BR112018075705B1 - Ferramenta de corte revestida compreendendo um substrato e utilização da ferramenta de corte revestida - Google Patents
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Abstract
A presente invenção refere-se a uma ferramenta de corte revestida para usinagem de aparas de metais, compreendendo um substrato dotado de uma superfície revestida com um revestimento provido por deposição química a vapor (CVD). A ferramenta de corte revestida compreende um substrato revestido com um revestimento que compreende uma camada de a-Al2O3, em que a dita camada de a-Al2O3 exibe um coeficiente de textura TC (0 0 12) = 7,2, e em que a proporção de I(0 0 12)/I(0 1 14) é = 0,8. O revestimento compreende ainda uma camada de TiCN produzida mediante um processo de MTCVD, localizada entre o substrato e a camada de a-Al2O3. A camada de TiCN de MTCVD apresenta um número de pólos {211}, medido por EBSD em uma parte da camada de TiCN de MTCVD, paralelos à superfície externa do revestimento e menor que 1 μm a partir da superfície externa da camada de TiCN de MTCVD, em que um gráfico de pólos com base nos dados do número de pólos, com um tamanho de compartimento de 0,25°, em uma faixa de ângulo de inclinação de 0°= β = 45° a partir da normal da superfície externa do revestimento, mostra uma proporção da intensidade dentro do ângulo de inclinação β = 15° com relação à (...).
Description
[0001] A presente invenção refere-se a uma ferramenta de corte revestida para usinagem de aparas de metais, compreendendo um substrato dotado de uma superfície revestida com um revestimento produzido por deposição química a vapor (CVD). A ferramenta de corte revestida de acordo com a presente invenção é particularmente útil em aplicações com altas demandas de resistência a desgaste abrasivo, por exemplo, fresagem, torneamento ou perfuração de um material metálico, tal como, aço ligado, aço carbono ou aço temperado duro.
[0002] A técnica de revestimento por Deposição Química a Vapor (sigla em Inglês - CVD) aplicada em revestimentos resistentes ao desgaste em ferramentas de corte de metal duro tem sido colocada em prática industrial há muitos anos. Determinados tipos de revestimentos, tais como, TiCN e Al2O3, demonstraram melhorar a resistência ao desgaste em pastilhas de corte, quando em operação de corte de diversos materiais diferentes. Uma combinação de uma camada interna de TiCN e uma camada externa de α-Al2O3 pode ser encontrada em muitas pastilhas de corte comerciais, projetadas para fresar ou para tornear, por exemplo, um material de aço.
[0003] A Patente EP 1 905 870 A2 apresenta uma pastilha de corte revestida, a qual compreende um revestimento com pelo menos uma camada de α-Al2O3, que mostra uma forte textura de crescimento ao longo da direção <0 0 1>. A tenacidade da borda da pastilha foi melhorada em rotação.
[0004] Um objetivo da invenção é proporcionar uma pastilha de ferramenta de corte revestida com alumina, com desempenho aperfeiçoado em operações de corte. Outro objetivo da invenção é proporcionar uma ferramenta de corte revestida com maior resistência ao desgaste, por exemplo, uma maior resistência ao desgaste tipo cratera, resistência à descamação de revestimento em deformação plástica da borda de corte, resistência a trincas térmicas em corte lubrificado ou não lubrificado e/ou dureza melhorada da linha de borda. Outro objetivo da invenção é fornecer uma ferramenta de corte com alto desempenho em fresagem, tal como, fresagem de aço, aços ligados, aços de carbono e aços temperados duros.
[0005] Pelo menos um dos objetivos acima mencionados é obtido por uma ferramenta de corte de acordo com o descrito na reivindicação 1. As modalidades preferidas são apresentadas nas reivindicações dependentes.
[0006] A ferramenta de corte de acordo com a presente invenção compreende um substrato revestido com um revestimento que compreende uma camada de α-Al2O3, em que a espessura da camada de α-Al2O3, é de 2-4 μm, e em que a camada de α-Al2O3 exibe um coeficiente de textura TC(hkl), conforme medido por difração de raios-X utilizando radiação CuKα e varredura θ-2θ, definida de acordo com a fórmula de Harris (1) apresentada abaixo: onde: - I(hkl) é a intensidade medida (área integrada) da reflexão (hkl), - Ic(hkl) é a intensidade padrão de acordo com o cartão PDF No. 00-010-0173 da ICDD, - n é o número de reflexões usadas no cálculo, e onde as reflexões (hkl) usadas são (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) and (0 0 12), em que o coeficiente de textura TC(0 0 12) é ≥ 7,2, preferivelmente, ≥ 7,4, mais preferivelmente, ≥ 7,6, ainda mais preferivelmente, ≥ 7,7, sendo preferível, ≤ 8, e em que a proporção de I(0 0 12)/I 0 1 14) é ≥ 0,8, ou ≥ 1, preferivelmente, ≥ 1,5, mais preferivelmente, ≥ 1,7, e ainda mais preferivelmente, ≥ 2, e ainda em que I(0 0 12) é a intensidade medida (área integrada) da reflexão (0 0 12) e I(0 1 14) é a intensidade medida (área integrada) da reflexão (0 1 14).
[0007] O revestimento da presente invenção compreende ainda uma camada de TiCN produzida mediante o processo de MTCVD, localizada entre o substrato e a camada de α-Al2Oa, em que a espessura da dita camada de TiCN de MTCVD é de 2-3 μm. Os grãos da camada de TiCN de MTCVD são de forma colunar.
[0008] A camada de TiCN de MTCVD apresenta uma imagem de polos {211}, conforme medido por EBSD, em uma porção da camada de TiCN de MTCVD, paralelos à superfície externa do revestimento e menor do que 1 μm, de preferência, inferior a 0,5 μm, a partir da superfície externa da camada de TiCN de MTCVD, em que um gráfico de polos com base nos dados da imagem de polos, com um tamanho de compartimento de 0,25°, em uma faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45° a partir da normal da superfície externa do revestimento, mostra uma proporção da intensidade dentro do ângulo de inclinação β ≤ 15° com relação à intensidade dentro da faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤β ≤45° de ≥ 45%.
