de tempo também pode compreender uma plurali- dade de semanas em certas circunstâncias. De preferência, a camada de adesão tem uma configuração autoadesiva. A título de exemplo, uma camada de adesão autoadesiva pode ser formada por um adesivo ade- quado, por exemplo, silicone. De preferência, uma camada de adesão garante um contato adesivo seguro entre um aplicador de plasma e um segmento de corpo a ser tratado. De preferência, uma camada de ade- são é configurada de uma forma tal que a mesma se degrade ao longo de um certo período de tempo, preferencialmente de uma pluralidade de dias, ou que se dissolva como resultado da adição de solventes, por exemplo, álcool.
[00318] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro, pelo menos um sensor e uma porta de acesso, que é disposta de uma forma tal que, quando o aplica- dor de plasma está disposto em um segmento de corpo a ser tratado, um meio fluido pode ser fornecido para ou removido de um espaço de gás vedado. Se um aplicador de plasma permanecer sobre um seg- mento de corpo a ser tratado por um período de tempo relativamente longo, isso permite que um meio fluido seja fornecido ou removido de uma forma direcionada em vários estágios da cicatrização de feridas a fim de, assim, auxiliar na cicatrização de feridas. Vantajosamente, uma porta de acesso permite que uma terapia VAC seja realizada. A título de exemplo, uma terapia VAC pode ser controlada por sensores de líquido. Se um aplicador de plasma compreender uma porta de acesso, o exsu- dado pode vantajosamente ser transportado para fora do espaço de gás, apesar de um segmento de corpo a ser tratado ser vedado. Uma porta de acesso vantajosamente torna possível estabelecer um ambi- ente atmosférico aeróbico ou anaeróbico no espaço de gás.
[00319] Em uma modalidade, um aplicador de plasma compreende um núcleo eletrotécnico, um invólucro e pelo menos um sensor, em que o invólucro é formado por um material hidrofóbico ou revestido com um revestimento hidrofóbico. Isso vantajosamente impede uma entrada de líquidos no espaço de gás enquanto um aplicador de plasma está dis- posto durante uma pluralidade de dias sobre um segmento de corpo a ser tratado.
[00320] Um método para a vedação permanente de ferida de uma ferida com um aplicador de plasma, em que o aplicador de plasma com- preende um invólucro, um núcleo eletrotécnico e pelo menos um sensor, inclui pelo menos as seguintes etapas:
[00321] - aplicar um aplicador de plasma em um segmento de corpo a ser tratado de modo que um espaço de gás fechado seja formado entre o aplicador de plasma e o segmento de corpo a ser tratado,
[00322] - realizar um tratamento de plasma, em que isto inclui a apli- cação de uma tensão adequada para inflamar um plasma para uma es- trutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico,
[00323] - deixar o aplicador de plasma no segmento de corpo a ser tratado de modo que o espaço de gás vedado permaneça além do tra- tamento de plasma, e
[00324] - capturar e emitir uma variável de medição fisiológica de um segmento de corpo, coberto pelo aplicador de plasma, por meio de pelo menos um sensor enquanto o aplicador de plasma é deixado no seg- mento de corpo a ser tratado.
[00325] A etapa de deixar o aplicador se estende preferencialmente por um período de tempo que corresponde a um período de tempo que uma ferida a ser tratada leva para cicatrizar. Assim, o tempo de duração desta etapa pode se estender por uma pluralidade de semanas. As va- riáveis fisiológicas de medição relevantes para a cicatrização de feridas são então capturadas e emitidas por meio de um sensor durante esse período de tempo. De preferência, as etapas individuais do método são realizadas várias vezes durante a etapa de deixar o aplicador. Assim, pode ser vantajoso se, por exemplo, um tratamento de plasma for reali- zado várias vezes durante a etapa de deixar o aplicador.
[00326] Um aplicador de plasma que não compreende nem sensor nem sistema sensor também pode ser usado para vedar um segmento de corpo, em particular uma ferida. Esse método inclui as etapas de:
[00327] - aplicar um aplicador de plasma, que compreende um nú- cleo eletrotécnico e um invólucro, em um segmento de corpo a ser tra- tado de modo que um espaço de gás fechado seja formado entre o apli- cador de plasma e o segmento de corpo a ser tratado,
[00328] - realizar um tratamento de plasma, em que isto inclui a apli- cação de uma tensão adequada para inflamar um plasma para uma es- trutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico,
[00329] - deixar o aplicador de plasma no segmento de corpo a ser tratado de modo que o espaço de gás vedado permaneça além do tra- tamento de plasma por uma pluralidade de dias.
[00330] Esse método pode ser realizado com o uso dos aplicadores de plasma descritos dentro do escopo desta descrição e com o uso de outros aplicadores de plasma convencionais. Ao deixar o aplicador de plasma no segmento de corpo a ser tratado, um segmento de corpo a ser tratado é vedado e, consequentemente, isolado contra influências externas. A etapa de deixar o aplicador por um período de tempo de uma pluralidade de dias se estende, em particular, por um período de tempo durante o qual uma ferida seja amplamente cicatrizada. De pre- ferência, um aplicador de plasma é disposto em um segmento de corpo a ser tratado, um tratamento de plasma é realizado e o aplicador de plasma é deixado no segmento de corpo a ser tratado até que uma fe- rida tenha cicatrizado. Esse período de tempo compreende tipicamente uma pluralidade de dias que, quando somados, também podem resultar em um período de tempo de uma pluralidade de semanas.
[00331] Para inflamar o plasma, um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma é fornecido em pelo menos uma estrutura de ele- trodo de um núcleo eletrotécnico por meio de uma unidade de fonte de alimentação.
[00332] De preferência, uma unidade de fonte de alimentação é con- figurada para fornecer um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma como uma tensão retangular, uma tensão dente de serra ou uma tensão senoidal. De preferência, uma unidade de fonte de alimentação é realizada para fornecer pulsos repetitivos individuais; a título de exem- plo, uma tensão CA pode ser fornecida em forma pulsada.
[00333] Para tratamento de plasma, pode ser vantajoso se uma ten- são senoidal com 9 kV de pico a pico, pulsada com 20 µs ligada, 180 µs desligada, 5x por segundo (5 Hz) for fornecida. Vantajosamente, isso permite que a temperatura de um plasma inflamado seja mantida baixa. Vantajosamente, um plasma é inflamado durante um tempo total de aproximadamente 10% do tempo de tratamento.
[00334] Em variantes alternativas, pode-se prever o uso de um sinal de tensão de algumas centenas de V a 5 kV de pico a pico. Em variantes adicionais, outro padrão de pulso pode ser fornecido. A título de exem- plo, pode ser vantajoso usar uma série de pulsos curtos a fim de atingir uma concentração correspondente de uma espécie ativa e não mais in- flamar um plasma por alguns segundos seguindo a sequência de pulsos curtos. Esse tratamento de plasma pode levar a um resultado de trata- mento melhorado no caso de quadros clínicos específicos. Ao mesmo tempo, o consumo de energia pode ser definido de forma direcionada por meio da duração dos pulsos e por meio das pausas entre os pulsos. No caso de operação com uma unidade de fonte de alimentação móvel, em particular, uma breve ignição de um plasma com uma pausa com- parativamente longa é vantajosa, uma vez que as necessidades de energia reduzem significativamente como resultado disso e uma dura- ção de tratamento mais longa com um armazenamento de energia com- parativamente pequeno é facilitada.
[00335] Caso uma primeira estrutura de eletrodo seja fornecida em um núcleo eletrotécnico, o último está, então, preferencialmente em po- tencial de referência ou terra e, portanto, forma um contrapolo elétrico para a segunda estrutura de eletrodo, que é acionado pelo sinal de ten- são. Em seguida, um campo elétrico é aplicado entre as duas estruturas de eletrodo ou pelo menos a segunda estrutura de eletrodo e a superfí- cie a ser tratada, com um curto-circuito entre as estruturas de eletrodo sendo impedido ou suprimido pela camada isolante disposta entre as estruturas de eletrodo. Em vez disso, se forma uma grande área de plasma de descarga de barreira dielétrica. Uma vez que as propriedades do plasma dependem fortemente da espessura do espaço de gás, em particular do volume de gás entre uma estrutura de eletrodo aterrada e uma superfície a ser tratada, em particular uma superfície humana ou animal, pode-se prever uma estrutura de espaçador que permite uma provisão reproduzível de uma quantidade suficiente de gás no espaço de gás vedado entre o aplicador de plasma e a superfície a ser tratada com o propósito de gerar um plasma sempre com os mesmos efeitos. Aqui, um gás ou mistura de gás a ser ionizado é um gás de trabalho fornecido e/ou o ar ambiente ou externo.
[00336] Modalidades exemplificativas da invenção serão descritas abaixo com base nas figuras. A intenção é que estas representem as modalidades exemplificativas não necessariamente em escala verda- deira; em vez disso, as figuras são configuradas de forma esquemática e/ou ligeiramente distorcida. Os recursos divulgados na descrição, nas figuras e nas reivindicações podem ser essenciais para a realização da invenção, tanto individualmente como em qualquer combinação. Aqui, recursos idênticos e/ou semelhantes com uma função idêntica ou seme- lhante foram receberam o mesmo sinal de referência sempre que con- veniente. Vantagens, recursos e detalhes adicionais da invenção emer- gem da descrição das modalidades exemplificativas preferenciais abaixo e com base nas figuras.
[00337] Em detalhes:
[00338] A Figura 1 mostra um aplicador de plasma com um aparelho de encaixe, que é reunido com um aparelho de inserção,
[00339] A Figura 2A mostra uma vista lateral de um corte ao longo da largura através de um aparelho de encaixe reunido com um aparelho de inserção,
[00340] A Figura 2B mostra uma vista lateral de um corte ao longo da altura através de um aparelho de encaixe reunido com um aparelho de inserção,
[00341] A Figura 3 mostra uma vista lateral de um corte ao longo da largura de um aparelho de encaixe na forma de um plugue, que está conectado eletricamente a uma estrutura de eletrodo,
[00342] A Figura 4 mostra um mecanismo para uma conexão segura entre um aparelho de encaixe e um aparelho de inserção,
[00343] A Figura 5A mostra um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico e com um aparelho de encaixe, que é reunido com um aparelho de inserção,
[00344] A Figura 5B mostra uma vista lateral de um corte ao longo da largura através do aparelho de encaixe reunido com o aparelho de inserção,
[00345] A Figura 6 mostra um aparelho de encaixe no formato de cartão com chip com um afunilamento em uma pista condutora,
[00346] A Figura 7 mostra uma vista explodida de um aparelho co- nhecido para gerar um plasma frio à pressão atmosférica para o trata- mento de superfícies,
[00347] A Figura 8A mostra um aplicador de plasma que é reunido com uma unidade de fonte de alimentação móvel com um aparelho de inserção,
[00348] A Figura 8B mostra um aplicador de plasma com uma uni-
dade de fonte de alimentação móvel integrada e um aparelho de en- caixe,
[00349] A Figura 8C mostra um aplicador de plasma com uma uni- dade de fonte de alimentação móvel integrada sem um aparelho de en- caixe,
[00350] A Figura 8D mostra um aplicador de plasma com uma fenda de inserção para uma unidade de fonte de alimentação móvel,
[00351] A Figura 8E mostra um aplicador de plasma com um arranjo de bobina receptora integrado e com uma fenda de inserção na qual uma unidade de fonte de alimentação móvel com um arranjo de bobina transmissora pode ser inserida,
[00352] A Figura 8F mostra um aplicador de plasma com uma uni- dade de fonte de alimentação integrada com um acumulador, que pode ser carregado indutivamente por meio de um aparelho de carregamento igualmente integrado,
[00353] A Figura 9 mostra um aplicador de plasma com uma área de tratamento redimensionável,
[00354] A Figura 10A mostra uma estrutura espaçadora, que é con- figurada simultaneamente como uma fonte de plasma para gerar uma descarga de barreira dielétrica (DBD),
[00355] A Figura 10B mostra um corte transversal através da estru- tura espaçadora mostrada na Figura 10A,
[00356] A Figura 11 mostra um circuito elétrico fechado que consiste em um cabo de dois núcleos,
[00357] A Figura 12 mostra uma vista plana do lado voltado para um paciente de um núcleo eletrotécnico,
[00358] A Figura 13 mostra uma vista plana do lado voltado para longe de um paciente do núcleo eletrotécnico, como mostrado na Figura 12,
[00359] A Figura 14 mostra uma vista plana do lado voltado para longe de um paciente do núcleo eletrotécnico, como mostrado na Figura 13,
[00360] A Figura 15 mostra um aparelho de inserção com um conec- tor de tensão e um conector de aterramento,
[00361] A Figura 16 indica como uma sede mecanicamente segura pode ser estabelecida entre um aparelho de encaixe e um aparelho de inserção indicado por elementos de encaixe de pressão,
[00362] A Figura 17 mostra um núcleo eletrotécnico que foi inserido em uma almofada absorvente,
[00363] A Figura 18 mostra um núcleo eletrotécnico que foi inserido em uma aba em uma bandagem já presente,
[00364] A Figura 19 mostra um corte transversal através de um apli- cador de plasma com um núcleo eletrotécnico com, em cada caso, três estruturas de eletrodo e três camadas isolantes,
[00365] A Figura 20 mostra uma vista plana do lado de um núcleo eletrotécnico que é voltado para longe da superfície a ser tratada du- rante um tratamento de plasma,
[00366] A Figura 21 mostra uma vista plana do lado de um núcleo eletrotécnico que é voltado para longe da superfície a ser tratada du- rante um tratamento de plasma, em que a terceira camada isolante, em particular, pode ser vista,
[00367] A Figura 22 mostra uma vista plana do lado de um núcleo eletrotécnico que é voltado para longe da superfície a ser tratada du- rante um tratamento de plasma, em que a terceira estrutura de eletrodo, em particular, pode ser vista,
[00368] A Figura 23 mostra uma vista plana do lado de um núcleo eletrotécnico que é voltado para longe da superfície a ser tratada du- rante um tratamento de plasma, em que o núcleo eletrotécnico compre- ende uma terceira estrutura de eletrodo e um reforço,
[00369] A Figura 24 mostra um aparelho de encaixe que é reunido com um aparelho de inserção,
[00370] A Figura 25 mostra um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico, um invólucro e uma porta de acesso,
[00371] A Figura 26 mostra um aparelho de encaixe com uma porta de acesso e um aparelho de inserção com uma configuração comple- mentar àquela do aparelho de encaixe,
[00372] A Figura 27 mostra um aparelho de encaixe com uma porta de acesso e um aparelho de inserção com uma configuração comple- mentar àquela do aparelho de encaixe,
[00373] A Figura 28 mostra um aplicador de plasma que compreende um invólucro, um núcleo eletrotécnico e um aparelho de encaixe com uma porta de acesso,
[00374] A Figura 29 mostra um aplicador de plasma com um sistema sensor,
[00375] A Figura 30A mostra um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico, que tem diversas passagens distribuídas sobre sua área,
[00376] A Figura 30B mostra uma porção, ilustrada de forma ampli- ada, do aplicador de plasma mostrado na Figura 30A,
[00377] A Figura 31 mostra um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico e um aparelho de encaixe, em que uma perfuração é for- mada na transição do núcleo eletrotécnico para o aparelho de encaixe,
[00378] A Figura 32 mostra um aplicador de plasma preso a um saco,
[00379] A Figura 33 mostra um aplicador de plasma preso a um saco, em que o aplicador de plasma está disposto acima de um orifício no saco.
[00380] A Figura 1 mostra uma modalidade preferencial de um apli- cador de plasma 100 com um núcleo eletrotécnico 50 e com um apare- lho de encaixe 70, que é configurado como um plugue do tipo cartão com chip. O aparelho de encaixe 70 é reunido com um aparelho de in-
serção 60 que é configurado como uma tomada de recepção comple- mentar. O aparelho de inserção 60 e o aparelho de encaixe 70 têm pis- tas condutoras eletricamente condutoras, que são acopladas galvanica- mente nas faces de contato correspondentes no estado combinado. Em particular, a pista condutora do aparelho de encaixe 70 tem um condutor que leva de uma face de contato no aparelho de encaixe para pelo me- nos uma estrutura de eletrodo 10.
