BR112015027518B1 - Dispositivo retentor para fixação pelo menos de um corpo de substrato e método para o tratamento da superfície pelo menos de um corpo de substrato - Google Patents

Abstract

DISPOSITIVO RETENTOR VERSÁTIL PARA O TRATAMENTO DE SUPERFÍCIES DE SUBSTRATOS EM FORMA DE BARRA. A presente invenção refere-se a um dispositivo retentor para fixação pelo menos de um corpo de substrato (10) em formato de barra, de seção transversal variável, ao longo do corpo de substrato em uma área do corpo de substrato BQ1 como uma superfície a ser tratada. O dispositivo retentor abrange pelo menos uma parede perfurada como parede frontal (3) pelo menos com uma abertura (5), um elemento de apoio (9) e um elemento retentor (11), sendo que o elemento de apoio (9) é de tal forma construído e/ou preso na abertura (5) que o corpo do substrato, em posição oblíqua, em sentido alongado, pelo menos em parte pode ser integrado no elemento de apoio (9) e o elemento retentor (11) é de tal forma construído e/ou preso na abertura (5) que o elemento retentor (11) pode reter o corpo de substrato em um ponto entre a área BQ1 e a parte restante do corpo de substrato de tal maneira que a área BQ1 salienta-se pela abertura (5) para fora do dispositivo retentor.

Description

[0001] A presente invenção se refere a um dispositivo retentor para o tratamento de superfícies de substratos em barra. Um dispositivo retentor de acordo com a presente invenção está especialmente bem adequado para o tratamento de superfícies de ferramentas de corte, do tipo de facas em forma de barra.

Estado da Técnica

[0002] Superfícies de muitos objetos são atualmente tratadas a fim de serem alcançadas determinadas propriedades da superfície.

[0003] Superfícies de módulos e ferramentas são atualmente, frequentemente, aperfeiçoadas, de modo acentuado, para especiais usos.

[0004] No caso, a escolha da retenção certa do substrato em cada processo de tratamento de superfície desempenha um papel muito importante. Por isso, estão sendo desenvolvidas retenções convenientes de substratos para processos específicos de tratamento de superfícies que consideram o tipo da superfície a ser tradada, bem como também outras propriedades do substrato (como, por exemplo, formas, dimensões e composição do substrato).

[0005] Um tratamento de superfícies de substratos atualmente convencional é o revestimento. No caso, camadas com propriedades especiais são aplicadas em determinadas superfícies de substratos. Pelo revestimento são atribuídas às superfícies dos substratos melhores propriedades que possibilitam o uso desses substratos em determinados empregos ou um aumento do rendimento destes substratos em um determinado uso.

[0006] Por exemplo, nas ferramentas de corte, comumente as faces de corte (pelo menos parcialmente) são revestidas com camadas protetoras contra desgaste, a fim de aumentar o rendimento do corte dessas ferramentas.

[0007] Para tanto estão sendo desenvolvidos dispositivos especiais de retenção de substratos.

[0008] Por exemplo, o documento de patente DE60002579T2 revela uma retenção de substrato oca que é usada para suporte de um conjunto de brocas para a deposição de um revestimento de cerâmica em áreas das brocas, que se estendem a partir de suas pontas. Esta retenção de substrato abrange:

[0009] - pelo menos uma parede externa perfurada que possui um conjunto de orifícios, dentro dos quais as brocas são de tal modo inseridas que as áreas antes mencionadas se salientam para fora da retenção,

[00010] - uma parede de apoio dentro do compartimento interno oco da retenção para uma ou para cada parede externa perfurada em paralelo para com a parede externa e desta distanciado e tendo uma correspondente disposição de aberturas, a fim de dispor as brocas inseridas com as suas hastes essencialmente em paralelo,

[00011] - um batente dentro do compartimente interno oco da retenção que está distanciado de uma ou de cada parede de superlote para dentro, a fim de posicionar as pontas das brocas com o mesmo diâmetro, as quais se salientam essencialmente na mesma extensão para fora da parede externa sendo que o compartimento oco interno da retenção e o posicionamento das brocas são de tal ordem, que a parte de cada broca esta protegida dentro da parede externa, em relação ao ambiente externo, porém estando exposta à atmosfera no compartimento interno da retenção.

[00012] A retenção acima mencionada tem, todavia, a desvantagem de que lhe falta versatilidade e, por isso, não pode ser simultaneamente empregada para o revestimento de diferentes tipos de substratos em forma de barras, porém somente para o revestimento de substratos (neste caso, de brocas), as quais, essencialmente, apresentam o mesmo comprimento e idêntico diâmetro.

Objetivo da presente invenção

[00013] Constitui objetivo da presente invenção produzir um dispositivo retentor versátil para o tratamento de superfícies de substratos em forma de barras, tendo, pelo menos, duas áreas de seção transversal diferenciada, sendo que uma dessas áreas abrange uma extremidade com uma seção transversal menor do que a seção transversal pelo menos da outra área. A retenção terá de viabilizar que pelo menos a extremidade de seção transversal menor possa ser revestida na mesma forma independente do comprimento total do substrato.