[0009] Em uma modalidade, a camada de TiCN de MTCVD exibe uma imagem de polos {110}, conforme medido por EBSD, na mesma porção da camada de TiCN de MTCVD, conforme definido acima, em que um gráfico de polos com base nos dados da imagem de polos, com um tamanho de compartimento de 0,25°, em uma faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45° a partir da normal da superfície externa do revestimento, mostra uma proporção de intensidade dentro do ângulo de inclinação β ≤ 15° com relação à intensidade dentro da faixa do ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45° de ≤ 30%.
[0010] A imagem de polos e o gráfico de polos da camada de TiCN de MTCVD são considerados a partir da porção da camada que está próxima à camada de α-Al2O3. A imagem de polos e o gráfico de polos estão dentro da dimensão de 1 μm, de preferência, menor que 0,5 μm, a partir da superfície externa da camada de TiCN de MTCVD, que fica próxima à camada de α-Al2O3.
[0011] Essa camada de TiCN de MTCVD mostrou ser vantajosa pelo fato de que a resistência ao desgaste da ferramenta de corte final pode ser melhorada em vários aspectos, conforme mostrado nos testes de corte por fresagem apresentados a seguir. A ferramenta de corte da presente invenção mostrou uma maior resistência ao desgaste tipo cratera, resistência mais alta à descamação de revestimento em deformação plástica da borda de corte, resistência mais alta às trincas térmicas em corte lubrificado e não lubrificado e dureza melhorada da linha de borda. Descobriu-se que a textura da parte externa da camada de TiCN de MTCVD é de alta importância para a vida útil da ferramenta de corte, e que uma medição de textura com XRD, que apresenta informações de toda a camada, não é suficiente para revelar as propriedades melhoradas da camada presente de TiCN de MTCVD. Em vez disso, medições de EBSD em uma porção do revestimento da camada de TiCN de MTCVD perto da camada de α-Al2O3 são definidas.
[0012] A camada de α-Al2O3 é depositada, tipicamente, por meio de um processo de CVD térmico. Alternativamente, outros processos de deposição do tipo CVD podem ser usados. Esse é também o caso de quaisquer camadas adicionais de revestimento, conforme descrito a seguir. O processo de HTCVD é aqui definido aqui como um processo de CVD dentro da faixa de temperatura de 950-1050°C, e o processo de MTCVD dentro da faixa de temperatura de 800950°C.
[0013] A camada de α-Al2O3 está cobrindo pelo menos a área da ferramenta de corte que é encaixada no corte, em uma operação de corte, cobrindo pelo menos as áreas expostas para desgaste tipo cratera e/ou desgaste de flanco. Alternativamente, a ferramenta de corte total pode ser revestida com a camada de α-Al2θ3 e/ou com quaisquer camadas adicionais do revestimento.
[0014] Uma forte textura <0 0 1> é aqui entendida como um crescimento estatisticamente preferido com o plano cristalográfico de α-Al2O3 (0 0 1) mais frequentemente paralelo à superfície do substrato, do que com outros planos cristalográficos paralelos à superfície do substrato. Um meio para expressar a textura preferida é calcular um coeficiente de textura TC(hkl) utilizando a fórmula de Harris (fórmula (1) acima), tendo como base um conjunto definido de reflexões de XRD medidas na respectiva amostra. As intensidades das reflexões de XRD são padronizadas, utilizando-se um cartão JCPDF, que indica as intensidades das reflexões de XRD do mesmo material, por exemplo, α-Al2O3, mas com orientação aleatória, tal como, em um pó do material. Um coeficiente de textura TC(hkl) > 1 de uma camada de material cristalino é uma indicação de que os grãos do material cristalino são orientados com o seu plano cristalográfico (hkl) paralelo à superfície do substrato mais frequentemente do que em uma distribuição aleatória. O coeficiente de textura TC(0 0 12) é aqui usado para indicar um crescimento de cristais preferido ao longo da direção cristalográfica <0 0 1>. O plano cristalográfico (0 0 1) é paralelo aos planos cristalográficos (0 0 6) e (0 0 12) no sistema cristalográfico de α-Al2O3.
[0015] Em uma modalidade da presente invenção, a espessura da camada de α-Al2O3 é de 2-4 μm, de preferência, de 2,5-3,5 μm.
[0016] O termo TiCN de MTCVD tem aqui o significado de uma camada de Ti (CxN1-x) , em que 0,2 ^ x ^ 0,8, preferivelmente, 0,3 ≤ x≤ 0,7, mais preferivelmente, 0,4 ≤ x ≤ 0,6. A proporção de C/(C+N) da camada de TiCN de MTCVD pode, por exemplo, ser medida através de análise eletrônica de micro sonda.
[0017] Em uma modalidade da presente invenção, o revestimento compreende ainda uma camada de ligação, a qual consiste de TiN, TiCN, TiCNO e/ou TiCO, ou uma combinação destes, depositada pelo método de HTCVD, de preferência, TiCN e TiCNO depositada por HTCVD, localizada na porção mais externa da camada de TiCN de MTCVD, e adjacente à camada de α-Al2O3. A camada de ligação é para melhorar a adesão entre a camada de TiCN de MTCVD e a camada de α- Al2O3. A camada de ligação, de preferência, é oxidada antes da deposição da camada de α-Al2θ3. A camada de ligação apresenta grãos de forma não-granular, por exemplo, grãos igualmente espaçados. A espessura da dita camada de ligação, de preferência, é de 0,5-2 μm, preferivelmente, 0,5-1,5 μm ou 0,5-1 μm. A espessura da camada de ligação pode, por exemplo, ser medida a partir de uma imagem tipo SEM da seção transversal do revestimento.
[0018] Em uma modalidade da presente invenção, o revestimento compreende uma camada de TiCN de MTCVD de 2-3 μm e uma camada de α-Al2θ3 de 2-4 μm. Uma camada de ligação desta modalidade, de preferência, é de 0,5-1 μm.
[0019] Em uma modalidade da presente invenção, o revestimento compreende uma camada mais interna TiN, de preferência, de 0,3 a 0,6 μm de espessura. A camada de TiN é preferencialmente localizada adjacente ao substrato.