[00381] A estrutura de eletrodo 10 é parte do núcleo eletrotécnico 50, que além disso compreende uma camada isolante 20 na modalidade mostrada. A borda da camada isolante 20 se projeta além da estrutura de eletrodo 10 na direção lateral pelo comprimento das distâncias de fuga de corrente a uma tensão típica para a aplicação.
[00382] Na modalidade mostrada, a estrutura de eletrodo 10 consiste em um verniz condutor de prata, que tem uma configuração em formato de pente. Em diferentes variantes da modalidade mostrada, uma estru- tura de eletrodo também pode ser formada na forma de camadas de metal finas, filmes de metal, malhas de metal e/ou com camadas de po- límero condutor. Uma variante na qual uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico correspondente é formada por fios condutores elé- tricos que são tecidos em um têxtil também é concebível. Em uma vari- ante adicional, uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico correspondente é formada como uma estrutura condutora elétrica pro- duzida de um material condutor flexível, tal como um plástico condutor, um material enriquecido com partículas condutoras, um filme metálico ou grafite.
[00383] A estrutura de eletrodo 10 da modalidade mostrada é conec- tada eletricamente a um carro condutor do aparelho de encaixe 70. O aparelho de inserção 60 é conectado a um cabo 80. Na outra extremi- dade do cabo 80, o cabo 80 é tipicamente conectado a uma unidade de fonte de alimentação (não mostrada) usada predominantemente de forma estacionária, como um gerador de alta tensão. A unidade de fonte de alimentação (não mostrada) fornece um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma e pode compreender um controlador e um lei- tor de dados digitais. Para operação, o aparelho de encaixe 70 do apli- cador de plasma 100 é reunido com o aparelho de inserção 60. Um sinal de tensão fornecido pela unidade de fonte de alimentação (não mos- trada) é transferido através do cabo 80 e do aparelho de encaixe 70, reunido com o aparelho de inserção 60, para a estrutura de eletrodo 10 com a finalidade de inflamar um plasma durante a operação do aplicador de plasma 100.
[00384] A estrutura de eletrodo 10 do núcleo eletrotécnico mostrado tem a função de uma estrutura de eletrodo acionada pelo sinal de tensão e preferencialmente tem uma configuração flexível. Tipicamente, uma estrutura de eletrodo adicional que tenha a função de um eletrodo de aterramento é exigida. Na modalidade mostrada, o núcleo eletrotécnico 50 compreende apenas uma estrutura de eletrodo 10 e, quando o apli- cador de plasma é aplicado em ou sobre uma superfície humana ou animal ou técnica, o contraeletrodo é realizado pelo corpo humano ou animal ou pela própria superfície técnica. Em uma variante da modali- dade exemplar mostrada, o contraeletrodo, como uma estrutura de ele- trodo adicional, é uma parte constituinte do núcleo eletrotécnico plano e flexível e fica situado no lado voltado para a superfície a ser tratada. Nessa variante, a estrutura de eletrodo acionada e a estrutura de ele- trodo aterrada consistem no mesmo material e possuem a mesma geo- metria específica. No entanto, as seções do eletrodo da estrutura de eletrodo acionada e da estrutura de eletrodo aterrada são dispostas des- locadas uma da outra com uma sobreposição definida. Uma seção de eletrodo de uma estrutura de eletrodo correspondente tem preferencial- mente uma largura de 5 mm e uma espessura de 14 µm na modalidade mostrada e nas variantes descritas.
[00385] A forma da seção transversal das seções de eletrodo de uma estrutura de eletrodo foi considerada a variável relevante. A condutivi- dade em combinação com uma forma de seção transversal das seções de eletrodo de uma estrutura de eletrodo é preferencialmente avaliada de uma forma tal que uma pista condutora que forma uma respectiva seção de eletrodo tenha uma resistência na faixa de um dígito de ohm. O que emerge disso é que a tensão cai apenas alguns volts entre o início de uma pista condutora de uma estrutura de eletrodo e o final, permitindo, consequentemente, o fornecimento de uma descarga homo- gênea em toda a área de uma estrutura de eletrodo. Uma resistência na estrutura de eletrodo, totalizando 2 ohms, é atualmente preferencial. Va- lores de resistência mais altos, por exemplo, até 50 ohms, também são concebíveis. No entanto, uma queda de tensão maior pode ser obser- vada em resistências mais altas e as estruturas de eletrodo aquecem significativamente.
[00386] No entanto, para algumas aplicações, também pode ser van- tajoso se uma seção de eletrodo de uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico tiver uma largura de 1 mm e uma espessura de 70 µm. Para outras aplicações adicionais, também poderia ser vantajoso se uma seção de eletrodo de uma estrutura de eletrodo de um núcleo eletrotécnico tivesse uma largura de 10 mm e uma espessura de 7 µm.
[00387] Para gerar um plasma plano, em particular um plasma frio, uma camada isolante 20, que é disposta entre a estrutura de eletrodo acionada 10 e a superfície a ser tratada, fica situada no núcleo eletro- técnico 50.
[00388] Na modalidade mostrada, a camada isolante 20 consiste em um plástico não condutor elétrico. No entanto, a camada isolante 20 também pode consistir em uma cerâmica ou uma mistura de plástico- cerâmica ou um composto de fibra natural, ou então outros materiais naturais. A camada isolante 20 tem preferencialmente uma espessura que varia entre alguns µm e algumas centenas de µm. A camada iso- lante 20 é preferencialmente sem poros; ou seja, não tem ou tem poucos orifícios ou cavidades. Além disso, a camada isolante 20 tem uma rigi- dez dielétrica de pelo menos 5 kV por mm de espessura. A extensão lateral da camada isolante 20 corresponde à dimensão da estrutura de eletrodo 10 no núcleo eletrotécnico 50, mais uma borda saliente além da mesma, em que a borda é dimensionada de modo a cobrir pelo me- nos o comprimento das distâncias de fuga de corrente no caso de valo- res de tensão aplicados típicos para inflamar o plasma.
[00389] Em uma variante, não mostrada, da modalidade mostrada aqui, a extensão lateral de uma camada isolante é escolhida de uma forma tal que não haja descarga de arco entre uma estrutura de ele- trodo, que é acionada durante o uso, e uma estrutura de eletrodo adici- onal no potencial de referência ou a superfície a ser tratada. Tipica- mente, as distâncias de fuga de corrente podem ser reduzidas pelo uso de mecanismos de isolamento específicos (por exemplo, sobremolda- gem) sem, portanto, produzir uma falha. Dependendo de um invólucro de um núcleo eletrotécnico, uma extensão lateral de uma camada iso- lante pode, portanto, também ser projetada para o efeito da borda da camada isolante que se projeta além de uma estrutura de eletrodo que é menor do que o que é prescrito pela amplitude do sinal de tensão, como uma distância de fuga de corrente, exigida para inflamar um plasma.
[00390] Em uma variante adicional, não mostrada, da modalidade mostrada, em que o núcleo eletrotécnico compreende uma primeira e uma segunda estruturas de eletrodo, o núcleo eletrotécnico compre- ende preferencialmente uma camada isolante adicional, que é disposta entre a estrutura de eletrodo aterrada e a superfície a ser tratada. A camada isolante adicional consiste preferencialmente em um material biocompatível tal como, por exemplo, laca, silicone, poliuretano ou um revestimento. O revestimento pode ser aplicado com o uso de deposi- ção química a vapor auxiliada por plasma (PACVD), deposição química a vapor (CVD), processos de anodização ou galvanoplastia.
[00391] Na modalidade exemplificativa mostrada, o aplicador de plasma 100 é parcialmente envolvido por um material biocompatível 45, tal como, por exemplo, silicone de grau médico ou uma laca. Aqui, o lado inferior do núcleo eletrotécnico 50, ou seja, o lado voltado para a superfície a ser tratada, não é envolvido e o lado superior do núcleo eletrotécnico 50, ou seja, o lado voltado para longe da superfície a ser tratada, é completamente envolvido. O invólucro é configurado de uma forma tal que pelo menos a rigidez dielétrica seja assegurada entre a estrutura de eletrodo acionada 10 e um potencial de referência aplicado diretamente ao lado externo.
[00392] O aparelho de encaixe 70 é da mesma forma parcialmente fechado. Em particular, o invólucro do aparelho de encaixe 70 e do nú- cleo eletrotécnico 50 é intertravado e sem inclusões de ar. Para facilitar o acoplamento galvânico entre o aparelho de encaixe 70 e o aparelho de inserção 60, as faces de contato elétrico do aparelho de encaixe 70 são acessíveis livremente para as faces de contato elétrico do aparelho de inserção 60; ou seja, as mesmas não são envolvidas.
[00393] Na modalidade mostrada, uma camada de adesão 40 foi aplicada ao longo da borda do invólucro 45 no lado voltado para a su- perfície a ser tratada. A camada de adesão 40 permite que o aplicador de plasma 100 seja fixado a uma superfície humana ou animal ou téc- nica a ser tratada. A camada de adesão 40 consiste preferencialmente em um material biocompatível, tal como silicone ou um adesivo à base de acrilato e preferencialmente tem uma espessura entre alguns µm e várias centenas de µm. Uma vez que o aplicador de plasma tenha sido fixado por meio de uma camada de adesão a uma superfície a ser tra- tada, a camada de adesão gera uma força de adesão que é suficiente para permitir que o aplicador de plasma adira sem auxílios adicionais à superfície a ser tratada. A título de exemplo, a camada de adesão pode ser aplicada com o uso de um método de impressão em tela ou um mé- todo de moldagem por injeção. Também é concebível que a camada de adesão seja realizada por uma fita adesiva de transferência ou por uma fita adesiva dupla-face. A fita adesiva de transferência ou de dupla face pode ter uma concepção elástica e, portanto, flexível, e assim um apli- cador de plasma correspondente pode ser adaptado de forma flexível e preso a várias superfícies.
[00394] Um sinal de tensão é aplicado à estrutura de eletrodo acio- nada do núcleo eletrotécnico com o objetivo de inflamar o plasma. Caso uma estrutura de eletrodo adicional seja fornecida no núcleo eletrotéc- nico, este último está na terra ou potencial de terra e, portanto, forma um contraeletrodo para a estrutura de eletrodo acionada durante a ope- ração por um sinal de tensão. Então, um campo elétrico é aplicado entre as duas estruturas de eletrodo ou a estrutura de eletrodo, que é acio- nada durante a operação, e a superfície a ser tratada, com um curto- circuito entre as estruturas de eletrodo sendo impedido ou suprimido pela camada isolante entre as duas estruturas de eletrodo. Em vez disso, se forma uma grande área de plasma de descarga de barreira dielétrica.
[00395] Em uma modalidade não mostrada aqui, um núcleo eletro- técnico compreende uma estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação, e um contraeletrodo, em que o contraeletrodo é configurado durante a operação para gerar um deslocamento de tensão por meio de uma tensão CC aplicada ao contraeletrodo e para acelerar partículas carregadas de um plasma em direção a uma ferida. Em uma modalidade não mostrada aqui, um contraeletrodo é configurado para gerar um des- locamento de tensão por meio de uma tensão CC. Neste caso, o con-
traeletrodo é configurado para ser conectado a uma fonte de tensão cor- respondente.
[00396] O aplicador de plasma 100 - quando aplicado a uma super- fície durante o uso - define um espaço vedado, a região de tratamento 30, em que um plasma é gerado. A região de tratamento 30 é preferen- cialmente vedada de maneira hermética. De preferência, a região de tratamento 30 fica situada a uma distância de alguns milímetros da su- perfície a ser tratada de modo que um plasma frio se distribua sobre a área acima da superfície humana ou animal ou técnica a ser tratada. Aqui, um tratamento de plasma tem uma duração típica de alguns mi- nutos.
[00397] A Figura 2A mostra uma modalidade preferencial de um aparelho de encaixe 70, que é configurado como um plugue, e que é reunido com um aparelho de inserção 60, que é configurado como um encaixe de recepção. A ilustração mostrada ilustra uma vista lateral de um corte ao longo da largura através de um aparelho de encaixe reunido com um aparelho de inserção.
[00398] O aparelho de inserção 60 tem uma largura B1 de 30 mm. Um cabo 80 é conectado ao aparelho de inserção 60 por meio de um conector. Uma unidade de fonte de alimentação (não mostrada) pode ser conectada à outra extremidade do cabo 80, em que a dita unidade de fonte de alimentação fornece o sinal de tensão para inflamar um plasma durante a operação. O conector 65 tem uma estrutura isolante feita de polietileno, que é dotada de uma blindagem eletromagnética (blindagem EMC) na parte externa. A blindagem pode suprimir o au- mento da emissão de ondas de interferência, que podem interferir po- tencialmente em outros dispositivos elétricos, por exemplo, em um hos- pital. Além disso, essa blindagem pode minimizar a sensibilidade à in- terferência externa de outras fontes de feixe.
[00399] No entanto, em variantes diferentes, a estrutura isolante tam- bém pode consistir em outros isolantes flexíveis e sem poros (por exem- plo, plásticos ou cerâmica). O cabo 80 é revestido com um bico de sili- cone. O aparelho de inserção 60, além disso, compreende plugues de vedação 66, que são fornecidos para preencher completamente o alo- jamento com um isolador (por exemplo, epóxi ou silicone). Aqui, um pri- meiro plugue de vedação 66 é fornecido como uma entrada para o epóxi ou silicone e um segundo plugue de vedação 66 é fornecido como uma saída de ar para que o ar possa escapar do alojamento durante o pre- enchimento.
[00400] Além disso, indutores 67 são fornecidos; os mesmos servem como filtros para frequências de interferência específicas. O alojamento 68 do aparelho de inserção 60 é metalizado para uma blindagem EMC comparativamente boa. O alojamento 68 inteiro consiste, preferencial- mente, em um material condutor elétrico. Alternativamente, o aloja- mento 68 também pode ser, por exemplo, metalizado no interior ou blin- dado por uma malha. Em ambas as variantes, a blindagem do aloja- mento 68 é colocada em PE e o alojamento 68 é consequentemente blindado eletricamente (gaiola de Faraday).
[00401] O interior 69 do aparelho de inserção 60 é encapsulado com silicone ou outro material com uma alta resistência à ruptura (por exem- plo, resina epóxi) a fim de garantir uma rigidez dielétrica e evitar descar- gas parciais. Uma vantagem adicional é que os componentes mecâni- cos e elétricos no aparelho de inserção podem ter uma estrutura pe- quena e compacta. Além disso, é impedida a entrada de umidade, por exemplo, durante a esterilização a vapor.
[00402] O aparelho de inserção 60 mostrado compreende um conec- tor de alta tensão (conector HV) 71 e um conector de aterramento (co- nector GND) 72. Na variante mostrada aqui, a largura B2 do aparelho de encaixe é de 24 mm. Se o aparelho de encaixe 70 for completamente recebido dentro do aparelho de inserção 60, o comprimento L2 do sis- tema dos dois aparelhos reunidos é de 124 mm na variante mostrada aqui. Aqui, o aparelho de encaixe 70 se projeta na variante mostrada aqui a partir do aparelho de inserção 60 com um comprimento L3 de 36 mm. A parte do aparelho de encaixe 70 que se projeta do aparelho de inserção pode, preferencialmente, ser envolvida pelo invólucro, por exemplo, feito de silicone, e então serve para fixar o aparelho de encaixe 70 a um núcleo eletrotécnico (não mostrado).
[00403] Em uma modalidade não mostrada aqui, um aparelho de en- caixe tem um formato redondo. Outros formatos de plugue também são concebíveis, em que uma prevenção de descargas parciais e, como re- gra, a blindagem deve ser levada em consideração.
[00404] Deve-se notar que o tamanho e a forma de um sistema ade- quado que consiste em um aparelho de encaixe e um aparelho de in- serção tipicamente dependem da amplitude do sinal de tensão fornecido para operação. No caso em que um sinal de tensão de 1 kV é fornecido por uma unidade de fonte de alimentação para inflamar um plasma du- rante a operação, as especificações de tamanho descritas em relação à Figura 2A podem ser significativamente menores e, portanto, um apare- lho de encaixe correspondente tem um projeto menor e design mais compacto.
[00405] O aparelho de encaixe tem um aparelho de travamento 64, que, no estado reunido, é recebido por um aparelho de inserção com uma configuração complementar. Como resultado, o aparelho de en- caixe e o aparelho de inserção são interconectados mecanicamente.
[00406] A Figura 2B mostra uma vista lateral de um corte ao longo da altura através do aparelho de encaixe, mostrado na Figura 2A, reu- nido com o aparelho de inserção. O aparelho de inserção 60 está co- nectado ao cabo 80 de um lado e tem uma altura H1 de 14 mm. No lado oposto, o aparelho de inserção 60 tem uma abertura para receber o aparelho de encaixe 70. O aparelho de encaixe 70 tem uma altura má- xima H2 de 6,8 mm. Quando o aparelho de encaixe 70 é completamente recebido dentro do aparelho de inserção 60, a distância mínima de fuga de corrente no lado do paciente tem um comprimento L1 de 85 mm. No estado reunido, o aparelho de encaixe 70 e o aparelho de inserção 60 são conectados mecanicamente por meio do aparelho de travamento
64.
[00407] A Figura 3 mostra uma modalidade preferencial de um apa- relho de encaixe 70. A ilustração mostrada aqui mostra uma vista plana de um corte ao longo da largura do aparelho de encaixe 70. O aparelho de encaixe 70 é conectado de forma eletricamente condutiva a uma es- trutura de eletrodo 10 por meio de pelo menos uma pista condutora 71, em que a pista condutora 71 leva da face de contato do conector de tensão (conector HV) 77 para a estrutura de eletrodo 10. Na modalidade mostrada, a largura máxima B3 do aparelho de encaixe 70 é 21 mm. Na modalidade mostrada, o aparelho de encaixe 70 tem um reforço opcio- nal 75, que pode consistir em, por exemplo, um filme de polietileno (PE) e que pode ter uma altura de 0,2 mm a 1 mm, por exemplo. Na modali- dade exemplificativa mostrada, o reforço tem a função de aumentar o módulo de elasticidade. Isso reduz a flexão ou uma mudança no formato como resultado de uma ação de forças mecânicas externas e o aparelho de plugue pode ser facilmente empurrado para o aparelho de inserção sem complicações.
[00408] Além disso, o aparelho de encaixe 70 tem um furo 76 com uma função de travamento, que é configurado para travar mecanica- mente o aparelho de encaixe com um aparelho de inserção que não é mostrado aqui. No lado voltado para longe da estrutura de eletrodo 10, o aparelho de encaixe 70 tem uma largura mais estreita do que a largura máxima B3 do aparelho de encaixe 70 ao longo de um comprimento L4 de 58 mm. O formato descrito é escolhido, em particular em função das distâncias de fuga de corrente e de impedir descargas parciais, de uma forma tal que não haja descarga de arco no acoplamento que é conec- tado por cabo a uma unidade de fonte de alimentação e ao qual uma tensão é aplicada quando nenhum aparelho de encaixe está inserido. No lado voltado para longe da estrutura de eletrodo 10, o aparelho de encaixe 70 tem uma face de contato 77 a fim de conectar o aparelho de encaixe 70 a um conector HV, não mostrado aqui. Na ilustração do apa- relho de encaixe 70 mostrado, a distância mínima de fuga de corrente K1 entre o conector HV (não mostrado) e o conector GND (não mos- trado) é 53 mm e o comprimento total L5 do aparelho de encaixe 70 é 119 milímetros.
[00409] Como resultado da forma semelhante a um cartão com chip do aparelho de encaixe, ou seja, uma altura pequena e um comprimento comparativamente longo, é possível manter distâncias de fuga de cor- rente, em particular, de uma forma tal que nenhuma descarga parcial surja dentro do aparelho encaixe e aparelho de inserção encaixados. As dimensões especificadas para o comprimento, a largura e a altura tam- bém podem ser vantajosamente realizadas independentemente umas das outras, de modo que as distâncias de fuga de corrente para a am- plitude de tensão exigida para gerar o plasma possam continuar a ser mantidas. Consequentemente, comprimento, largura e altura podem se desviar dos valores especificados nas variantes da modalidade descrita.
[00410] A Figura 4 mostra um mecanismo para uma conexão segura entre um aparelho de encaixe 70 e um aparelho de inserção 60 por meio de um contato de fixação 78, que está situado no aparelho de encaixe
70. Ao encaixar o aparelho de encaixe 70 e ao aparelho de inserção 60, uma conexão de encaixe segura é estabelecida pelo travamento de grampos, que servem como elementos de travamento, no aparelho de inserção 70. Em uma modalidade exemplificativa não mostrada aqui, uma conexão segura entre um aparelho de encaixe e um aparelho de inserção pode ser assegurada por linguetas de expansão no aparelho de encaixe que servem como elementos de travamento.
[00411] Para garantir o uso único, um aparelho de encaixe é prefe- rencialmente projetado de uma forma tal que seja modificado durante a separação mecânica do aparelho de inserção, como resultado do pri- meiro uso, de modo que uma conexão elétrica renovada ao dispositivo de inserção não seja mais possível, uma vez que uma conexão mecâ- nica suficientemente segura não é mais possível. Em variantes diferen- tes, o uso único de um aparelho de encaixe pode ser configurado em virtude da quebra de grampos, quebra de elementos de travamento, ele- mentos de travamento que se tornam inutilizáveis ou as pistas conduto- ras do aparelho de encaixe serem riscadas ou cortadas durante a sepa- ração mecânica do aparelho de inserção.
[00412] Em modalidade adicional exemplificativa não mostrada aqui, uma conexão com resistência à tração suficiente entre um aparelho de encaixe e um aparelho de inserção pode ser assegurada por contatos magnéticos. Neste caso, há pelo menos 1 ímã em cada um dentre o aparelho de encaixe e o aparelho de inserção. Vantajosamente, os ímãs no aparelho de encaixe têm uma polaridade oposta aos ímãs no apare- lho de inserção.
[00413] De preferência, a conexão de encaixe entre o aparelho de encaixe e o aparelho de inserção é realizada de uma forma tal que o aparelho de inserção conectado a um cabo possa ser usado várias ve- zes. Em uma modalidade não mostrada aqui, a proteção contra dobra é fornecida entre o aparelho de inserção e um cabo.
[00414] A Figura 5A mostra um aplicador de plasma 100 com um núcleo eletrotécnico 50 e um aparelho de encaixe 70. O núcleo eletro- técnico 50 compreende uma segunda estrutura de eletrodo 10 e uma primeira estrutura de eletrodo 10'. A segunda estrutura de eletrodo 10 é preferencialmente acionada durante a operação por um sinal de tensão aplicado e a primeira estrutura de eletrodo 10’ é preferencialmente ater- rada. As seções de eletrodo da segunda estrutura de eletrodo 10 e da primeira estrutura de eletrodo 10’ são dispostas uma sobre a outra com uma sobreposição definida. Vantajosamente, as seções de eletrodo da estrutura de eletrodo aterrada e a estrutura de eletrodo acionada du- rante a operação são dispostas com um deslocamento uma da outra tal que um campo elétrico vantajoso para a ignição de plasma se forma. De preferência, as seções de eletrodo das estruturas de eletrodo corres- pondentes, respectivamente, se sobrepõem em uma região comparati- vamente pequena. Ou seja, a respectiva região restante das seções de eletrodo, que não está em sobreposição com uma seção de eletrodo de uma estrutura de eletrodo adicional, é significativamente maior em com- paração com a região sobreposta. Um plasma distribuído de maneira substancialmente homogênea é gerado por meio de uma sobreposição comparativamente pequena entre as estruturas de eletrodo.
[00415] O aparelho de encaixe 70 é conectado com segurança ao núcleo eletrotécnico 50 e compreende uma primeira pista condutora 79’ e uma segunda pista condutora 79. A primeira pista condutora 79' é co- nectada de forma eletricamente condutiva à primeira estrutura de ele- trodo 10’ e ao a segunda pista condutora 79 é conectada de forma ele- tricamente condutiva à segunda estrutura de eletrodo 10. A título de exemplo, a primeira e a segunda pistas condutoras podem ser configu- radas como condutores simples. A primeira e segunda pistas conduto- ras consistem preferencialmente no mesmo material que as estruturas de eletrodo. O aparelho de encaixe 70 tem preferencialmente uma lar- gura de 3 cm, altura de 1 mm e um comprimento de 10 cm. Na ilustração mostrada, o aparelho de encaixe 70 foi reunido com um aparelho de inserção 60. O aparelho de inserção 60 é conectado por meio de um cabo 80 a uma unidade de fonte de alimentação, tal como um gerador de alta tensão, usado de forma predominantemente estacionária e não mostrado aqui. O cabo 80 compreende proteção contra dobra 81 no lado voltado para o aparelho de inserção 60. A Figura 5B mostra uma vista lateral de um corte ao longo da altura através do aparelho de inserção.
[00416] A Figura 6 mostra um aparelho de encaixe 70 com uma se- gunda pista condutora 79, que é eletricamente conectada a uma estru- tura de eletrodo acionada durante a operação (não mostrada), e uma primeira pista condutora 79', que é eletricamente conectada a uma es- trutura de eletrodo aterrada (não mostrada). A segunda pista condutora 79 tem um afunilamento 63 em um ponto. O menor diâmetro da pista condutora no afunilamento 63 produz uma resistência elétrica mais alta do que no restante da pista condutora 79. Por uma questão de princípio, o afunilamento 63 mostrado pode ser integrado tanto no aparelho de encaixe 70 quanto no núcleo eletrotécnico 50. Para garantir o uso único de um aplicador de plasma 100, um pulso de corrente pode ser aplicado à pista condutora 79 no final de um tratamento, cuja intensidade de cor- rente é classificada de modo que a pista condutora 79 aqueça nesse afunilamento 63 até que o mesmo derreta. A título de exemplo, uma unidade de fonte de alimentação reunida com o aplicador de plasma pode emitir automaticamente um pulso de corrente excessivo com uma intensidade de corrente correspondente por menos de 1 segundo no final do tratamento de plasma.
[00417] A Figura 7 mostra uma vista explodida de um aparelho já conhecido 1 para gerar um plasma frio à pressão atmosférica para o tratamento de superfícies com um sistema de múltiplas camadas 2. O sistema de múltiplas camadas 2 forma um aplicador de plasma e com- preende as seguintes estruturas em camadas, especificamente (come- çando da parte inferior): - uma primeira estrutura isolante 11, - uma primeira estrutura de eletrodo 12, - uma camada dielétrica 13,
- uma segunda estrutura de eletrodo 14, - uma segunda estrutura isolante 15, - uma estrutura espaçadora 16, e - uma camada de adesão 17.
[00418] A primeira estrutura isolante 11, a primeira estrutura de ele- trodo 12, a camada dielétrica 13, a segunda estrutura de eletrodo 14 e a segunda estrutura isolante 15 formam, cada uma, uma camada do núcleo eletrotécnico do aplicador de plasma. Aqui, a primeira estrutura isolante 11 é disposta no lado 4 do sistema de múltiplas camadas 2 vol- tado para fora da superfície a ser tratada e tem uma altura entre 0,5 mm e 2,5 mm, preferencialmente 2 mm. A primeira estrutura isolante 11 serve substancialmente para isolar a primeira estrutura de eletrodo 12, que é preferencialmente configurada como uma camada de alta tensão, isto é, uma estrutura de eletrodo à qual uma alta tensão é aplicada.
[00419] A camada dielétrica 13 é disposta entre a primeira estrutura de eletrodo 12 e a segunda estrutura de eletrodo 14, com a segunda estrutura de eletrodo 14 preferencialmente sendo configurada como uma camada de eletrodo de aterramento. Aqui, a camada dielétrica 13 impede substancialmente um curto-circuito, em particular na forma de um arco, entre a primeira e a segunda estruturas de eletrodo.
[00420] Além disso, uma segunda estrutura isolante 15 com uma es- pessura entre 50 µm e 300 µm é disposta na segunda estrutura de ele- trodo 14 em uma configuração preferencial.
[00421] Em seguida, a estrutura espaçadora 16, que garante o for- necimento de um volume de gás suficiente que permite a ignição de um plasma, é disposta acima da segunda estrutura de eletrodo 14 ou da segunda estrutura isolante 15, isto é, no lado 3 do sistema de múltiplas camadas 2 voltado para as superfícies a serem tratadas.
[00422] Finalmente, uma camada de adesão 17 com uma espessura entre 100 µm e 300 µm, preferencialmente 200 µm, que está em contato direto com a superfície a ser tratada é disposta no lado 3 do sistema de múltiplas camadas 2 voltado para a superfície a ser tratada e acima da estrutura espaçadora 16. De preferência, a camada de adesão 17 é en- tão formada com um material compatível com a pele e/ou ferida, prefe- rencialmente com propriedades antissépticas e/ou atraumáticas.
[00423] No caso presente, como ilustrado na Figura 7, a segunda es- trutura de eletrodo 14 é formada com uma multiplicidade de recortes, em particular de uma forma semelhante a uma malha. Em outras moda- lidades, os recortes poderiam, no entanto, também ser configurados na forma de orifícios, listras, meandros, favos de mel, círculos e/ou quadra- dos.
[00424] Além disso, a estrutura espaçadora 16 também pode ter um formato de favo de mel, em que a estrutura espaçadora 16 também pode ser realizada por projeções ou redes. Os materiais possíveis para a estrutura espaçadora 16 incluem polímeros, elastômeros e/ou silico- nes ou similares. Em princípio, uma multiplicidade de materiais possí- veis pode ser usada, tal como materiais orgânicos ou inorgânicos, em particular materiais naturais e/ou sintéticos, tais como termoplásticos, plásticos termoendurecíveis e/ou elastômeros. A respeito de outros ma- teriais possíveis adicionais, também é feita referência de forma exem- plificativa ao livro “Kunststoff-Taschenbuch” (28ª edição) de Karl Ober- bach e Hansjürgen Saechtling. Em uma configuração preferencial do aparelho mostrado na Figura 7, a estrutura espaçadora é formada com projeções e/ou redes, que têm uma altura entre 0,5 mm e 5 mm.
[00425] No geral, o sistema de múltiplas camadas ilustrado na Figura 7 tem uma espessura de 2 mm a 4 mm. Aqui, é previsto que as camadas que estão em contato direto com a superfície a ser tratada sejam forma- das por um plástico resistente ao calor, biocompatível e quimicamente resistente.
[00426] As Figuras 8A, 8B e 8C mostram um aplicador de plasma com uma unidade de fonte de alimentação móvel, que é assegurada por uma unidade de fonte de alimentação que é comparativamente pequena em relação ao aplicador de plasma. Por conta da unidade de fonte de alimentação móvel, não é necessário conectar uma unidade de fonte de alimentação usada predominantemente de forma estacionária, tal como um gerador de alta tensão, ao aplicador de plasma por meio de um cabo para transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a estrutura de eletrodo e para inflamar um plasma. A energia ne- cessária para inflamar um plasma é fornecida por um reservatório de energia incluído na unidade de fonte de alimentação móvel. A título de exemplo, esse armazenamento de energia pode ser uma bateria, um acumulador ou um capacitor.
[00427] O aplicador de plasma mostrado nas Figuras 8A a 8F com- preende pelo menos uma primeira estrutura de eletrodo e uma segunda estrutura de eletrodo. Pelo menos uma camada isolante é disposta entre as estruturas de eletrodo em cada caso. A título de exemplo, a camada isolante pode ser um polímero com propriedades dielétricas. A distância entre as estruturas de eletrodo é preferencialmente inferior a 1 mm. Van- tajosamente, uma amplitude menor do sinal de tensão é necessária para inflamar o plasma devido à pequena distância. No lugar do formato si- nuoso mostrado da primeira estrutura de eletrodo e da segunda estru- tura de eletrodo, as estruturas de eletrodo também poderiam ter um for- mato espiral, poderiam ser contínuas ou poderiam ter orifícios. As es- truturas de eletrodo consistem em um metal na modalidade mostrada. Em variantes diferentes da modalidade mostrada, estruturas de eletrodo produzidas de um plástico condutor ou de um têxtil com fios condutores são fornecidas. No lado voltado para a superfície a ser tratada, o aplica- dor de plasma mostrado tem uma camada isolante produzida de um po- límero, que é preferencialmente formada de um material biocompatível, como uma camada de proteção.