[0020] Em uma modalidade da presente invenção, o substrato é metal duro, cermet ou cerâmica. Esses substratos possuem dureza e tenacidade que se adequam ao revestimento da presente invenção.
[0021] Em uma modalidade da presente invenção, o substrato da ferramenta de corte revestida consiste de metal duro, que compreende 8-15% em peso de Co, preferivelmente, de 8,5 a 14,5% em peso de Co, opcionalmente, de 0,5 a 3% em peso de carbetos, nitretos ou carbonitretos cúbicos, de metais dos grupos IVb, Vb e VIb da Tabela Periódica, de preferência, Nb, Ta, Cr ou suas combinações, e balanço de WC. Essa modalidade pode ser relativa a uma pastilha de fresagem.
[0022] Em uma modalidade da presente invenção, a camada de α-Al2O3 é a camada mais externa do revestimento. Alternativamente, uma ou mais camadas adicionais podem cobrir a camada de α-Al2O3, tais como, camadas de TiN, TiC, Al2O3 e/ou suas combinações. Em uma modalidade da presente invenção, uma ou mais camadas adicionais cobrindo a camada de α-Al2O3 é/são removidas da face de flanco, da face de corte ou da borda de corte, ou suas combinações.
[0023] Em uma modalidade da presente invenção, o revestimento é pós-tratado por jateamento ou escovamento, para liberar tensões de tração das camadas revestidas por CVD e reduzir a rugosidade da superfície.
[0024] Em uma modalidade da presente invenção, a ferramenta de corte é uma pastilha de fresagem.
[0025] A presente invenção refere-se também ao uso de uma ferramenta de corte revestida, conforme aqui descrito, em uma operação de fresagem, por exemplo, de aço, preferivelmente, de aço ligado, aço carbono ou aço temperado duro. As ditas ferramentas de corte apresentam um desempenho especificamente melhorado em operações que demandam desgaste do tipo cratera e desgaste de flanco, na resistência contra descamação em deformação plástica da aresta de corte e na resistência contra a formação de trincas térmicas.
[0026] Os revestimentos obtidos por CVD nos exemplos abaixo foram depositados em um equipamento de CVD do tipo ligação de íon radial 530, capaz de alojar as pastilhas de corte de cerca de 10.000 meia polegada.
[0027] A fim de investigar a textura da(s) camada(s), a difração de raios-X foi conduzida sobre a face de flanco, utilizando um difratômetro de CubiX3 PANalitical CubiX3, equipado com um Detector de PIXcel. As ferramentas de corte revestidas foram montadas em suportes de amostra para assegurar que a face de flanco das amostras seja paralela à superfície de referência do suporte da amostra e, também, que a face de flanco esteja em uma altura apropriada. A radiação de Cu-Kα foi usada para as medições, com uma voltagem de 45 kV e uma corrente de 40 mA. Uma fenda anti-dispersão de 1/2 grau e uma fenda de divergência de 1/4 grau foram usadas. A intensidade difratada da ferramenta de corte revestida foi medida na faixa de 20° a 140° 2θ, isto é, tendo um ângulo de incidência θ variando de 10 a 70°.
[0028] A análise de dados, incluindo subtração de fundo, decapagem de Cu-K«2 e adaptação de perfil dos dados, foi feita utilizando-se o software PANalytical’s X’Pert HighScore Plus. A saída (áreas de pico integradas para a curva ajustada por perfil) deste software foi então usada para calcular os coeficientes de textura da camada, mediante comparação da proporção dos dados de intensidade medidos para os dados de intensidade padrão, de acordo com um cartão PDF da camada específica (tal como, uma camada de TiCN ou α-Al2Os), utilizando a fórmula de Harris (1), conforme descrito acima. Uma vez que a camada era uma película de espessura fina, as intensidades relativas de um par de picos em diferentes ângulos 2θ são diferentes do que elas são para amostras em massa, devido às diferenças no comprimento do trajeto através da camada. Portanto, a correção de película fina foi aplicada às intensidades de área de pico integradas extraídas para a curva ajustada por perfil, levando também em consideração o coeficiente de absorção linear da camada, quando do cálculo dos valores de TC. Uma vez que possíveis outras camadas acima, por exemplo, a camada de α-Al2O3 irá afetar as intensidades de raios-X que entram na camada de α-Al2O3 e saem do revestimento inteiro, correções precisam também ser feitas para isso, levando em consideração o coeficiente de absorção linear para o respectivo composto em uma camada. O mesmo se aplica para medições de difração de raios-X de uma camada de TiCN, se a camada de TiCN estiver localizada abaixo, por exemplo, de uma camada de α-Al2O3. Alternativamente, uma outra camada, tal como, TiCN, acima de uma camada de alumina, pode ser removida por um método que não influencie substancialmente os resultados de medição de XRD, por exemplo, ataque tipo cauterização por agente químico.
[0029] A fim de investigar a textura da camada de α-Al2θ3, a difração de raios-X foi conduzida utilizando radiação CuKα e coeficientes de textura TC(hkl) para diferentes direções de crescimento dos grãos colunares da camada α-Al2O3 e foi calculada de acordo com a fórmula de Harris (1), conforme descrito acima, onde I(hkl) = intensidade medida (área integrada) da reflexão (hkl), IO (hkl) = intensidade padrão de acordo com o cartão PDF no. 00-010-0173 da ICDD, n = número de reflexões a ser usado no cálculo. Nesse caso, as reflexões (hkl) usadas são: (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) e (0 0 12). No cálculo da relação I(0 0 012)/I (0 1 14), a intensidade da área de pico integrada do pico (0 0 12) e do pico (0 1 14) foram divididas, independentemente de qualquer cartão PDF. A área de pico integrada medida é corrigida para película fina e corrigida para quaisquer outras camadas acima (isto é, sobre o topo) da camada de α- Al2O3, antes da referida proporção ser calculada.