[00428] Opcionalmente, o aplicador de plasma mostrado também pode compreender uma estrutura espaçadora. Uma estrutura espaça- dora correspondente pode ser produzida de, por exemplo, um polímero, têxtil, hidrogel, à base de amido, por exemplo, como flocos de milho, lã enrolada padrão ou gaze e um absorvente e pode ser eletricamente iso- lante e, em particular, biocompatível. Uma estrutura espaçadora tam- bém pode ser formada por uma combinação dos materiais acima men- cionados. Uma estrutura espaçadora também pode ser configurada na forma de um cabo plano para inflamar um plasma. Em particular, a es- trutura espaçadora pode ser configurada como um cabo plano que é uma fonte de plasma ao mesmo tempo.
[00429] Opcionalmente, o aplicador de plasma mostrado tem pelo menos uma camada isolante como camada protetora no lado voltado para longe da superfície a ser tratada.
[00430] No lado voltado para a superfície a ser tratada, o aplicador de plasma mostrado pode ter uma camada de adesão ou um adesivo para fixar o aplicador de plasma sobre ou na superfície a ser tratada.
[00431] Além da forma retangular mostrada, o núcleo eletrotécnico do aplicador de plasma também pode ter geometrias alternativas. Em variantes diferentes, o núcleo eletrotécnico do aplicador de plasma tem um formato circular, um formato especificamente adaptado a uma de- terminada parte do corpo (por exemplo, um pé) ou o formato de um ci- lindro. Em uma variante, o aplicador de plasma é fornecido para ser fi- xado em forma cônica em torno de um tubo ou um cabo. Nesse caso, o aplicador de plasma é colocado em torno de um tubo ou um cabo de modo que um espaço de gás vedado seja criado sob um aplicador de plasma com o formato de um cone. Vantajosamente, um acesso colo- cado desse modo não precisa ser removido para facilitar o tratamento com um aplicador de plasma. Se antes de se estabelecer um acesso se souber que deve ser efetuado um tratamento com um aplicador de plasma, pode ser vantajoso que o aplicador de plasma tenha um orifício ou fenda através da qual pode ser guiado um cabo ou tubo. Como re- sultado, um acesso pode ser colocado primeiro e um tratamento de plasma pode ocorrer posteriormente sem que o acesso tenha que ser removido.
[00432] As variantes de uma unidade de fonte de alimentação móvel para um aplicador de plasma descritas abaixo com referência às Figu- ras 8A a 8F ou as variantes desses recursos que devem garantir o uso único de um aplicador de plasma podem ser combinadas em combina- ção com núcleos eletrotécnicos de qualquer uma das geometrias acima mencionadas ou outras geometrias para formar diferentes variantes do aplicador de plasma. Em particular, um núcleo eletrotécnico pode com- preender uma primeira camada isolante, seguida por uma primeira es- trutura de eletrodo aterrada, seguida por uma segunda camada isolante, seguida por uma segunda estrutura de eletrodo acionada durante a ope- ração, seguida por uma terceira camada isolante, seguida por uma ter- ceira, estrutura de eletrodo aterrada e, consequentemente, já pode ga- rantir a proteção de contato por si só.
[00433] A Figura 8A mostra um aplicador de plasma com um apare- lho de encaixe 70, que foi reunido com um aparelho de inserção 60 de uma unidade móvel de unidade de fonte de alimentação 110. A unidade de fonte de alimentação móvel 110 comparativamente pequena com- preende um armazenamento de energia e um aparelho de inserção. Ao contrário das variantes de um aparelho de inserção descrito em relação às figuras 1, 2, 3 e 5, o aparelho de inserção de uma unidade de fonte de alimentação móvel não precisa ser disposto na extremidade de um cabo relativamente longo fornecido para conexão a uma unidade de fonte de alimentação, tal como um gerador de tensão, que é predomi- nantemente usado de forma estacionária. A unidade de fonte de alimen-
tação móvel 110 pode ser mecânica e eletricamente conectada ao apa- relho de encaixe 70 de um aplicador de plasma por meio do aparelho de inserção 60. O aparelho de encaixe 70 mostrado e/ou o núcleo ele- trotécnico 50 podem ter variantes daqueles recursos que garantem uso único, como são descritos em relação às figuras 4 e 6, por exemplo. No estado conectado, o aplicador de plasma e a unidade de fonte de ali- mentação móvel formam uma unidade compacta, que pode ser facil- mente transportada por um paciente, mesmo durante a operação.
[00434] O armazenamento de energia da unidade de fonte de ali- mentação móvel 110 tipicamente não fornece um sinal de tensão na faixa de kV, mas um sinal de tensão de alguns volts, por exemplo, entre 5 e 20 volts. O sinal de tensão fornecido pode ser da ordem de uma tensão fornecida por uma bateria disponível comercialmente, por exem- plo, 9 V de um bloco de 9 V. No entanto, uma vez que, como regra, um sinal de tensão com uma amplitude de várias centenas de volts até 10 kV é exigido para inflamar um plasma, o sinal de tensão fornecido pelo armazenamento de energia da unidade de fonte de alimentação móvel deve ser transformado em um sinal de tensão de várias centenas de volts até 10 kV.
[00435] Para esse fim, o aplicador de plasma na modalidade descrita aqui, além disso, compreende um circuito elétrico (não mostrado), que transforma um sinal de tensão fornecido pela unidade de fonte de ali- mentação móvel 110 em uma tensão CA (pulsada) em uma faixa de tensão entre, preferencialmente, algumas centenas de V e 10 kV. Um circuito elétrico configurado para esse fim compreende, por exemplo, um inversor ou um inversor VCC-VCA em combinação com um trans- formador de tensão e um pulsador com, por exemplo, um ciclo de tra- balho pulsado de 1 s "ligado" e 9 s "desligado". Dependendo do uso, um aplicador de plasma não mostrado aqui pode ter um ciclo de trabalho pulsado diferente. O circuito elétrico é conectado eletricamente a pelo menos uma estrutura de eletrodo do aplicador de plasma e é adequado para fornecer uma amplitude do sinal de tensão suficientemente alta para inflamar um plasma para a estrutura de eletrodo.
[00436] Alternativamente, o circuito elétrico para transformar um si- nal de tensão com 5 a 20 V em um sinal de tensão com uma amplitude de várias centenas de V a 10 kV também pode ser integrado na unidade de fonte de alimentação móvel de energia, juntamente com o armaze- namento de energia e o aparelho de inserção. O armazenamento de energia da unidade de fonte de alimentação móvel fornece um sinal de tensão que é transformado pelo circuito elétrico correspondente, inte- grado na unidade de fonte de alimentação, em um sinal de tensão com uma amplitude correspondente que é suficiente para inflamar um plasma. Se o aparelho de inserção da unidade de fonte de alimentação móvel estiver conectado ao aparelho de encaixe de um aplicador de plasma, o sinal de tensão pode ser transmitido através de pistas condu- toras do aparelho de encaixe para pelo menos uma estrutura de eletrodo para inflamar um plasma. Então, o próprio aplicador de plasma não exige nenhum circuito elétrico para transformar um sinal de tensão em um sinal de tensão com uma amplitude na faixa de kV.
[00437] Em uma modalidade não mostrada aqui, um circuito elétrico é integrado em cada um dentre uma unidade de fonte de alimentação móvel e um aplicador de plasma. Se um aparelho de encaixe do aplica- dor de plasma for encaixado com um aparelho de inserção da unidade de fonte de alimentação móvel e uma conexão elétrica e mecânica tiver sido estabelecida, os dois circuitos elétricos formam um sistema de cir- cuito. Então, o sistema de circuito transforma uma tensão CC do arma- zenamento de energia da unidade de fonte de alimentação móvel em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma e guia o sinal de tensão para pelo menos uma estrutura de eletrodo no núcleo eletrotéc- nico.
[00438] Se o armazenamento de energia na unidade móvel de forne- cimento de energia 110 for um acumulador, é preferencial que o acumu- lador tenha uma modalidade que seja tão plana quanto possível e, por exemplo, tenha um comprimento de 9 cm, uma largura de 9 cm e um altura de 0,2 cm. Um acumulador correspondente preferencialmente tem uma alta capacidade, preferencialmente mais do que 4.000 mAh, e uma saída de corrente alta de mais do que 500 mA, em particular entre 1 e 2 A. Alternativamente, uma série de acumuladores menores também podem ser conectados em paralelo a fim de serem capazes de gerar uma corrente suficientemente alta.
[00439] Ao transformar uma tensão CC em um sinal de tensão sufi- ciente para inflamar um plasma, a tensão é tipicamente aumentada por um fator de 100 ou mais. Por sua vez, isso significa uma redução na corrente fornecida para uma bobina secundária de um transformador por um fator de 100. Com o uso de um armazenamento de energia for- mado por uma pluralidade de acumuladores conectados em paralelo, pode ser possível emitir uma corrente comparativamente alta por um curto período de tempo, sem que o armazenamento de energia fique muito quente no processo. O uso desse armazenamento de energia, que pode emitir alta corrente dentro de um curto período de tempo sem ficar quente no processo, pode ser vantajoso porque correntes na faixa de miliamperes até a faixa de amperes podem surgir brevemente du- rante uma descarga de plasma.
[00440] O armazenamento de energia da unidade de fonte de ali- mentação móvel 110 também pode ser um capacitor. Aqui, em particu- lar, o tamanho ou o peso e a capacitância do capacitor usado são deci- sivos. De preferência, o capacitor usado tem um peso de alguns gra- mas, um tamanho compacto na faixa de alguns centímetros, uma capa- citância na faixa de µF a mF e uma meia vida de descarga efetivamente de alguns segundos. O capacitor pode ser carregado por meio do apa- relho de inserção da unidade de fonte de alimentação móvel por meio de uma conexão com uma fonte de alimentação, por exemplo, um dis- positivo de carregamento. Quando o aparelho de inserção é conectado a um aparelho de encaixe, a energia armazenada no capacitor pode ser distribuída na forma de um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma em uma estrutura de eletrodo do aplicador de plasma através de pistas condutoras no aparelho de encaixe por meio de um circuito elétrico integrado no aparelho de inserção ou no aparelho de encaixe. Vantajosamente, pelo menos um componente elétrico, preferencial- mente um resistor elétrico, é conectado em série ou então em paralelo entre o capacitor e a pista condutora no aparelho de encaixe, a fim de restringir a corrente de descarga do capacitor.
[00441] Ao conectar a unidade de fonte de alimentação móvel a um aplicador de plasma e uma transferência de tensão resultante para pelo menos uma estrutura de eletrodo do aplicador de plasma, um paciente é capaz de inflamar um plasma a qualquer momento e em qualquer lu- gar após o aplicador de plasma ter sido aplicado acima da ferida. Assim, o paciente é independente de uma fonte de alimentação que é predomi- nantemente usada de forma estacionária e dependente de uma fonte de corrente local e pode usar o aplicador de plasma para um tratamento de plasma em qualquer lugar com o auxílio da unidade de fonte de alimen- tação móvel.
[00442] Vantajosamente, uma unidade de unidade de fonte de ali- mentação móvel 110, como mostrado na Figura 8A, é reutilizável. Em particular, isso ainda é verdadeiro se o próprio aplicador de plasma só puder ser usado uma vez.
[00443] A Figura 8B mostra um aplicador de plasma com uma uni- dade de fonte de alimentação integrada 110’ e um aparelho de encaixe
70. Assim, a unidade de fonte de alimentação móvel 110' é integrada no aplicador de plasma na modalidade mostrada. O núcleo eletrotécnico 50 do aplicador de plasma é conectado eletricamente à unidade de fonte de alimentação integrada 110’ por meio de um contato 112. Além disso, o aplicador de plasma compreende um aparelho de encaixe 70. Caso a unidade de fonte de alimentação móvel compreenda um acumulador ou capacitor, o último pode ser conectado e carregado por uma unidade de fonte de alimentação móvel ou estacionária por meio do aparelho de encaixe. Uma vez que o acumulador ou capacitor tenha sido suficiente- mente carregado, é possível interromper a conexão com a fonte de ali- mentação. Então, um paciente pode se mover independentemente de uma unidade de fonte de alimentação estacionária e pode inflamar um plasma independentemente de uma unidade de fonte de alimentação estacionária em qualquer lugar e em um momento posterior.
[00444] Então, um paciente pode se mover independentemente de uma unidade de fonte de alimentação estacionária e pode inflamar um plasma independentemente de uma unidade de fonte de alimentação estacionária em qualquer lugar e em um momento posterior. Um núcleo eletrotécnico pode compreender, em particular, uma primeira camada isolante, seguida por uma primeira estrutura de eletrodo aterrada, se- guida por uma segunda camada isolante, seguida por uma segunda es- trutura de eletrodo acionada durante a operação, seguida por uma ter- ceira camada isolante, seguida por uma terceira, estrutura de eletrodo aterrada e, consequentemente, já pode garantir a proteção de contato por si só.
[00445] A Figura 8C mostra um aplicador de plasma com unidade de fonte de alimentação integrada 120' e sem um aparelho de encaixe. A unidade de fonte de alimentação integrada 120' é conectada eletrica- mente ao núcleo eletrotécnico 50 do aplicador de plasma. O aplicador de plasma mostrado compreende uma unidade de fonte de alimentação móvel 120', integrada no aplicador de plasma, com um armazenamento de energia. Em contraste com as modalidades mostradas nas figuras 8A e 8B, o aplicador de plasma mostrado não tem aparelho de encaixe.
[00446] A título de exemplo, o armazenamento de energia pode ser uma bateria com capacidade entre 0,5 e 20 Ah, por exemplo, um bloco de 9 V disponível comercialmente. A tensão CC fornecida pelo armaze- namento de energia é transferida para um circuito elétrico integrado no aplicador de plasma e ali transformada em um sinal de tensão, prefe- rencialmente com amplitude na faixa de kV. Para inflamar um plasma, um sinal de tensão com uma amplitude de várias centenas de volts tam- bém pode ser suficiente. O sinal de tensão transformado é então trans- mitido para a pelo menos uma estrutura de eletrodo com o propósito de inflamar um plasma.
[00447] O uso único do aplicador de plasma pode igualmente ser as- segurado por meio de uma unidade de fonte de alimentação que é inte- grada no aplicador de plasma e tem um armazenamento de energia com uma carga limitada que não pode ser recarregada.
[00448] O uso único do aplicador de plasma mostrado com a unidade de fonte de alimentação integrada 120' pode ser assegurado em virtude de uma pista condutora para transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para uma estrutura de eletrodo ter um afunila- mento, por exemplo, como descrito em relação à Figura 6. Na região do afunilamento, a pista condutora tem uma resistência elétrica maior do que o restante da pista condutora. No final do tratamento, a unidade de fonte de alimentação pode fornecer um pulso de corrente, cuja intensi- dade de corrente é avaliada de modo que a pista condutora aqueça a tal ponto no afunilamento que derreta na região do afunilamento.
[00449] A energia armazenada no armazenamento de energia, por exemplo, uma bateria, da unidade de fonte de alimentação integrada também pode ser avaliada com precisão de uma forma tal que só seja suficiente apenas para um único tratamento. Um único tratamento tipi- camente tem uma duração de alguns minutos.
[00450] O aplicador de plasma mostrado também compreende uma estrutura espaçadora 122.
[00451] A Figura 8D mostra um aplicador de plasma com uma fenda de inserção 130 para uma unidade móvel de unidade de fonte de ali- mentação 110’. Na modalidade mostrada, o aplicador de plasma tem uma fenda de inserção 130 no lado superior, isto é, o lado voltado para longe de uma ferida, por meio da qual uma unidade de fonte de alimen- tação móvel 110’ pode ser fixada ao aplicador de plasma. O aplicador de plasma compreende contatos 112, que conectam uma estrutura de eletrodo do núcleo eletrotécnico 50 ao lado superior do aplicador de plasma. Em particular, os contatos 112 na superfície têm áreas de con- tato expostas, por meio das quais é possível estabelecer acoplamento galvânico com o armazenamento de energia da unidade de fonte de ali- mentação móvel 110’ quando a unidade de fonte de alimentação móvel 110' é inserida na fenda de inserção 130 do aplicador de plasma.