[0030] Os coeficientes de textura TC(hkl) para diferentes direções de crescimento dos grãos colunares da camada de TiCN foram calculados de acordo com a Fórmula de Harris (1), conforme descrito anteriormente, onde I(hkl) é a intensidade medida (área integrada) da reflexão (hkl), Io(hkl) é a intensidade padrão de acordo com o cartão PDF no. 42-1489 da ICDD, e n é o número de reflexões a ser utilizado no cálculo. Nesse caso, as reflexões (hkl) usadas são (1 1 1), (2 0 0), (2 2 0), (3 1 1), (3 3 1), (4 2 0) e (4 2 2).
[0031] Deve ser observado que a sobreposição de picos é um fenômeno que pode ocorrer na análise de difração de raios-X de revestimentos, compreendendo, por exemplo, várias camadas cristalinas e/ou que são depositadas sobre um substrato compreendendo fases cristalinas, e isto deve ser considerado e compensado pelo especialista versado na técnica. Uma sobreposição de pico da camada de α-Al2O3 com picos da camada de TiCN pode influenciar a medição e precisa ser considerada. Também, deve ser observado que, por exemplo, o WC no substrato pode ter picos de difração próximos aos picos relevantes da presente invenção.
[0032] Superfícies de pastilhas revestidas foram preparadas para caracterização de difração de retrodifusão de elétrons (EBSD), mediante polimento da superfície de revestimento utilizando um modelo de polidor Dimple 656, da Gatan Inc., com uma roda de feltro de 20 mm, com aplicação de 20 gramas de peso e utilização de uma suspensão de polimento da Buehlers, denominada "Master Polish 2". O polimento foi realizado tão logo superfícies suficientemente grandes e lisas dos revestimentos de TiCN de MTCVD foram adquiridas, assim, garantindo que a área caracterizada seja a partir da parte superior do revestimento de TiCN de MTCVD. As superfícies foram imediatamente limpas para remover a suspensão de polimento residual e secas com uma pulverização de ar limpo.
[0033] As amostras preparadas foram montadas em um suporte de amostra e inseridas no microscópio eletrônico de varredura (SEM). As amostras foram inclinadas de 70° em relação ao plano horizontal e na direção do detector de EBSD. O dispositivo SEM utilizado para a caracterização foi um Zeiss Supra 55 VP, operado a 15 kV, utilizando uma abertura objetiva de 60 μm, com aplicação de um modo de "Alta corrente" e operado em um modo de pressão variável (VP), em uma pressão de câmara do dispositivo SEM de 0,128 Torr. O detector de EBSD usado foi um detector NordlysMax, da Oxford Instruments, operado mediante utilização de um software "AZtec", versão 3.1, da Oxford Instruments. Foram feitas aquisições de dados de EBSD pela aplicação um feixe de elétrons focado sobre as superfícies polidas, e sequencialmente, a aquisição de dados de EBSD utilizando-se um tamanho de medida de 0,05 μm para pontos de medição de 500x300 (X x Y). A fase de referência usada pelo software "AZtec" para a aquisição de dados foi: "Electrochem. Soc. [JESOAN], (1950), volume 97, páginas 299-304", sendo referida como "Ti2 C N" no software "AZtec".
[0034] a Figura 1 mostra uma imagem tomada de microscópio eletrônico de varredura (SEM) de uma seção transversal de um revestimento C01, de acordo com a invenção. O revestimento compreende uma camada de TiN (E), uma camada de TiCN de MTCVD (D), uma camada de ligação (B) e uma camada de α-alumina mais externa (A). A porção (C) da camada de TiCN de MTCVD que exibe o gráfico de polos de EBSD é indicada na figura.
[0035] A figura 2 ilustra versões de contorno de imagens polos {211} e {110}, a partir do revestimento C01. A intensidade máxima é estabelecida em 3, conforme indicado pela etiqueta.
[0036] A figura 3 ilustra um gráfico de polos {211} dos dados da imagem de polo de EBSD do revestimento C01, com um tamanho de compartimento de 0,25° em uma faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45°.
[0037] A figura 4 representa um gráfico de polos {110} dos dados da imagem de polo de EBSD do revestimento C01, com um tamanho de compartimento de 0,25° em uma faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45°.
[0038] A figura 5 ilustra versões de contorno de imagens de polos {211} e {110}, a partir do revestimento C06. A intensidade máxima é estabelecida em 3, conforme indicado pela etiqueta.
[0039] A figura 6 ilustra um gráfico de polos {211} dos dados da imagem de polo de EBSD do revestimento C06, com um tamanho de compartimento de 0,25° em uma faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45°.
[0040] A figura 7 ilustra um gráfico de polos {110} dos dados da imagem de polo de EBSD do revestimento C06, com um tamanho de compartimento de 0,25° em uma faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45°.
[0041] Modalidades exemplificativas da presente invenção serão agora descritas em maiores detalhes e comparadas com as modalidades de referência. Ferramentas de corte revestidas (pastilhas) foram fabricadas, analisadas e avaliadas em um teste de corte.
[0042] Pastilhas com geometria tipo Coromant R390-11T308M-PM, Coromant R245-12T3 M-PM1 e ISO do Tipo SNMA 120408 foram primeiramente revestidas com uma camada fina de aproximadamente 0,4 μm de TiN, depois, com uma camada de aproximadamente 2,5 μm de TiCN, empregando-se a técnica bem conhecida de MTCVD, utilizando TÍCI4, CH3CN, N2, HCl e H2, sob uma temperatura de 885°C. Os detalhes da deposição de TiN e TiCN são mostrados na Tabela 1. Tabela 1 - Deposição of TiN e TiCN a partir do processo de MTCVD
[0043] O tempo de deposição para as camadas de TiCN interna e TiCN externa foi de 10 e 65 minutos, respectivamente. Na parte superior da camada de TiCN de MTCVD foi depositada uma camada de ligação de 0,5-1 μm, depositada sob temperatura de 1000°C, mediante um processo consistindo de quatro etapas de reação separadas. Primeiramente, uma etapa de deposição de TiCN produzida por um processo de HTCVD, utilizando TiCl4, CH4, N2, HCl e H2, sob pressão de 400 mbar, depois, uma segunda etapa de deposição de (TiCNO-1) usando TiCl4, CH3CN, CO, N2 e H2, sob pressão de 70 mbar, em seguida, uma terceira etapa de deposição de (TiCNO-2) utilizando TiCl4, CH3CN, CO, N2 e H2, sob pressão de 70 mbar e, finalmente, uma quarta etapa de deposição de (TiCNO-3) com a utilização de TiCl4, CO, N2 e H2, sob pressão de 70 mbar. Durante a terceira e quarta etapas de deposição, alguns dos gases foram continuamente alterados, conforme indicado por um primeiro nível de partida e um segundo nível de parada, apresentados na Tabela 2. Antes do início da subsequente nucleação de Al2O3, a camada de ligação foi oxidada por 4 minutos em uma mistura de CO2, CO, N2 e H2. Os detalhes da deposição da camada de ligação são mostrados na seguinte tabela 2. Tabela 2 - Deposição da Camada de Ligação [
[0044] Na parte superior da camada de ligação foi depositada uma camada α-Al2O3. A camada de α-Al2O3 foi depositada sob temperatura de 1000°C e pressão de 55 mbar, em duas etapas. A primeira etapa utilizou 1,2% em volume de AlCls, 4,7% em volume de CO2, 1,8% em volume de HCl e balanço de H2, proporcionando cerca de 0,1 μm de uma camada de α-Al2O3, e a segunda etapa utilizou 1,2% de AlCls, 4,7% de CO2, 2,9% de HCl, 0,58% de H2S e o balanço de H2, proporcionando uma espessura total de camada de α-Al2O3 de cerca de 3 μm.
[0045] Uma imagem produzida mediante um dispositivo SEM de uma seção transversal do revestimento C01 que sofreu jateamento de areia é mostrada na Figura 1. Conforme pode ser observado do substrato, o revestimento C01 compreende uma camada de TiCN, uma camada de TiCN de MTCVD, isto é, a camada interna e a camada externa de TiCN de MTCVD, uma camada de ligação, isto é, TiCN de HTCVD, TiCNO-1, TiCNO-2, TiCNO-3, e uma camada mais externa de α- Al2O3. As espessuras destas camadas podem ser, por exemplo, estudadas em uma imagem de SEM.
[0046] O mesmo tipo de geometria usada com a camada de revestimento C01 foi também aqui usada, onde, primeiramente a camada C02 foi revestida com uma camada fina de cerca de 0,4 μm de TiN, em seguida com uma camada de TiCN de aproximadamente 1,5 μm, empregando-se a técnica bem conhecida de MTCVD, utilizando TiCl4, CH3CN, N2, HCl e H2, sob temperatura de 885°C. A proporção em volume de TiCl4/CH3CN em uma parte inicial da deposição da camada de TiCN por MTCVD foi de 6,6, seguido de um período utilizando uma proporção de TiCl4/CH3CN de 3,7. Os detalhes da deposição de TiN e TiCN são mostrados na tabela 1.
[0047] O tempo de deposição para a camadas interna de TiCN e externa de TiCN foi de 30 e 10 minutos, respectivamente. Na parte superior da camada de TiCN de MTCVD foi depositada uma camada de ligação de 1-2 μm, depositada sob temperatura de 1000°C, mediante um processo consistindo de quatro etapas de reação separadas. Primeiramente, uma etapa de deposição de TiCN produzida por um processo de HTCVD, utilizando TiCl4, CH4, N2, HCl e H2, sob pressão de 400 mbar, depois, uma segunda etapa de deposição de (TiCNO-1) usando TiCl4, CH3CN, CO, N2 e H2, sob pressão de 70 mbar, em seguida, uma terceira etapa de deposição de (TiCNO-2) utilizando TiCl4, CH3CN, CO, N2 e H2, sob pressão de 70 mbar e, finalmente, uma quarta etapa de deposição de (TiCNO-3) com a utilização de TiCl4, CO, N2 e H2, sob pressão de 70 mbar. Durante a terceira e quarta etapas de deposição, alguns dos gases foram continuamente alterados, conforme indicado por um primeiro nível de partida e um segundo nível de parada, apresentados na Tabela 2. O tempo das etapas de crescimento da camada de ligação foram dobrados, se comparado com o revestimento C01. Antes do início da subsequente nucleação de Al2O3, a camada de ligação foi oxidada por 4 minutos em uma mistura de CO2, CO, N2 e H2. Os detalhes da deposição da camada de ligação são mostrados na Tabela 2.
[0048] Na parte superior da camada de ligação foi depositada uma camada α-Al2O3. A camada de α-Al2O3 foi depositada sob temperatura de 1000°C e pressão de 55 mbar em duas etapas. A primeira etapa utilizou 1,2% em volume de AlCls, 4,7% em volume de CO2, 1,8% em volume de HCl e balanço de H2, proporcionando cerca de 0,1 μm de uma camada de α-Al2O3, e a segunda etapa utilizou 1,2% de AlCls, 4,7% de CO2, 2,9% de HCl, 0,58% de H2S e balanço de H2, proporcionando uma espessura total de camada de α-Al2O3 de cerca de 3 μm.
[0049] O revestimento C03 corresponde ao revestimento C01, mas, com a diferença de que a camada externa de TiCN foi depositada por 105 minutos, em vez de 65, e que a espessura da camada de α-Al2O3 foi depositada com cerca de 2 μm.
[0050] O revestimento C04 corresponde ao revestimento C01, mas, com a diferença de que a camada externa de TiCN foi depositada por 25 minutos, em vez de 65, e que a espessura da camada de α-Al2O3 foi depositada com cerca de 4 μm.
[0051] Foi usado o mesmo tipo de geometria que dos revestimentos anteriores, onde o revestimento C05 foi primeiramente revestido com uma camada fina de TiN de aproximadamente 0,4 μm, depois, com uma camada de TiCN de aproximadamente 1,5 μm, empregando-se a técnica bem conhecida de MTCVD, utilizando-se TiCl4, CH3CN, N2, HCl e H2, sob temperatura de 885°C. A proporção em volume de TiCl4/CH3CN na deposição da camada de TiCN por MTCVD foi de 2,2. Os detalhes da deposição de TiN e TiCN são mostrados na seguinte tabela 3. Tabela 3 — Deposição de TiN e TiCN por MTCVD
[0052] Na parte superior da camada de TiCN de MTCVD ligação foi depositada uma camada de ligação de 0,5-1 μm de espessura, depositada sob temperatura de 1010°C e pressão de 55 mbar, utilizando 3,03% em volume de TiCl4, 6,06% em volume de CO e 90,1% em volume de H2. Antes do início da subsequente nucleação de Al2O3, a camada de ligação foi oxidada por 2 minutos em uma mistura de H2, CO2 e HCl.