[00452] Na modalidade mostrada, o armazenamento de energia da unidade de fonte de alimentação móvel é um acumulador. Vantajosa- mente, carregar um acumulador vazio permite que a unidade de fonte de alimentação móvel seja usada várias vezes para fornecer energia para um aplicador de plasma. Além disso, a unidade de fonte de alimen- tação móvel compreende um circuito elétrico que é configurado para transformar uma tensão CC fornecida pelo acumulador em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma. Na modalidade mostrada, a unidade de fonte de alimentação móvel não compreende nenhum apa- relho de inserção. Portanto, um aparelho de carregamento integrado na unidade de fonte de alimentação móvel é fornecido para carregar o acu- mulador. Na modalidade exemplificativa mostrada, o aparelho de carre-
gamento compreende um arranjo de bobina receptora para carregar in- dutivamente o acumulador.
[00453] Também é concebível que o armazenamento de energia de uma unidade de fonte de alimentação possa ser carregado por meio de contatos. A título de exemplo, uma unidade de fonte de alimentação mó- vel pode ser inserida em uma fenda de inserção, fornecida para isso, de uma unidade de fonte de alimentação estacionária e o armazenamento de energia da unidade de fonte de alimentação pode ser carregado por meio de contatos. Também é concebível que um dispositivo de carrega- mento tenha fendas de inserção, nas quais uma unidade de fonte de alimentação pode ser inserida a fim de estabelecer contato elétrico entre o armazenamento de energia e uma unidade de fonte de alimentação do dispositivo de carregamento.
[00454] A Figura 8E mostra um aplicador de plasma com um arranjo de bobina receptora integrado 140 e com uma fenda de inserção 130, na qual uma unidade de fonte de alimentação móvel 110" foi inserida. As fendas de inserção 130, nas quais uma unidade de fonte de alimen- tação móvel 110" foi inserida, são situadas no lado do aplicador de plasma voltado para longe da superfície a ser tratada. No lado da uni- dade de fonte de alimentação móvel voltado para o lado do aplicador de plasma voltado para longe da superfície a ser tratada, a unidade de fonte de alimentação móvel compreende um arranjo de bobina trans- missora 150, que transfere energia elétrica fornecida por um armazena- mento de energia (não mostrado) integrado na unidade de fonte de ali- mentação móvel 110" para o arranjo de bobina receptora 140 do aplica- dor de plasma por meio de acoplamento indutivo. Assim, a unidade de fonte de alimentação móvel 110" tem um armazenamento de energia (não ilustrado) que fornece a energia que é transferida do arranjo de bobina transmissora 150 para o arranjo de bobina receptora 140 por meio de acoplamento indutivo.
[00455] Também é concebível que a unidade de fonte de alimenta- ção 110” não seja uma unidade de fonte de alimentação móvel e não tenha um armazenamento de energia. A título de exemplo, essa unidade de fonte de alimentação pode ser conectada a um cabo, que é conec- tado a uma unidade de fonte de alimentação estacionária na outra ex- tremidade. Nesse caso, a energia é fornecida por meio de uma unidade de fonte de alimentação estacionária, em que a dita energia é transfe- rida por meio de acoplamento indutivo do arranjo de bobina transmis- sora 150 para o arranjo de bobina receptora 140.
[00456] O núcleo eletrotécnico 50 é situado no lado do aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada e conectado eletrica- mente por meio de contatos a um arranjo de bobina receptora plana 140 situado acima do mesmo. O arranjo de bobina receptora 140 é situado no lado do aplicador de plasma voltado para longe da superfície a ser tratada e completamente coberto por um invólucro 45 do aplicador de plasma. A título de exemplo, o invólucro 45 do aplicador de plasma pode ser produzido com o uso de um método de moldagem por injeção.
[00457] Vantajosamente, o aplicador de plasma da modalidade mos- trada pode ser completamente sobremoldado por um invólucro 45. Em particular, não existem contatos eléctricos expostos. Consequente- mente, é fácil limpar, desinfetar e/ou esterilizar o aplicador de plasma.
[00458] A Figura 8F mostra um aplicador de plasma com uma uni- dade de fonte de alimentação integrada 120" com um armazenamento de energia, que pode ser carregado por meio de um aparelho de carre- gamento indutivo integrado 160 da mesma forma.
[00459] Na modalidade mostrada, o núcleo eletrotécnico 50 fica situ- ado no lado do aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tra- tada e conectado eletricamente por meio de contatos 112 a um armaze- namento de energia recarregável integrado no aplicador de plasma. A título de exemplo, o armazenamento de energia recarregável pode ser um acumulador ou um capacitor.
[00460] Em seu lado superior, o armazenamento de energia tem dois contatos separados 114, que conectam eletricamente o armazena- mento de energia ao aparelho de carregamento 160, em particular um arranjo de bobina receptora. O acoplamento indutivo permite que a energia elétrica seja transmitida de uma estação de carregamento dis- ponível comercialmente para o aparelho de carregamento 160 com o propósito de carregar o armazenamento de energia. Um circuito elétrico é integrado ao armazenamento de energia e configurado para transfor- mar um sinal de tensão CC fornecido pelo armazenamento de energia em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma. O sinal de tensão transformado é então transmitido por meio de contatos elétricos 112 para a pelo menos uma estrutura de eletrodo no núcleo eletrotéc- nico 50.
[00461] A Figura 9 mostra um aplicador de plasma com um núcleo eletrotécnico 50, que pode ser combinado com variantes daqueles re- cursos que garantem o uso único e com as variantes descritas para uma fonte de alimentação móvel. O núcleo eletrotécnico 50 pode compreen- der, em particular, uma primeira camada isolante, seguida por uma pri- meira estrutura de eletrodo aterrada, seguida por uma segunda camada isolante, seguida por uma segunda estrutura de eletrodo acionada du- rante a operação, seguida por uma terceira camada isolante, seguida por uma terceira, estrutura de eletrodo aterrada e, consequentemente, já pode garantir a proteção de contato por si só.
[00462] O aplicador de plasma mostrado compreende uma estrutura espaçadora redimensionável 122'. A estrutura espaçadora redimensio- nável 122' pode consistir em, por exemplo, silicone, plástico ou têxtil e tem uma função de apoio para uma cobertura de ferida 910, a fim de estabelecer uma distância definida entre a superfície a ser tratada e o lado do aplicador de plasma voltado para a superfície a ser tratada.
Como resultado de uma estrutura espaçadora redimensionável, um apli- cador de plasma pode ser adaptado a diferentes tamanhos de feridas, por exemplo, rasgando-se ou cortando-se uma estrutura espaçadora. Em princípio, todas as ferramentas e métodos de separação mecânica disponíveis na clínica ou em atendimento ambulatorial podem ser usa- dos para adaptar o tamanho de uma estrutura espaçadora ao tamanho da ferida. O próprio aplicador de plasma permanece intocado pelo pro- cesso de dimensionamento. Na modalidade mostrada, a estrutura es- paçadora é permeável a gás e flexível. O tamanho da estrutura espaça- dora pode ser adaptado a um formato final por corte ou um processo alternativo por um usuário.
[00463] Opcionalmente, um aplicador de plasma pode ser fixado a uma estrutura espaçadora por meio de conexões definidas, por braça- deiras ou um adesivo ou por pontos adesivos fornecidos na superfície de uma estrutura espaçadora. Uma estrutura espaçadora tem, preferen- cialmente, uma configuração em formato de malha e tem uma região no centro onde o núcleo eletrotécnico é disposto ou pode ser fixado. De preferência, um número maior de estruturas de malha é fornecido nessa região, de modo que o aplicador de plasma tenha uma retenção sufici- entemente segura na estrutura espaçadora. Por meio de, por exemplo, um emplastro para feridas, um filme adesivo, um emplastro de banho, uma atadura de gaze ou outro material de curativo, a estrutura espaça- dora conectada a um aplicador de plasma e adaptada ao tamanho da ferida pode ser fixada sobre ou na ferida de modo que um espaço de gás vedado surja em torno do aplicador de plasma e da estrutura espa- çadora, entre a superfície a ser tratada e a cobertura de ferida 910.
[00464] A Figura 10A mostra uma estrutura espaçadora 200 que é uma descarga de barreira dielétrica (DBD) ao mesmo tempo. A estrutura espaçadora tem o formato de uma pluralidade de favos de mel contí- guos. Como mostrado em relação a um corte 210 de um favo de mel da estrutura espaçadora, um plasma inflamado 220 (indicado pela região hachurada) se propaga nas bordas de um favo de mel 210. A título de exemplo, uma estrutura espaçadora pode ser produzida de um cabo plano de dois núcleos. A Figura 10B mostra um corte transversal da estrutura espaçadora 200. Aqui, a estrutura de eletrodo acionada 230 e o contraeletrodo 240, que está tipicamente no potencial de referência, são visíveis. Então, um plasma 220 inflama, respectivamente, à direita e à esquerda do cabo ou dentro e fora do favo de mel.
[00465] A Figura 11 mostra um circuito fechado 300, que compre- ende um cabo de dois núcleos. O circuito fechado 300 tem pontos de conexão 310, que poderiam ser, por exemplo, um ponto adesivo, um ponto de fusão, um ponto de solda. Os revestimentos dos dois cabos são conectados firmemente um ao outro nos pontos de conexão 310. O circuito elétrico 300 mostrado na Figura 7 representa uma possibilidade de como um espaçador de uma estrutura espaçadora pode ser constru- ído a partir de cabos planos. Aqui, as seções do cabo são verticais e, portanto, o plasma queima à direita e à esquerda do cabo, como mos- trado na Figura 10B. As seções de cabo são onduladas; um circuito fe- chado 300 é completamente autônomo de outros circuitos fechados, por exemplo, 300' e 300", cada um dos quais é formado por um cabo dife- rente. Todos os cabos estão em contato elétrico uns com os outros em um lado longitudinal da estrutura de eletrodo formado pelos cabos. O formato é escolhido de forma a poder ser produzido da forma mais fácil possível com pouco gasto de fabricação.
[00466] A Figura 12 mostra uma vista plana do lado de um núcleo eletrotécnico 50 voltado para uma superfície a ser tratada e que tem uma camada isolante 20, que é disposta entre uma estrutura de eletrodo acionada 10 e um contra eletrodo 10’. As pistas condutoras 79, 79' são conectadas eletricamente à estrutura de eletrodo acionada 10 e ao con-
traeletrodo 10', respectivamente, e são pistas condutoras de um apare- lho de encaixe em formato de cartão com chip.
[00467] A Figura 13 mostra uma vista plana de um lado do núcleo eletrotécnico 50, mostrado na Figura 12, voltado para longe da superfí- cie a ser tratada e que tem uma camada isolante 20, que é disposta entre uma estrutura de eletrodo 10 que é acionada por um sinal de ten- são e um contraeletrodo 10’. Uma das pistas condutoras 79, 79' é co- nectada eletricamente à estrutura de eletrodo acionada 10 e ao contra- eletrodo 10', respectivamente, e são pistas condutoras de um aparelho de encaixe em formato de cartão com chip.
[00468] A Figura 14 mostra uma vista plana do lado do núcleo ele- trotécnico 50, mostrado na figura 13, voltado para longe da superfície a ser tratada e que tem uma camada isolante 20, que é disposta entre uma estrutura de eletrodo acionada 10 e um contra eletrodo 10’. Na ilus- tração mostrada, um reforço em formato de cartão com chip 75 é colado, laminado, ligado adesivamente, etc. nas pistas condutoras 79, 79' do aparelho de encaixe. O contraeletrodo 10’ fica situado no lado voltado para a superfície a ser tratada.
[00469] A Figura 15 mostra um aparelho de inserção 60 com um co- nector de tensão 71 e um conector de aterramento 72. Além disso, o aparelho de inserção 60 compreende indutores 67 e plugues de veda- ção 66. O aparelho de inserção 60 é conectado por meio de um cabo blindado múltiplo 80 a uma unidade de fonte de alimentação, não mos- trado. A proteção contra dobra 81 é fornecida para estabilizar o cabo 80. A Figura 15 indica como um aparelho de encaixe 70 é inserido no apa- relho de inserção 60 a fim de transmitir um sinal de tensão fornecido por uma unidade de fonte de alimentação para uma estrutura de eletrodo (não mostrada) que é acionada pelo sinal de tensão.
[00470] A Figura 16 indica como uma sede segura mecanicamente pode ser estabelecida entre um aparelho de encaixe 70 e um aparelho de inserção, meramente indicado por elementos de encaixe de pressão nesse caso. Na modalidade mostrada, uma sede mecanicamente se- gura é realizada por meio de uma mola com uma esfera em ambos os lados de um aparelho de inserção e um recorte correspondente no apa- relho de contato de encaixe 70. Em uma modalidade não mostrada aqui, um braço de mola com uma protuberância apropriadamente ajustada também pode travar em um recorte fornecido para a mesma.
[00471] A Figura 17 mostra um núcleo eletrotécnico 50, que foi inte- grado em uma almofada absorvente. Em uma modalidade não mostrada aqui, uma almofada é pressionada ou costurada em torno de um núcleo eletrotécnico. Nesse caso, a almofada representa o invólucro do núcleo eletrotécnico. De preferência, o núcleo eletrotécnico 50 é completa- mente envolvido por uma gaze ou uma almofada e/ou um têxtil. Em uma modalidade não mostrada aqui, o lado superior (voltado para longe do corpo) é vedado de forma hermética por meio de um filme e uma ca- mada de adesão é aplicada ao lado voltado para a superfície a ser tra- tada.
[00472] A Figura 18 mostra um núcleo eletrotécnico 50, que é, por exemplo, inserido ou então costurado em uma aba já existente de uma bandagem ou de um têxtil. A aba é preferencialmente configurada de uma maneira tal que o núcleo eletrotécnico 50 desapareça completa- mente dentro da aba no caso de um estado completamente inserido ou costurado.
[00473] A Figura 19 mostra um corte transversal através de um apli- cador de plasma 1900 particularmente preferencial com um núcleo ele- trotécnico 1902. O núcleo eletrotécnico 1902 compreende seis estrutu- ras planas semelhantes a camadas, que têm uma configuração plana e são dispostas em uma pilha de camadas como camadas umas sobre as outras. Uma primeira camada isolante 1906 com uma configuração plana, produzida de um material biocompatível, fica situada no lado
1904 do núcleo eletrotécnico 1902 que é voltado para a superfície hu- mana ou animal ou técnica durante o uso. A primeira camada isolante 1906 pode estar em contato direto com a superfície humana ou animal ou técnica quando o aplicador de plasma 1900 é aplicado à superfície correspondente. Em variantes diferentes, a primeira camada isolante compreende um filme eletricamente isolante e/ou uma laca eletrica- mente isolante e/ou uma camada adesiva eletricamente isolante e/ou silicone.
[00474] Na direção do lado voltado para longe da superfície a ser tratada, a primeira camada isolante 1906 é seguida por uma primeira estrutura de eletrodo 1908, que tem a função de um eletrodo de aterra- mento. Na modalidade mostrada, a primeira estrutura de eletrodo 1908 tem geometria específica, que é sinuosa, em formato de espiral, for- mada por uma área com orifícios, quadrados, em formato de U, em for- mato de E, em formato de M, em formato de L, em formato de C, em formato de X ou em formato de O em variantes diferentes da modalidade mostrada. A primeira estrutura de eletrodo 1908 é preferencialmente produzida com o uso do método de impressão de tela e tem uma espes- sura entre 5 µm e 200 µm. Em uma modalidade não mostrada aqui, a primeira estrutura de eletrodo 1908 é configurada como um eletrodo plano com uma superfície fechada.