[0053] Na parte superior da camada de ligação foi depositada uma camada α-Al2θ3. A camada de α-Al2θ3 foi depositada sob temperatura de 1010°C e pressão de 55 mbar em duas etapas. A primeira etapa utilizou 2,3% em volume de AlClβ, 4,6% em volume de CO2, 1,7% em volume de HCl e balanço de H2, proporcionando cerca de 0,1 μm de uma camada de α-Al2θ3, e a segunda etapa utilizou 2,2% de AlCls, 4,4% de CO2, 5,5% de HCl, 0,33% de H2S e balanço de H2, proporcionando uma espessura total de camada de α-Al2θ3 de cerca de 2,7 μm.
[0053] O revestimento C06 corresponde ao revestimento C02, mas, com a diferença de que a camada de TiCN externa foi depositado por 40 minutos, em vez de 10 minutos, e que o processo de deposição foi interrompido após esta etapa.
[0054] As espessuras das camadas foram analisadas em um microscópio ótico de luz, mediante estudo de uma seção transversal de cada revestimento, com uma ampliação de 1000x. As espessuras também podem ser estudadas em uma imagem de dispositivo SEM. Os resultados são apresentados na tabela 4.
[0055] O método de XRD foi usado para analisar os valores do coeficiente de textura (TC) das camadas de α- Al2O3 e TiCN de MTCVD, de acordo com o método descrito acima. A análise de textura foi feita em substratos revestidos de metal duro, conforme a Norma ISO, tipo SNMA120408. Deve ser observado que o TC(311) da camada de TiCN de MTCVD é perturbado por um pico de WC, e que este não é corrigido para o cálculo do TC (220) e TC (422), conforme apresentado na tabela 5. Tabela 4 - Espessuras de Camadas e Coeficiente de Textura
[0056] Um alto TC(0 0 12) é vantajoso para a obtenção de uma alta resistência ao desgaste tipo cratera. A textura da camada de α-Al2O3 é controlada pelos parâmetros do processo durante a deposição e é revelada com espessura aumentada da camada de α-Al2O3. A textura da camada de α-Al2O3 é também influenciada pela textura da camada precedente de TiCN de MTCVD. Se a camada de α-Al2O3 for muito fina, sua orientação é menos pronunciada. Os revestimentos C01 e C04 apresentam um TC muito alto (0 0 12) e também são os mais resistentes ao desgaste tipo cratera, conforme visto a seguir. O revestimento C03 é provavelmente muito fino para proporcionar este valor bastante alto de TC (0 0 12) . Os revestimentos C02 e C05 são depositados sobre uma camada diferente de TiCN e mediante um diferente processo de obtenção de α-Al2O3 por CVD, não mostrando valores altos de TC (0 0 12). Tabela 5 - Coeficientes de Textura para Camadas de TiCN de MTCVD
[0057] Pode ser observado a partir dos valores de TC da camada de TiCN de MTCVD que o TC(422) e o TC(220) são relativamente baixos. Pode ser também observado que quanto mais espessa for a camada de TiCN de MTCVD, maior será o valor de TC(422) e menor será o valor de TC(220), quando comparados com o revestimento C04 (1,7 μm), C01 (2 μm)) e C03 (3,3 μm), que foram depositados com os correspondentes processos de TiCN de MTCVD.
[0058] Imagens de polos foram medidas por EBSD em uma porção da camada de TiCN de MTCVD, paralela à superfície externa do revestimento e a menos de 1 μm da superfície externa da camada de TiCN de MTCVD dos revestimentos C01, C02, C03, C04 e C06. Para esta medição, os revestimentos C01 e C06 foram providos, em que a camada de TiCN de MTCVD foi a camada mais externa, enquanto que as camadas externas dos revestimentos C02, C03 e C04 foram removidos por polimento com o referido Polidor Dimple, conforme descrito acima, antes da medição. Qualquer camada externa pode ser removida por um especialista versado na técnica, antes de qualquer análise de EBSD, por exemplo, por esmerilhamento e polimento.
[0059] A extração de dados de orientação cristalográfica dos dados de EBSD adquiridos foi feita utilizando o software "HKL Tango" da Oxford Instruments, versão 5.12.60.0 (64-bit) e o software "HKL Mambo" da Oxford Instruments, versão 5.12.60.0 (64 bits). As imagens de polos utilizando projeção de área igual e projeção de hemisfério superior foram recuperadas a partir dos dados de EBSD adquiridos, utilizando o software "HKL Mambo". As imagens de polos recuperadas foram dos polos {211} e {110}, com a direção Z sendo perpendicular à superfície externa dos revestimentos. Os gráficos de polos das imagens de polos {211} e {110} foram extraídos, utilizando uma largura de classe de 0,25° para o tamanho de compartimento no gráfico de polos e para uma faixa de medição angular β, de β = 0° a β ≤45°. A intensidade no gráfico de polos que varia de β = 0° a β ≤ 15° foi correlacionada com a intensidade total no gráfico de polos, que varia de β = 0° a β ≤ 45°. Os gráficos de polos dos polos {211} e {110} do revestimento C01 são mostrados nas figuras 3 e 4, respectivamente. Os gráficos de polos dos polos {211} e {110} do revestimento C06 são mostrados nas figuras 6 e 7, respectivamente. O sinal no gráfico de polos que varia de β = 0° a β ≤ 15° correlacionado ao sinal total no gráfico de polos que varia de β = 0° a β ≤ 45° para os revestimentos C01, C02, C03, C04 e C06 são apresentados na Tabela 6. Tabela 6 - Dados de EBSD
[0060] Versões de contorno das imagens de polos foram calculadas utilizando-se uma meia-largura de 10,0° e um agrupamento de dados de 5,0° para ilustrar a textura. As imagens de polos em contorno {211} e {110} do revestimento C01 São mostradas na figura 2 e do revestimento C06 na figura 5. O máximo assim chamado de intensidade global é ajustado para 3 MUD nestas versões de contorno das imagens de polos.
[0061] Testes de desgaste das pastilhas antes do corte foram conduzidos mediante jateamento sobre as faces inclinadas em um equipamento de jateamento a úmido, utilizando uma pasta fluida de alumina em água, e o ângulo entre a face inclinada da pastilha de corte e a direção da pasta fluida de jateamento foi de cerca de 90°. As granalhas de alumina foram de especificação F220, a pressão da pasta para a pistola foi de 1,8 bar, a pressão de ar para a pistola de 2,0 bar, o tempo médio para jateamento por unidade de área foi de 5 segundos e a distância do bocal da pistola para a superfície da pastilha foi de cerca de 137 mm. O objetivo do jateamento foi influenciar a tensão residual no revestimento e a rugosidade superficial e, assim, melhorar as propriedades das pastilhas no teste de desgaste subsequente.
[0062] Os revestimentos C01-C05 foram avaliados em cinco testes de corte separados.
[0063] Esse teste é para avaliar a resistência ao desgaste tipo cratera na face de corte da ferramenta de corte. No teste de desgaste tipo cratera, os revestimentos C01-C05 foram depositados sobre um substrato de metal duro com uma composição de cerca de 9,14% em peso de Co, 1,15% em peso de Ta, 0,27% em peso de Nb, 5,55% em peso de C e o restante W.
[0064] As ferramentas de corte revestidas do tipo Coromant R39011-T308M-PM foram testadas por jateamento em fresagem inferior no material de peça de trabalho Toolox 33, utilizando os seguintes dados de corte: - Velocidade de corte, (vc) : 300 m/min - Alimentação de corte por dente, (fz): 0,2 mm/dente - Profundidade axial do corte, (ap): 2 mm - Profundidade radial do corte, (aθ): 50 mm - Número de dentes, z: 1 Nenhum fluido de corte foi usado.
[0065] Na análise do desgaste tipo cratera, a área do substrato exposto foi medida utilizando um microscópio ótico de luz. O desgaste de cada ferramenta de corte foi avaliado após 4 cortes, isto é, um corte de 8 minutos. Três testes paralelos foram realizados para cada tipo de revestimento e os valores médios dos resultados são mostrados na Tabela 7.
[0066] Trata-se de um teste para avaliar a resistência em relação à formação de lascas de cavacos na linha de borda. No teste de desgaste de dureza da linha de borda, os revestimentos C01-C05 foram depositados sobre um substrato de metal duro com uma composição de cerca de 13,5% em peso de Co, 0,57% em peso de Cr, 5,19% em peso de C, e o restante W.
[0067] As ferramentas de corte revestidas do tipo Coromant R39011-T308M-PM foram testadas por meio de jateamento em um número de entradas cortadas, em um material de peça de trabalho Dievar, não endurecido, utilizando-se os seguintes dados de corte: - Velocidade de corte, (vc): 150 m/min - Alimentação de corte por dente, (fz) : 0,15 mm/dente - Profundidade axial do corte, (ap): 3 mm - Profundidade radial do corte, (aθ): 12 mm - Número de dentes, z: 1 - Comprimento do corte: 12 mm Nenhum fluido de corte foi usado.
[0068] Na análise da tenacidade da linha de borda, o número de entradas até o critério de corte ser atingido foi estudado. O critério de corte no teste foi uma lasca de cavaco de pelo menos 0,5 mm da linha de borda, ou uma profundidade medida de 0,2 em cada flanco ou na face inclinada. A formação de cavacos foi estudada utilizando um microscópio ótico de luz. Entre oito e dez testes paralelos foram realizados para cada tipo de revestimento. Os resultados são mostrados na Tabela 7, na forma de um valor médio.
[0069] No teste de desgaste de resistência à deformação plástica, foi avaliada a resistência contra a deformação plástica da borda de corte, quando a borda de corte é estampada. Os revestimentos C01-C05 foram depositados sobre um substrato de metal duro com uma composição de cerca de 9,14% em peso de Co, 1,15% em peso de Ta, 0,27% em peso de Nb, 5,55% em peso de C e o restante W.
[0070] As ferramentas de corte revestidas do tipo Coromant R39011-T308M-PM foram testadas por jateamento em fresagem inferior no material de peça de trabalho Toolox 33, utilizando os seguintes dados de corte: - Velocidade de corte, (vc): 300 m/min - Alimentação de corte por dente, (fz) : 0,15 mm/dente - Profundidade axial do corte, (ap): 1,5 mm - Profundidade radial do corte, (aθ): 75 mm - Número de dentes, z: 1 Nenhum fluido de corte foi usado.
[0071] Na análise da resistência contra deformação plástica na estampagem da linha de borda, a área do substrato exposto foi medida utilizando um microscópio ótico de luz. O critério de vida útil da ferramenta é ajustado quando a largura do substrato exposto é ^ 0,2 mm. Três testes paralelos foram realizados para cada tipo de revestimento. Os valores médios dos resultados são mostrados na Tabela 7.
[0072] O teste de resistência à trinca térmica é um teste da resistência contra a formação de fissuras térmicas e formação de cavacos como consequência destas fissuras. Nesse teste, os revestimentos C01-C05 foram depositados sobre um substrato de metal duro, com uma composição de cerca de 13,5% em peso de Co, 0,57% em peso de Cr, 5,19% em peso de C, e o restante W.
[0073] As ferramentas de corte revestidas do tipo Coromant R39011-T308M-PM foram testadas por jateamento em fresagem superior no material de peça de trabalho Toolox 33, utilizando os seguintes dados de corte: - Velocidade de corte, (vc): 250 m/min - Alimentação de corte por dente, (fz) : 0,2 mm/dente - Profundidade axial do corte, (ap): 3 mm - Profundidade radial do corte, (aθ): 40 mm - Número de dentes, z: 1 Um fluido de corte foi usado.