[00475] A primeira estrutura de eletrodo na forma de um eletrodo de aterramento 1908 é seguida por uma segunda camada isolante 1910, que é formada em toda a área, ou seja, como uma área fechada. Em variantes diferentes, a segunda camada isolante 1910 compreende, por exemplo, um filme eletricamente isolante e/ou uma laca eletricamente isolante e/ou uma camada adesiva eletricamente isolante e/ou silicone e tem uma espessura entre 50 µm e 200 µm, preferencialmente entre 75 µm e 100 µm.
[00476] Na segunda camada isolante 1910 é disposta uma segunda estrutura de eletrodo 1912, que é acionada por um sinal de tensão com a finalidade de gerar um plasma durante o uso. Essa segunda estrutura de eletrodo 1912, acionada durante o uso por um sinal de tensão, da mesma forma tem uma geometria específica. Opcionalmente, a se- gunda estrutura de eletrodo também pode ser configurada como um ele- trodo planar. A segunda estrutura de eletrodo 1912, acionada durante o uso, é preferencialmente produzida com o uso do método de impressão em tela e tem uma espessura entre 5 µm e 200 µm, preferencialmente entre 5 µm e 100 µm, preferencialmente entre 5 µm e 20 µm.
[00477] A segunda camada isolante 1910 disposta entre a primeira estrutura de eletrodo 1908 no potencial de terra e a segunda estrutura de eletrodo 1912 acionada durante a aplicação traz um isolamento gal- vânico das duas estruturas de eletrodo.
[00478] A segunda estrutura de eletrodo 1912, acionada durante o uso por um sinal de tensão, é seguida por uma terceira camada isolante 1914, que preferencialmente compreende um filme eletricamente iso- lante e/ou uma camada adesiva eletricamente isolante.
[00479] Na terceira camada isolante 1914 é disposta uma terceira estrutura de eletrodo 1916. Esta terceira estrutura de eletrodo 1916, que é configurada como um eletrodo plano, preferencialmente como um filme condutor elétrico, fica no potencial de referência durante a aplica- ção. A terceira estrutura de eletrodo 1916 tem uma espessura, prefe- rencialmente entre 20 µm e 200 µm, preferencialmente entre 20 µm e 100 µm. Durante o uso, a terceira estrutura de eletrodo 1916 cumpre a função de proteção de contato e blindagem EMC. Isto é, durante a ope- ração, a terceira estrutura de eletrodo 1916 garante uma falta de campo entre a segunda estrutura de eletrodo acionada 1912 e um potencial de referência aplicado diretamente ao lado externo do núcleo eletrotécnico.
[00480] A terceira camada isolante 1914 disposta entre a segunda estrutura de eletrodo 1912, acionada durante o uso, e a terceira estru- tura de eletrodo 1916 tem uma configuração de área inteira e promove um isolamento elétrico de área inteira ou isolamento galvânico da ter- ceira estrutura de eletrodo 1916 da segunda estrutura de eletrodo 1912.
[00481] Assim, um segundo eletrodo de aterramento 1916 é forne- cido além de um primeiro eletrodo de aterramento 1908 no núcleo ele- trotécnico 1902 mostrado, em que o dito segundo eletrodo de aterra- mento é isolado galvanicamente da segunda estrutura de eletrodo 1912, acionada durante a aplicação, por uma terceira camada isolante 1914. Como como resultado, a proteção de contato durante a operação já é realizada pelo próprio núcleo eletrotécnico 1902. A terceira estrutura de eletrodo 1916 impede ruptura elétrica durante a operação entre a se- gunda estrutura de eletrodo acionada 1912 e um potencial de referência fora do núcleo eletrotécnico ou um potencial de referência virtual na forma da superfície a ser tratada ou uma humana ou animal. Vantajosa- mente, isso permite uma estrutura comparativamente simples de um in- vólucro 1918, uma vez que um invólucro 1918 não precisa mais neces- sariamente cumprir a função de proteção de contato. Em particular, um invólucro complicado composto de uma primeira, segunda e terceira ca- madas moldadas por injeção pode ser dispensado no núcleo eletrotéc- nico descrito aqui. No caso de núcleos eletrotécnicos convencionais sem uma terceira camada isolante e uma terceira estrutura de eletrodo, um invólucro feito de uma primeira, segunda e terceira camadas molda- das por injeção é tipicamente exigido, uma vez que, começando do lado voltado para longe do paciente, a primeira camada moldada por injeção consiste em silicone biocompatível, a segunda camada moldada por in- jeção consiste em silicone condutor, que está no potencial de terra du- rante a operação, e a terceira camada moldada por injeção consiste em silicone biocompatível. Assim, o invólucro deve garantir a compatibili- dade no contato com a superfície a ser tratada e, ao mesmo tempo, a proteção de contato. Esse invólucro é comparativamente complexo de fabricar.
[00482] No núcleo eletrotécnico descrito aqui, as funções da primeira e da segunda camadas moldadas por injeção como estruturas e cama- das são integradas na forma de filmes finos no próprio núcleo eletrotéc- nico. Em particular, um núcleo eletrotécnico como descrito aqui pode ser sobremoldado por apenas uma camada moldada por injeção de si- licone.
[00483] Vantajosamente, esse núcleo eletrotécnico é, ele próprio, se- guro ao toque e seguro para EMC. De forma particularmente vantajosa, esse núcleo eletrotécnico pode ser usado como um módulo e pode ser integrado em qualquer aplicador ou invólucro de plasma. A título de exemplo, um núcleo eletrotécnico como descrito aqui pode ser integrado em uma almofada, em um superabsorvente, em solas de sapatos, em meias de compressão, em vestuário.
[00484] É particularmente vantajoso que esse núcleo eletrotécnico possa ser produzido com uma espessura de 300 µm ou menos. Esse núcleo eletrotécnico tem uma integração vertical comparativamente baixa e pode ser produzido, por exemplo, como um laminado de filme. Vantajosamente, um núcleo eletrotécnico como descrito aqui pode ser produzido de forma significativamente mais fácil e econômica, mas pre- ferencialmente ainda é comparativamente plano e flexível, e muito flexí- vel em relação ao uso. Vantajosamente, um núcleo eletrotécnico como descrito aqui pode ser produzido no mesmo processo de fabricação com um aparelho de encaixe na forma de uma aba.
[00485] Por conseguinte, o núcleo eletrotécnico 1902 mostrado aqui tem seis camadas, em que, na pilha de camadas das seis camadas, uma camada isolante 1906, 1910, 1914 e uma estrutura de eletrodo 1908, 1912, 1916 se alternam em cada caso. Um núcleo eletrotécnico 1902 como mostrado na figura 19 pode ser produzido com uma despesa de produção comparativamente baixa e com custos de produção com- parativamente baixos.
[00486] Para produzir o núcleo eletrotécnico 1902 mostrado, uma ter- ceira camada isolante 1914, formada por um filme, é laminada na se- gunda estrutura de eletrodo 1912 que é acionada durante a operação por um sinal de tensão. O efeito de isolamento elétrico da terceira ca- mada isolante pode ser reforçado por um adesivo usado para a lamina- ção, em particular. Então, a terceira estrutura de eletrodo 1916 é apli- cada à terceira camada isolante 1914. Também é concebível que a ter- ceira camada isolante seja formada pelo adesivo para fins de laminação e não como um filme separado. Nesse caso, a terceira estrutura de ele- trodo pode ser laminada diretamente na segunda estrutura de eletrodo, com o adesivo entre a segunda e a terceira estruturas de eletrodo re- presentando a terceira camada isolante.
[00487] Na ilustração mostrada, as espessuras das camadas indivi- duais do sistema de múltiplas camadas são escolhidas de uma forma tal que a espessura total ao longo da pilha de camadas do núcleo ele- trotécnico mostrado 1902 varie entre aproximadamente 200 µm e 300 µm, dentro das tolerâncias de erro usuais. Consequentemente, isso ga- rante que o núcleo eletrotécnico 1902 seja capaz de ser deformado comparativamente bem e possa ser adaptado de forma comparativa- mente fácil a diferentes formatos de corpo e/ou superfície.
[00488] Na modalidade exemplificativa mostrada, as camadas des- critas do núcleo eletrotécnico 1902 são produzidas como um laminado. Assim, o núcleo eletrotécnico 1902 consiste em um laminado de filme.
[00489] A modalidade mostrada compreende um invólucro 1918 feito de um material biocompatível. A título de exemplo, um material biocom- patível adequado 1918 é silicone, laca, gaze, têxteis, absorventes ou adesivos de grau médico ou uma combinação dos materiais acima men- cionados.
[00490] Uma vez que a terceira estrutura de eletrodo 1916, aterrada durante o uso, cumpre a função de proteção de contato e compatibili- dade EMC, o invólucro 1918 da modalidade mostrada pode ser configu- rado por uma moldagem simples de silicone, por exemplo. Assim, o in- vólucro 1918 mostrado tem uma estrutura comparativamente simples.
[00491] Na modalidade mostrada, o núcleo eletrotécnico 1902 é ape- nas parcialmente fechado pelo invólucro 1918. Em particular, nenhum invólucro 1918 poderia ser fornecido no lado 1904 do núcleo eletrotéc- nico 1902 que fica voltado para a superfície a ser tratada durante um tratamento de plasma. O invólucro 1918 pode ser produzido, por exem- plo, com o uso de um método de moldagem por injeção, um método de imersão ou um método de pintura. Em uma modalidade não mostrada aqui, um núcleo eletrotécnico é completamente envolvido por um invó- lucro, por exemplo, na forma de um têxtil ou gaze ou almofadas.
[00492] Em uma modalidade não mostrada aqui, um núcleo eletro- técnico e, em particular, a segunda estrutura de eletrodo, que é acio- nada durante o uso, são conectados eletricamente a um aparelho de encaixe. Esse aparelho de encaixe preferencialmente é configurado na forma de cartão com chip e como descrito em relação à Figura 2. Em variantes, não mostradas aqui, da modalidade mostrada aqui, um apa- relho de encaixe ou um núcleo eletrotécnico tem pelo menos um recurso que garante o uso único do aplicador de plasma. A título de exemplo, tal recurso pode ser configurado por um afunilamento de uma pista condu- tora do aparelho de encaixe, como mostrado na figura 6, ou um afunila- mento de uma seção de eletrodo de uma estrutura de eletrodo no núcleo eletrotécnico ou como elementos de travamento como descrito em rela- ção à figura 16.
[00493] Em uma modalidade, não mostrada aqui, um aplicador de plasma compreende uma unidade de fonte de alimentação integrada e um aparelho de encaixe. Como descrito em relação à figura 8B, a uni- dade de fonte de alimentação integrada pode ser conectada e carregada por uma unidade de fonte de alimentação móvel ou estacionária por meio do aparelho de encaixe.
[00494] Em uma modalidade adicional, não mostrada aqui, um apli- cador de plasma compreende uma unidade de fonte de alimentação in- tegrada com um armazenamento de energia, mas nenhum aparelho de encaixe. Como descrito em relação à figura 8C, a unidade de fonte de alimentação integrada é conectada eletricamente ao núcleo eletrotéc- nico para fornecer energia a este último com o objetivo de inflamar um plasma físico.
[00495] Em uma modalidade adicional, não mostrada aqui, um apli- cador de plasma compreende uma fenda de inserção que é configurada para receber uma unidade de fonte de alimentação móvel. Como des- crito em relação à figura 8D, o aplicador de plasma pode ter contatos que, em particular, conectam a estrutura de eletrodo do núcleo eletro- técnico acionado durante o uso ao lado superior do aplicador de plasma. Os contatos na superfície têm áreas de contato expostas, por meio das quais é possível estabelecer um acoplamento galvânico com um arma- zenamento de energia de uma unidade de fonte de alimentação móvel quando uma unidade de fonte de alimentação móvel é inserida na fenda de inserção do aplicador de plasma.
[00496] Em uma modalidade adicional, não mostrada aqui, um apli- cador de plasma compreende um arranjo de bobina receptora integrado e uma fenda de inserção na qual uma unidade de fonte de alimentação móvel com um arranjo de bobina transmissora pode ser inserida. Como descrito em relação à figura 8E, o arranjo de bobina transmissora pode ser usado para transferir energia elétrica fornecida por um armazena- mento de energia integrado na unidade de fonte de alimentação móvel para o arranjo de bobina receptora do aplicador de plasma por meio de acoplamento indutivo para fins de fornecimento energia para o núcleo eletrotécnico e, consequentemente, com o propósito de inflamar um plasma físico.
[00497] Em uma modalidade adicional não mostrada aqui, um apli- cador de plasma compreende uma unidade de fonte de alimentação in- tegrada com um acumulador ou um capacitor, que pode ser carregado por meio de um dispositivo de carregamento que é integrado da mesma forma. Como descrito em relação à figura 8F, o acoplamento indutivo pode ser usado para transmitir energia elétrica de uma estação de car- regamento disponível comercialmente para o aparelho de carrega- mento, a fim de carregar um armazenamento de energia da unidade de fonte de alimentação integrada com a finalidade de fornecer energia para o núcleo eletrotécnico.
[00498] As Figuras 20, 21, 22 e 23 mostram, cada uma, produtos intermediários selecionados de um método de produção para a produ- ção de um núcleo eletrotécnico, como mostrado na Figura 19.
[00499] A Figura 20 mostra uma vista plana daquele lado de um nú- cleo eletrotécnico 2000 que é voltado para longe da superfície a ser tra- tada durante um tratamento de plasma. O núcleo eletrotécnico 2000 compreende uma segunda estrutura de eletrodo 2002 que é acionada durante a operação por um sinal de tensão. A segunda estrutura de ele- trodo 2002, acionada durante o uso, tem uma geometria específica com uma modalidade em formato de pente. Na direção do lado voltado para o lado a ser tratado, a segunda estrutura de eletrodo 2002, acionada durante o uso, é seguida por uma segunda camada isolante 2006 e esta segunda camada isolante é seguida por uma primeira estrutura de ele- trodo aterrada 2004, que representa aquele eletrodo de aterramento vol- tado para a superfície a ser tratada durante o uso. Tanto a segunda estrutura de eletrodo 2002, acionada durante o uso, quanto a primeira estrutura de eletrodo 2004 compreendem uma respectiva pista condu- tora 2008, 2010, que, de um lado longitudinal do núcleo eletrotécnico 2000, leva para longe das estruturas de eletrodo correspondentes 2002, 2004 de forma perpendicular no mesmo plano horizontal. Essas faixas condutoras 2008, 2010 formam as faixas condutoras de um aparelho de encaixe. Faixas condutoras correspondentes do aparelho de encaixe são então conectadas de forma eletricamente condutiva ao núcleo ele- trotécnico 2000. Opcionalmente, o aparelho de encaixe pode compre- ender um reforço.
[00500] Na direção do lado da superfície a ser tratada, a primeira es- trutura de eletrodo mostrada 2004 é seguida por uma primeira camada isolante (não mostrada), que pode entrar em contato direto com uma superfície a ser tratada durante o uso. A primeira camada isolante (não mostrada) é configurada de uma forma tal que também isola eletrica- mente as pistas condutoras 2008, 2010 na direção de uma superfície a ser tratada.
[00501] A Figura 21 mostra uma vista plana daquele lado de um nú- cleo eletrotécnico 2100 que é voltado para longe da superfície a ser tra- tada durante um tratamento de plasma. Essencialmente, o terceiro iso- lamento 2102 do núcleo eletrotécnico 2100 mostrado é visível, em que a dita camada isolante é disposta no lado voltado para longe da super- fície a ser tratada durante um tratamento de plasma e na segunda es- trutura de eletrodo (não mostrada) que é acionada durante a operação. Essa terceira camada isolante 2102 cumpre a função de isolar galvani- camente a segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação, e uma terceira estrutura de eletrodo (não mostrada), que é disposta na terceira camada isolante, uma da outra. A terceira camada isolante mostrada 2102 tem uma configuração de área inteira e tem uma aba 2104, que cobre ambas as pistas condutoras, no ponto em que as pistas condutoras da segunda estrutura de eletrodo, que é acionada du- rante o uso, e da primeira estrutura de eletrodo, disposta na lateral do núcleo eletrotécnico 2100 voltado para a superfície a ser tratada, são levadas para longe. No entanto, a aba 2104 não termina nivelada com a extremidade de 2106 da pista condutora da estrutura de eletrodo aci- onada durante a operação, mas termina antes. Como resultado, a face de contato 2108 da pista condutora permanece exposta, o que repre- senta uma face de contato para transmitir um sinal de tensão entre o aparelho de encaixe e os contatos do aparelho de inserção.
[00502] A Figura 22 mostra uma vista plana daquele lado de um nú- cleo eletrotécnico 2200 que é voltado para longe da superfície a ser tra- tada durante um tratamento de plasma. Essencialmente, a terceira es- trutura de eletrodo 2202 do núcleo eletrotécnico 2200 mostrado é visí- vel, em que a dita terceira estrutura de eletrodo é disposta no lado vol- tado para longe do lado a ser tratado e é isolada galvanicamente por uma terceira camada isolante (sinal de referência 2102 na figura 21) de uma segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante o uso. Essa terceira estrutura de eletrodo 2002 cumpre a função de proteção de con- tato e proteção EMC, de modo que não haja ruptura elétrica entre uma estrutura de eletrodo acionada do núcleo eletrotécnico 2200 e um po- tencial de referência diretamente aplicado ao lado externo ou um poten- cial de referência virtual durante o uso, por exemplo, como resultado do contato com um paciente ou usuário. A terceira estrutura de eletrodo 2202 mostrada é preferencialmente configurada como um eletrodo plano; ou seja, não tem geometria específica. No lado 2204 do núcleo eletrotécnico 2200 no qual as pistas condutoras conduzem para longe da segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante o uso, e da primeira estrutura de eletrodo, disposta no lado do núcleo eletrotécnico 2200 voltado para a superfície a ser tratada, a terceira estrutura de ele-
trodo 2202 mostrada também compreende uma pista condutora em for- mato de aba 2206. A pista condutora em formato de aba 2206 cobre completamente a região 2208, na qual tanto a pista condutora da se- gunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação, e a pista condutora da primeira estrutura de eletrodo (não mostrada) são situadas. Na região 2210, que vai além da região 2208 com ambas as pistas condutoras e compreende ainda apenas a pista condutora da se- gunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação, a pista condutora em formato de aba 2206 da terceira estrutura de eletrodo mostrada 2202 tem uma largura suficiente para que a blindagem da se- gunda estrutura de eletrodo seja assegurada, proteção de contato seja fornecida e, ao mesmo tempo, uma inflamação de descarga de plasma entre a terceira estrutura de eletrodo e a segunda estrutura de eletrodo seja impedida. A terceira camada isolante 2212 disposta entre as mes- mas tem uma largura maior do que a pista condutora da segunda estru- tura de eletrodo, que é acionada durante a operação, a fim de garantir o isolamento galvânico das duas estruturas de eletrodo. A pista condu- tora em formato de aba 2206 da terceira estrutura de eletrodo mostrada 2202 já termina antes da extremidade 2214 da aba da terceira camada isolante mostrada 2212 de modo que, além disso, uma face de contato 2216 da pista condutora da segunda estrutura de eletrodo, que é acio- nada durante a operação, permaneça exposta a fim de estabelecer con- tato elétrico entre o aparelho de encaixe formado e os contatos do apa- relho de inserção com o propósito de transmitir um sinal de tensão.
[00503] A Figura 23 mostra uma vista plana daquele lado de um nú- cleo eletrotécnico 2300 que é voltado para longe da superfície a ser tra- tada durante um tratamento de plasma. Essencialmente, a terceira es- trutura de eletrodo 2302 com uma pista condutora em formato de aba 2304, como descrito em relação à Figura 22, do núcleo eletrotécnico 2300 mostrado é visível. Além do núcleo eletrotécnico 2200 mostrado na Figura 22, o núcleo eletrotécnico 2300 mostrado aqui compreende um reforço em formato de cartão com chip 2306, que envolve a pista condutora em formato de aba das estruturas de eletrodo e camadas iso- lantes descritas em relação às Figuras 20, 21, e 22 e pistas condutoras em formato de aba das estruturas de eletrodo, não descritas, mas ainda presentes no núcleo eletrotécnico 2300 e nas abas das camadas iso- lantes. Em particular, o reforço em formato de cartão com chip 2306 tem o mesmo formato básico que as pistas condutoras em formato de aba, assim envolvidas ou dispostas em um lado, e abas; isto é, na região 2308 que contém tanto a estrutura condutora da segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação, quanto a pista condutora da terceira estrutura de eletrodo no potencial de terra, a estrutura em formato de cartão com chip 2306 também tem uma largura maior do que na região 2310, na qual existe apenas a pista condutora da segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação. Na região 2310 que contém apenas a pista condutora da segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação, o reforço em formato de cartão com chip 2306 termina nivelado com a extremidade da camada isolante mostrada na Figura 21 de modo que a face de contato 2314 da pista condutora da segunda estrutura de eletrodo, que é acionada du- rante a operação, continue a permanecer exposta.
[00504] Na região 2308, que contém tanto a pista condutora da se- gunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação, quanto a pista condutora da terceira estrutura de eletrodo, a estrutura em for- mato de cartão com chip 2306 é configurada de uma forma tal que ter- mine antes da extremidade 2316 da pista condutora em formato de aba 2304 da terceira estrutura de eletrodo 2306 no lado em que a pista con- dutora da terceira estrutura de eletrodo 2302 está situada, e assim uma face de contato 2318 da pista condutora, na forma de uma pista condu- tora em formato de aba 2316 da terceira estrutura de eletrodo 2302,
também permanece exposta neste caso.
[00505] A Figura 24 mostra um aparelho de encaixe 2400, que é en- caixado com um aparelho de inserção 2402 com uma configuração com- plementar. O aparelho de encaixe 2400 compreende três pistas condu- toras, em que uma pista condutora é a pista condutora de uma primeira estrutura de eletrodo, uma segunda pista condutora é a pista condutora de uma segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a ope- ração, e uma terceira pista condutora é a pista condutora de uma ter- ceira estrutura de eletrodo, em que a terceira estrutura de eletrodo du- rante a operação cumpre a função de proteção de contato para um po- tencial de referência no lado oposto ao lado a ser tratado e representa a proteção EMC.
[00506] Uma vez que três pistas condutoras estão presentes no apa- relho de encaixe 2400 mostrado, o aparelho de inserção 2402 configu- rado como um acoplamento compreende um conector 2404 para trans- mitir um sinal de tensão para a segunda estrutura de eletrodo, que é acionada durante a operação, e dois outros conectores 2406, 2408 para contatar as duas pistas condutoras da primeira e terceira estrutura de eletrodo, que estão preferencialmente no potencial de terra. Assim, em comparação com o aparelho de inserção mostrado na Figura 2, um co- nector adicional 2406 é fornecido para contatar o segundo eletrodo de aterramento.
[00507] A Figura 25 mostra um aplicador de plasma 2500 com um núcleo eletrotécnico 2502, um invólucro 2504 e uma porta de acesso
2506. O núcleo eletrotécnico 2502 é configurado como descrito em re- lação à Figura 19 e compreende, na direção da espessura da camada começando do lado 2507 voltado para uma superfície a ser tratada, uma primeira camada isolante 2508, uma primeira estrutura de eletrodo 2510, uma segunda camada isolante 2512, uma segunda estrutura de eletrodo 2514, uma terceira camada isolante 2516 e uma terceira estru- tura de eletrodo 2518. Durante a operação, a primeiro e a terceira es- truturas de eletrodo 2510, 2518 são aterradas. Assim, o núcleo eletro- técnico 2502 mostrado aqui já tem uma modalidade segura ao toque por si só. Um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma é aplicado à segunda estrutura de eletrodo 2514 durante a operação. Em modali- dades não mostradas aqui, o aplicador de plasma tem um núcleo ele- trotécnico configurado de forma diferente em cada caso, que, por exem- plo, compreende apenas uma segunda estrutura de eletrodo e uma se- gunda camada isolante em uma modalidade.
[00508] Na modalidade mostrada, a porta de acesso 2506 é reali- zada como um bico tubular e guiada de forma perpendicular em relação a uma superfície a ser tratada através do invólucro 2504 e do núcleo eletrotécnico 2502. Para esse fim, o núcleo eletrotécnico 2502 e o invó- lucro 2504 tem^, cada um, uma passagem, que tem um diâmetro que corresponde ao diâmetro externo do bico tubular. O bico 2506 é oco no interior de modo que um meio fluido possa ser guiado através do bico. Durante o uso, uma extremidade do bico 2506 fica situada em um es- paço de gás vedado 2522 que é formado entre o aplicador de plasma 2500 e uma superfície a ser tratada. A outra extremidade do bico 2506 fica situada fora do aplicador de plasma 2500 no lado voltado para longe de uma superfície a ser tratada de modo que, quando um aplicador de plasma está disposto sobre uma superfície a ser tratada, um meio ou então uma pluralidade de meios fluidos pode ser adicionada ao espaço de gás vedado 2522 ou pode ser removida do espaço de gás vedado 2522 através do bico tubular 2506.
[00509] Na modalidade mostrada, o bico 2506 tem um encaixe fêmea 2524 para fixar um tubo (não mostrado) com uma rosca complementar ao bico tubular 2506. Por meio de um tubo (não mostrado) conectado ao encaixe fêmea 2524, um meio fluido pode ser adicionado e/ou remo- vido do espaço de gás vedado 2522. A título de exemplo, um tubo (não mostrado) pode ser conectado a uma bomba de vácuo (não mostrada) e a bomba de vácuo pode gerar pressão negativa no espaço de gás vedado 2522.
[00510] Na modalidade mostrada, o bico tubular 2506 compreende uma válvula integrada 2526, que permite que um fluxo de um meio fluido através do bico tubular 2506 seja controlado e interrompido. Essa vál- vula 2526 pode ser controlável manualmente, controlável por máquina ou controlável eletronicamente.
[00511] Em uma modalidade não mostrada aqui, um aplicador de plasma compreende um invólucro e uma porta de acesso, como descrito em relação à Figura 25, e um núcleo eletrotécnico, como descrito em relação à Figura 7. Em uma modalidade adicional, não mostrada aqui, um aplicador de plasma compreende um invólucro e uma porta de acesso, como descrito em relação à Figura 25, e um núcleo eletrotéc- nico com apenas uma estrutura de eletrodo, em que um sinal de tensão é aplicado ao mesmo durante a operação. Nessa modalidade, uma su- perfície a ser tratada cumpre a função de um contraeletrodo durante a operação.
[00512] A Figura 26 mostra um aparelho de encaixe 2600 e um apa- relho de inserção 2602 com uma configuração complementar ao apare- lho de encaixe 2600. O aparelho de encaixe 2600 é disposto em um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma, que é meramente indi- cado na ilustração mostrada. O aparelho de encaixe 2600 é configurado como descrito em relação às Figuras 2A e 2B, embora compreenda ainda uma porta de acesso 2604. Na ilustração mostrada, a porta de acesso 2604 é guiada a uma distância próxima às guias do aparelho de encaixe 2600, mas forma um componente do aparelho de encaixe.
[00513] O aparelho de inserção 2602 é configurado da mesma forma como descrito em relação às Figuras 2A e 2B, embora compreenda ainda um tubo 2606 com um encaixe 2608 e uma válvula 2610. Em uma modalidade não mostrada aqui, um aparelho de encaixe configurado como descrito em relação à Figura 24 compreende uma porta de acesso e um aparelho de inserção configurado como descrito em relação à Fi- gura 24 compreende um tubo com um encaixe e uma válvula.
[00514] Assim, na modalidade mostrada, uma porta de acesso 2604 na forma de um bico faz parte do aparelho de encaixe 2600. A contra- parte do bico 2604 é situada no aparelho de inserção complementar
2602. Assim, o bico 2604 pode ser conectado ao tubo 2602 através do encaixe 2608 de modo que um meio fluido possa ser guiado através do tubo 2602 no aparelho de inserção 2602 para o bico 2604 do aparelho de encaixe 2600. No estado reunido do aparelho de encaixe 2600 e aparelho de inserção 2602, ilustrado na parte inferior, o aparelho de en- caixe 2600 e o aparelho de inserção 2602 têm uma conexão estanque e hermética.
[00515] A Figura 27 mostra um aparelho de encaixe 2700 e um apa- relho de inserção 2702 com uma configuração complementar ao apare- lho de encaixe 2700. O aparelho de encaixe 2700 é disposto em um núcleo eletrotécnico de um aplicador de plasma, que é meramente indi- cado na ilustração mostrada. O aparelho de encaixe 2700 é configurado como descrito em relação às Figuras 2A e 2B, embora compreenda ainda uma porta de acesso 2704 com uma válvula 2710. Na ilustração mostrada, a porta de acesso 2704 é guiada a uma distância próxima às guias do aparelho de encaixe 2700, mas forma um componente do apa- relho de encaixe 2700.
[00516] O aparelho de inserção 2702 é configurado da mesma forma como descrito em relação às Figuras 2A e 2B, embora compreenda ainda um tubo 2706 com um encaixe 2708. Em uma modalidade não mostrada aqui, um aparelho de encaixe configurado como descrito em relação à Figura 24 compreende uma porta de acesso com uma válvula e um aparelho de inserção configurado como descrito em relação à Fi- gura 24 compreende um tubo com um encaixe.
[00517] Assim, na modalidade mostrada, uma porta de acesso 2704 na forma de um bico faz parte do aparelho de encaixe 2700. A contra- parte do bico 2704 é situada no aparelho de inserção complementar
2702. Assim, o bico 2704 pode ser conectado ao tubo 2706 através do encaixe 2708 ligado a uma extremidade correspondente do tubo de modo que um meio fluido possa ser guiado através do tubo 2706 no aparelho de inserção 2702 para o bico 2704 do aparelho de encaixe
2700. No estado reunido do aparelho de encaixe 2700 e aparelho de inserção 2702, mostrado na parte inferior, o aparelho de encaixe 2700 e o aparelho de inserção 2702 têm uma conexão estanque e hermética. O fluxo direto de um meio fluido pode ser controlado ou interrompido ajustando-se a válvula da porta de acesso 2704.
[00518] A Figura 28 mostra um aplicador de plasma 2800 que com- preende um invólucro 2802, um núcleo eletrotécnico 2804 e um apare- lho de encaixe 2806 com uma porta de acesso 2808. Durante o uso, um espaço de gás vedado 2810 é formado entre o aplicador de plasma 2800 e uma superfície a ser tratada. A porta de acesso 2808 termina no espaço de gás 2810 com uma extremidade e a porta de acesso 2808 termina fora do aplicador de plasma 2800 com a outra extremidade, de modo que um meio fluido pode ser guiado através da porta de acesso para o espaço de gás vedado 2810 de fora do aplicador de plasma ou o dito meio fluido pode ser removido do espaço de gás conectado 2810. Em particular, o aparelho de encaixe 2806 pode ser encaixado com um aparelho de inserção complementar (não mostrado), em que esse último compreende um tubo que pode ser conectado à porta de acesso, por exemplo, por meio de um encaixe ou encaixando-os.
[00519] A Figura 29 mostra um aplicador de plasma 2900 com um sistema sensor. O aplicador de plasma 2900 compreende ainda um in- vólucro 2902 e um núcleo eletrotécnico 2904. O aplicador de plasma compreende uma camada de adesão 2908 em pelo menos uma região ao longo de um perímetro do aplicador de plasma 2900. Durante o uso, o invólucro 2902 estabelece um espaço de gás vedado 2910 entre o aplicador de plasma 2900 e um segmento de corpo a ser tratado. O sistema sensor compreende um primeiro sensor 2912 e um segundo sensor 2914. O primeiro sensor 2912 é fixado ao aplicador de plasma a uma distância de um segmento de corpo a ser tratado e é configurado para capturar variáveis de medição que são características para o es- paço de gás 2910 e transmitir um sinal de dados 2919 que representa a variável de medição capturada para um dispositivo de processamento de dados 2916. Durante o uso, o segundo sensor 2914 é fixado ao apli- cador de plasma em contato direto com um segmento de corpo a ser tratado e configurado, durante o uso, para capturar uma variável de me- dição de um segmento de corpo coberto pelo aplicador de plasma 2900 e para transmitir um sinal de dados 2920 que representa a variável de medição capturada para um dispositivo de processamento de dados
2916.