[0074] Na análise do desgaste, a formação de cavacos do revestimento foi estudada utilizando um microscópio ótico de luz. O critério de vida útil foi ajustado para uma profundidade de formação de cavacos de ^ 0,3 mm, ou de largura de formação de cavacos de ^ 1,0 mm. Entre 2 e 5 testes paralelos foram realizados para cada tipo de revestimento. Os resultados são mostrados na forma de valores médios na Tabela 7.
[0075] Esse teste avalia a resistência à trincas térmicas em usinagem a seco. Quando são formadas trincas térmicas, a borda irá sofrer deformação plástica. Nesse teste de desgaste, os revestimentos C01-C05 foram depositados sobre um substrato de metal duro com uma composição de cerca de 9,14% em peso de Co, 1,15% em peso de Ta, 0,27% em peso de Nb, 5,55% em peso de C e o restante W.
[0076] As ferramentas de corte revestidas do tipo Coromant R245-12T3M-PM foram testadas por jateamento em fresagem inferior no material de peça de trabalho Toolox 33, utilizando os seguintes dados de corte: - Velocidade de corte, (vc): 300 m/min - Alimentação de corte por dente, (fz) : 0,46 mm/dente - Profundidade axial do corte, (ap): 2 mm - Profundidade radial do corte, (aθ): 20 mm - Número de dentes, z: 1 Nenhum fluido de corte foi usado.
[0077] Na análise do desgaste tipo cratera, a área do substrato exposto foi medida utilizando um microscópio ótico de luz. O critério de vida útil da ferramenta foi ajustado para uma largura de substrato exposto que excede 0,25 mm. Dois testes paralelos foram realizados para cada tipo de revestimento. Os resultados de valor médio são mostrados na seguinte tabela 7. Tabela 7 - Resultados dos Testes de Corte
[0078] Pode ser concluído que o revestimento C01 é o revestimento global de melhor desempenho. A seleção de espessuras e orientações específicas das camadas do revestimento proporciona um ótimo e inesperado desempenho de propriedades. A ferramenta de corte revestida da invenção funciona melhor em um amplo espectro de aplicações que demandam corte de metal.
[0079] Embora a invenção tenha sido descrita em conexão com várias modalidades exemplificativas, deve ser entendido que a invenção não deve ser limitada às modalidades exemplificativas apresentadas; ao contrário, pretende-se cobrir diversas modificações e disposições equivalentes de acordo com o exposto nas reivindicações anexas.
Claims (11)
1. Ferramenta de corte revestida compreendendo um substrato revestido com um revestimento compreendendo uma camada de α-Al2O3, caracterizada pelo fato de que a espessura da camada de α-Al2θ3 é de 2-4 μm, e em que a camada de α-Al2θ3 apresenta um coeficiente de textura TC(hkl), conforme medido por difração de raios-X utilizando radiação CuKα e varredura θ-2θ, definida de acordo com a fórmula de Harris: onde I(hkl) é a intensidade medida (área integrada) da reflexão (hk), Io(hkl) é a intensidade padrão de acordo com o cartão PDF No. 00-010-0173 da ICDD, n é o número de reflexões usadas no cálculo, e onde as reflexões (hkl) usadas são (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) e (0 0 12), em que o coeficiente de textura TC é (0 0 12) > 7,2, e em que a proporção de I(0 0 12)/I (0 1 14) é > 0,8; em que o revestimento compreende ainda uma camada de TiCN produzida mediante um processo de MTCVD, localizada entre o substrato e a camada de α-Al2θ3, em que a espessura da camada de TiCN de MTCVD é de 2-3 μm, e em que a camada de TiCN de MTCVD apresenta uma imagem de polos {211}, medida por EBSD em uma parte da camada de TiCN de MTCVD, paralela à superfície externa do revestimento e menor que 1 µm a partir da superfície externa da camada de TiCN de MTCVD, em que um gráfico de polos com base nos dados da imagem de polos, com um tamanho de compartimento de 0,25°, em uma faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45° a partir da normal da superfície externa do revestimento mostra uma proporção da intensidade dentro do ângulo de inclinação β ≤ 15° com relação à intensidade dentro da faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45° de ≥ 45%.
2. Ferramenta de corte revestida, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que a camada de TiCN de MTCVD apresenta uma imagem de polos {110}, conforme medida por EBSD, na mesma porção da camada de TiCN de MTCVD conforme definida na reivindicação 1, em que um gráfico de polos com base nos dados da imagem de polos, com um tamanho de compartimento de 0,25°, em uma faixa de ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45° a partir da normal da superfície externa do revestimento, mostra uma proporção de intensidade dentro do ângulo de inclinação β ≤ 15° com relação à intensidade dentro da faixa do ângulo de inclinação de 0° ≤ β ≤ 45° de ≤ 30%.
3. Ferramenta de corte revestida, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizada pelo fato de que a espessura da camada de α-Al2θ3 é de 2,5-3,5 μm.
4. Ferramenta de corte revestida, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato que o revestimento compreende ainda uma camada de ligação que consiste de TiN, TiCN, TiCNO e/ou TiCO, ou uma combinação destes, depositada pelo método de HTCVD, de preferência, TiCN e TiCNO depositada por HTCVD, localizada na porção mais externa da camada de TiCN de MTCVD, e adjacente à camada de α-Al2O3.
5. Ferramenta de corte revestida, de acordo com a reivindicação 4, caracterizada pelo fato de que a espessura da camada de ligação é de 0,5-1 μm.
6. Ferramenta de corte revestida, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que compreende ainda uma camada de TiN mais interna, adjacente ao substrato.
7. Ferramenta de corte revestida, de acordo com a reivindicação 6, caracterizada pelo fato de que a espessura da camada de TiN é de 0,3 a 0,6 μm.
8. Ferramenta de corte revestida, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que o substrato é metal duro, cermet ou cerâmica.
9. Ferramenta de corte revestida, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que o substrato é metal duro, com um teor de Co de 8 a 15% em peso.
10. Ferramenta de corte revestida, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que a ferramenta de corte é uma pastilha de fresagem.
11. Utilização de uma ferramenta de corte revestida, conforme definida em qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizara pelo fato de ser em uma operação de fresagem de aço, preferivelmente, de aço ligado, aço carbono ou aço temperado endurecido.
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