[00520] A Figura 30A mostra um aplicador de plasma 3000 com um núcleo eletrotécnico 3002, que compreende uma primeira estrutura de eletrodo 3004 e uma segunda estrutura de eletrodo 3006. O aplicador de plasma, além disso, compreende um invólucro 3008 e um aparelho de encaixe 3010.
[00521] O núcleo eletrotécnico 3002 tem orifícios ou passagens 3012, que são dispostos distribuídos por toda a área do núcleo eletro- técnico 3002. Os orifícios ou passagens 3012 podem facilitar um trans- porte de meio através do núcleo eletrotécnico 3002, do lado voltado para uma superfície a ser tratada para o lado do aplicador de plasma 3000 voltado para longe de uma superfície a ser tratada ou, no sentido in- verso, do lado voltado para longe de uma superfície a ser tratada para o lado do aplicador de plasma 3000 voltado para uma superfície a ser tratada. As estruturas de eletrodo 3004, 3006 têm uma distância dos respectivos orifícios 3012; isto é, as mesmas não fazem parte da super- fície do núcleo eletrotécnico 3002 que envolve uma passagem 3012. O invólucro 3008 é formado por um material de transporte de meio.
[00522] A Figura 30B mostra a porção do aplicador de plasma 3000 emoldurada pela caixa 3014 em uma ilustração ampliada. Uma parte de uma seção de eletrodo da primeira estrutura de eletrodo 3004 e uma parte de uma seção de eletrodo da segunda estrutura de eletrodo 3006 podem ser vistas nesta porção. Além disso, uma das passagens 3012 é visível. É claro a partir dessa ilustração que as seções do eletrodo não alcançam a passagem, mas terminam a uma certa distância da mesma. A superfície em torno da passagem 3012 é formada apenas por cama- das isolantes 3016 do núcleo eletrotécnico 3002.
[00523] A Figura 31 mostra um aplicador de plasma 3100 com um núcleo eletrotécnico 3102 e um aparelho de encaixe 3104. Na transição do núcleo eletrotécnico 3102 para o aparelho de encaixe 3104, o apli- cador de plasma 3100 tem uma perfuração 3106. A função da perfura- ção 3106 reside na redução da resistência entre o aparelho de encaixe 3104 e o núcleo eletrotécnico 3102. A perfuração 3106 representa um ponto de ruptura pretendido. Após um tratamento de plasma, o aparelho de encaixe 3104 pode ser rasgado ou removido do núcleo eletrotécnico 3102 nessa perfuração 3106. Como resultado, um aplicador de plasma 3100 pode permanecer em uma superfície a ser tratada por um período de tempo relativamente longo, de dias a semanas, independentemente de uma unidade de fonte de alimentação, uma vez que o aparelho de encaixe 3104, não mais necessário, é removido.
[00524] A Figura 32 mostra um aplicador de plasma 3202 fixado a um saco 3200. O aplicador de plasma é fixado ao saco 3200 e o saco 3200 envolve um pé a ser tratado e, assim, forma um espaço de gás conectado 3204. O saco 3200 é produzido de um filme fino e fixado acima do tornozelo por meio de uma faixa ou tira de borracha 3206.
[00525] A Figura 33 mostra um aplicador de plasma 3302 fixado a um saco 3300. O aplicador de plasma 3302 é apenas ilustrado como um contorno de modo que o saco 3300 tenha visivelmente um orifício 3304, acima do qual o aplicador de plasma 3302 é fixado. Durante o uso, um plasma inflamado pode entrar no saco 3300 através do orifício 3304 e pode interagir com a superfície a ser tratada, nesse caso o pé. Conse- quentemente, isso facilita um tratamento de área grande, por exemplo, de um pé ou pelo menos um lado inferior do pé.
LISTA DE SINAIS DE REFERÊNCIA 1 Aparelho para gerar um plasma frio à pressão atmosférica 2 Sistema de múltiplas camadas 3 O lado voltado para as superfícies a serem tratadas 4 O lado voltado para longe da superfície a ser tratada 10 Primeira estrutura de eletrodo 10’ Segunda estrutura de eletrodo 11 Primeira estrutura isolante 12 Primeira estrutura de eletrodo 13 Camada dielétrica 14 Segunda estrutura de eletrodo 15 Segunda estrutura isolante 16 Estrutura espaçadora 17 Terceira estrutura isolante 20 Estrutura isolante 30 Região de tratamento 40 Camada de adesão 45 Invólucro
50 Núcleo eletrotécnico 60 Aparelho de inserção 61 Bico de silicone 63 Afunilamento 64 Aparelho de travamento 65 Conector com uma blindagem eletromagneticamente compatível 66 Plugue de vedação 67 Indutores 68 Alojamento do aparelho de inserção 69 Interior do aparelho de inserção 70 Aparelho de encaixe 71 Conector de alta tensão (conector HV) 72 Conector de aterramento (conector GND) 75 Reforço 76 Furo com função de travamento 77 Contato no aparelho de encaixe 78 Contato de fixação 79 Pista condutora 79' Segunda pista condutora 80 Cabo 81 Proteção contra dobra 100 Aplicador de plasma 110 Unidade de fonte de alimentação 110’ Unidade de fonte de alimentação integrada 110” Unidade de fonte de alimentação móvel 112 Contato 114 Dois contatos separados 120’ Unidade de fonte de alimentação integrada 120” Unidade de fonte de alimentação integrada 122 Estrutura espaçadora
122’ Estrutura espaçadora 130 Fenda de inserção 140 Arranjo de bobina receptora 150 Arranjo de bobina transmissora 160 Aparelho de carregamento indutivo 200 Estrutura espaçadora 210 Favo de mel 220 Plasma 220 Estrutura de eletrodo 240 Contraeletrodo 300 Circuito fechado 300', 300” Outros circuitos fechados 310 Pontos de conexão 910 Cobertura para feridas 1900 Aplicador de plasma 1902 Núcleo eletrotécnico 1904 Lado de um núcleo eletrotécnico 1906 Primeira camada isolante 1908 Primeira estrutura de eletrodo 1910 Segunda camada isolante 1912 Segunda estrutura de eletrodo 1914 Terceira camada isolante 1916 Terceira estrutura de eletrodo 1918 Invólucro 2000 Núcleo eletrotécnico 2002 Segunda estrutura de eletrodo 2004 Primeira estrutura de eletrodo 2006 Segunda camada isolante 2008, 2010 Pista condutora 2100 Núcleo eletrotécnico
2102 Terceira camada isolante 2104 Aba 2106 Extremidade de uma pista condutora 2108 Face de contato 2200 Núcleo eletrotécnico 2202 Terceira estrutura de eletrodo 2204 Lado de um núcleo eletrotécnico 2206 Pista condutora em formato de aba 2208 Região 2210 Região 2212 Terceira camada isolante 2214 Extremidade de uma aba 2216 Área de contato de uma pista condutora 2300 Núcleo eletrotécnico 2302 Terceira estrutura de eletrodo 2304 Pista condutora em formato de aba 2306 Reforço em formato de cartão com chip 2308 Região 2310 Região 2314 Face de contato 2316 Extremidade de uma pista condutora em formato de aba 2318 Área de contato de uma pista condutora 2400 Aparelho de encaixe 2402 Aparelho de inserção 2404 Conector para transmitir um sinal de tensão 2406, 2408 Conectores adicionais 2500 Aplicador de plasma 2502 Núcleo eletrotécnico 2504 Invólucro 2506 Porta de acesso
2507 Lado voltado para uma superfície a ser tratada 2508 Uma primeira camada isolante 2510 Primeira estrutura de eletrodo 2512 Segunda camada isolante 2514 Segunda estrutura de eletrodo 2516 Terceira camada isolante 2518 Terceira estrutura de eletrodo 2522 Espaço de gás 2524 Encaixe fêmea 2526 Válvula integrada 2600 Aparelho de encaixe 2602 Aparelho de inserção 2604 Porta de acesso 2606 Tubo 2608 Encaixe 2610 Válvula 2700 Aparelho de encaixe 2702 Aparelho de inserção 2704 Porta de acesso 2706 Tubo 2708 Encaixe 2710 Válvula 2800 Aplicador de plasma 2802 Invólucro 2804 Núcleo eletrotécnico 2806 Aparelho de encaixe 2808 Porta de acesso 2810 Espaço de gás 2900 Aplicador de plasma 2902 Invólucro
2904 Núcleo eletrotécnico 2908 Camada de adesão 2912 Primeiro sensor 2914 Segundo sensor 2916 Dispositivo de processamento de dados 2918 Sinal de dados 2920 Sinal de dados B1 Largura do aparelho de inserção B2 Largura do aparelho de encaixe B3 Largura do aparelho de encaixe H1 Altura do aparelho de inserção H2 Altura do aparelho de encaixe K1 Distância mínima de fuga de corrente L1 Comprimento mínimo da distância de fuga de corrente no lado do paciente L2 Comprimento do sistema encaixado L3 Comprimento do aparelho de encaixe fora do aparelho de inserção L4 Comprimento do aparelho de encaixe L5 Comprimento total do aparelho de encaixe
Claims (15)
1. Núcleo eletrotécnico para gerar um plasma frio a pressão atmosférica ou a baixa pressão para o tratamento de superfícies huma- nas e/ou animais e/ou técnicas, caracterizado pelo fato de que o núcleo eletrotécnico tem um lado voltado para a superfície a ser tratada e um lado voltado para a direção oposta à superfície a ser tratada e compre- ende as seguintes camadas, dispostas umas sobre as outras, iniciando do lado voltado para a superfície a ser tratada: - uma primeira camada isolante, - uma primeira estrutura de eletrodo que é dotada de um pri- meiro contato para estabelecer contato elétrico entre a primeira estru- tura de eletrodo e uma unidade de fonte de alimentação e que é aterrada durante a operação, - uma segunda camada isolante, que é incorporada para iso- lar galvanicamente a primeira estrutura de eletrodo e uma segunda es- trutura de eletrodo uma da outra, - uma segunda estrutura de eletrodo que é dotada de um se- gundo contato para estabelecer contato elétrico entre a segunda estru- tura de eletrodo e uma unidade de fonte de alimentação e que é acio- nada, durante a operação, por um sinal de tensão que é fornecido por uma unidade de fonte de alimentação e que é suficiente para inflamar um plasma, - uma terceira camada isolante, que é incorporada para isolar galvanicamente a segunda estrutura de eletrodo e uma terceira estru- tura de eletrodo uma da outra, e - uma terceira estrutura de eletrodo que é dotada de um terceiro contato para aterrar a terceira estrutura de eletrodo durante a operação.
2. Núcleo eletrotécnico, de acordo com a reivindicação 1, ca- racterizado pelo fato de que compreende um aparelho de encaixe, em que o primeiro e o segundo contatos formam adequadamente uma primeira e uma segunda pistas condutoras do aparelho de encaixe, em que cada uma se projeta no mesmo lado longitudinal do núcleo eletrotécnico a partir do lado longitudinal da respectiva estrutura de eletrodo correspon- dente, e em que o aparelho de encaixe compreende ainda uma aba iso- lante, que é conectada adequadamente à segunda camada isolante, em que a primeira e a segunda pistas condutoras são isoladas galvanica- mente uma da outra pela aba isolante.
3. Núcleo eletrotécnico, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o núcleo eletrotécnico compreende ainda uma estrutura espaçadora que é disposta de modo adjacente à primeira camada isolante no lado do núcleo eletrotécnico voltado para a superfície a ser tratada, de modo que a estrutura espaçadora fique situ- ada entre uma superfície a ser tratada e a primeira camada isolante du- rante um tratamento de plasma.
4. Núcleo eletrotécnico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que um contato ou uma estrutura de eletrodo tem pelo menos um recurso que muda de modo que, como uma consequência do uso, não seja mais possível transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para a segunda estrutura de eletrodo.
5. Núcleo eletrotécnico, de acordo com a reivindicação 4, ca- racterizado pelo fato de que o recurso é formado por um estreitamento de um contato ou de uma seção de eletrodo da segunda estrutura de eletrodo, que é destruída pouco antes do final do primeiro uso por um pulso de alta corrente a ser fornecido naquele ponto.
6. Aplicador de plasma, caracterizado pelo fato de que compre- ende um núcleo eletrotécnico, como definido em qualquer uma das reivin- dicações 1 a 5, em que o aplicador de plasma compreende ainda um in- vólucro com uma bolsa que é incorporada de modo que um núcleo eletro- técnico possa ser inserido na bolsa e, então, ser pelo menos parcialmente envolvido pelo invólucro.
7. Aplicador de plasma, de acordo com a reivindicação 6, ca- racterizado pelo fato de que o invólucro é formado por um material bio- compatível, tal como silicone médico, uma laca, um adesivo, um filme, um artigo têxtil, um material têxtil ou orgânico de compressão, tal como gaze, celulose ou algodão.
8. Aplicador de plasma, de acordo com a reivindicação 6 ou 7, caracterizado pelo fato de que o invólucro compreende pelo menos uma camada com materiais de absorção de líquido e/ou remoção de líquido e/ou distribuição de líquido.
9. Aplicador de plasma, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 8, caracterizado pelo fato de que o invólucro compre- ende fendas de inserção que são dispostas no lado do aplicador de plasma voltado para a direção oposta à superfície a ser tratada e que são incorporadas de modo que uma unidade de fonte de alimentação ou um aparelho de inserção, complementar às fendas de inserção, possa ser inserido nas fendas de inserção a fim de, então, ser conec- tado eletricamente aos contatos do núcleo eletrotécnico.
10. Aplicador de plasma, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 9, caracterizado pelo fato de que o aplicador de plasma compreende uma porta de acesso, que é disposta e incorporada de modo que, durante um tratamento de plasma, um meio fluido possa ser fornecido ou removido de um espaço de gás vedado formado pelo invólucro entre o núcleo eletrotécnico e uma superfície a ser tratada.
11. Aplicador de plasma, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 10, caracterizado pelo fato de que o aplicador de plasma compreende uma parte ocupada por um gancho farpado de um fecho do tipo grampo e laço em um lado do aplicador de plasma voltado para uma superfície a ser tratada.
12. Aplicador de plasma, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 11, caracterizado pelo fato de que o aplicador de plasma compreende uma unidade de fonte de alimentação integrada que compreende um armazenamento de energia conectado eletrica- mente aos contatos do núcleo eletrotécnico a fim de transmitir um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma para pelo menos uma das estruturas de eletrodo durante a operação.
13. Aplicador de plasma, de acordo com a reivindicação 12, caracterizado pelo fato de que a unidade de fonte de alimentação inte- grada compreende um circuito elétrico que é incorporado para converter uma tensão fornecida pelo armazenamento de energia em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma e transmitir o dito sinal de tensão para o contato de pelo menos uma das estruturas de eletrodo.
14. Aplicador de plasma, de acordo com a reivindicação 12 ou 13, caracterizado pelo fato de que o aplicador de plasma compre- ende um aparelho de recepção de energia conectado eletricamente a pelo menos o contato da segunda estrutura de eletrodo, em que o dito aparelho de recepção de energia contém respectivamente um ou mais arranjos de bobina receptora, e em que a energia elétrica pode ser transferida de um arranjo de bobina transmissora de um aparelho de distribuição de energia para os arranjos de bobina receptora no aplica- dor de plasma por meio de indução eletromagnética.
15. Unidade de fonte de alimentação com um aparelho de inserção e um armazenamento de energia, para conexão a um aparelho de encaixe de um aplicador de plasma e para fornecer um sinal de ten- são suficiente para inflamar um plasma para um aparelho de encaixe encaixado com o aparelho de inserção, caracterizada pelo fato de que a unidade de fonte de alimentação compreende um circuito elétrico que é incorporado para converter uma tensão fornecida pelo armazena- mento de energia em um sinal de tensão suficiente para inflamar um plasma e transmitir o dito sinal de tensão para o aparelho de inserção.
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