[00014] O dispositivo retentor de acordo com a presente invenção deve, além disso, possibilitar que os substratos, em forma de barra, presos no dispositivo retentor possam ser submetidos a vários processos de tratamento de superfície, sem que os substratos tenham que ser desmontados do dispositivo retentor e depois terem de ser remontados no mesmo ou em um outro dispositivo retentor. Desta maneira, será reduzido o esforço de manipulação e o risco de danificar os substratos.

[00015] Especialmente, um dispositivo retentor de acordo com a presente invenção deve possibilitar a limpeza, tratamento prévio, revestimento e acabamento de facas em forma de barras, de acordo com os requisitos do uso.

Descrição da presente invenção

[00016] As figuras de 1 a 9 devem servir de contribuição para a melhor compreensão e não para a restrição da presente invenção.

[00017] - Figura 1: Corpo de substrato 10 com uma superfície a ser tratada na área do corpo do substrato BQ1 e uma superfície que não deve ser tratada na área do corpo do substrato BQ2.

[00018] - Figura 2: Dispositivo retentor de acordo com uma modalidade da presente invenção, com uma disposição de elemento de apoio 9 para receber corpos de substratos em forma de barras, sendo que os elementos de apoio 9 estão presos em uma parede frontal 3 com um conjunto de aberturas 5, de maneira que em cada abertura 5 está preso um elemento de apoio 9, e sendo que em cada abertura 5 está presente um elemento retentor 11 para reter o corpo do substrato. Os elementos de superlote, mostrados na figura 2, são, por exemplo, perfis retangulares com recessos 30 que devem facilitar uma limpeza dos corpos de substrato 1 (não mostrado na figura 2) por ocasião de um processo de limpeza.

[00019] - Figura 3: Disposição de elementos de apoio 9, na qual os elementos de apoio 9 estão posicionados com um ângulo de inclinação α para com a horizontal e em um plano vertical, em paralelo

[00020] - Figura 4: Dispositivo retentor de acordo com uma modalidade da presente invenção, com uma parede perfurada adicional como parede de apoio 13.

[00021] - Figura 5: Dispositivo retentor de acordo com uma modalidade da presente invenção com elementos de ligação 15 para fixação da posição da parede frontal 3 com relação à parede de apoio 13. Ao mesmo tempo, é mostrado na figura 5 uma disposição de elementos de apoio 9, na qual os elementos de apoio 9 estão dispostos no plano horizontal em corte e, desta maneira, a distância entre os elementos de apoio no plano horizontal, relativamente às áreas mais próximas dos elementos de apoio 9, mais próxima da cobertura frontal 3, é maior do que relativamente às áreas dos elementos de apoio 9 mais distantes da cobertura frontal 3.

[00022] - Figura 6: a) Máscara de cobertura frontal 17 com uma disposição de abertura 5''' e um elemento retentor 11 em cada abertura 5''', e b) dispositivo retentor com uma máscara de cobertura frontal 17. No dispositivo retentor da figura 6b a máscara de cobertura frontal 17 está presente na parede frontal 3 por meio de elementos de ligação 189, por exemplo, parafusos, de maneira que os corpos de substrato 10 como auxílio dos elementos retentores 11 da máscara de cobertura frontal 17 são retidos de tal forma que a área dos corpos de substratos com a superfície a ser tratada se salienta fora do dispositivo retentor através das aberturas 54' eventualmente 5'''. A distância entre a máscara de cobertura frontal 17 e a parede frontal 13 é selecionada de tal forma que não possam ficar presas partículas do jateamento entre a parede frontal 3 e a máscara de cobertura frontal 17, caso, por exemplo, a superfície a ser tratada estiver sendo submetida a um tratamento superficial de jateamento com granulados.

[00023] - Figura 7: Dispositivo retentor de acordo com uma modalidade da presente invenção, com elementos de ligação 15 em forma de paredes, de tal sorte que o dispositivo retentor é construído na forma de um cartucho com gavetas 20 Adicionalmente é mostrada uma coberta 40, a qual, por exemplo, em um processo de revestimento, deve servir para que as áreas que não devem ser tratadas dos corpos de substratos não sejam também revestidas .Portanto, tal coberta 40, no contexto da presente invenção, é especialmente designada como coberta protetora contra revestimento 40.

[00024] - Figura 8: Dispositivo retentor com 2 dispositivos retentores, cada qual segundo uma modalidade da presente invenção, um disposto sobre o outro, a) com uma coberta protetora contra revestimento 40, por exemplo, para realizar um processo de revestimento, e b) sem coberta protetora contra revestimento 40, por exemplo, para realizar um processo de limpeza, ou jateamento com granulados.

[00025] - Figura 9: Dispositivo retentor de acordo com uma modalidade da presente invenção, com uma coberta protetora de transporte 50.

[00026] A tarefa da presente invenção será solucionada, sendo oferecido um dispositivo retentor de configuração aberta.

[00027] A presente invenção se refere a um dispositivo retentor (como o dispositivo retentor descrito, por exemplo, na figura 2), para a fixação de substratos em forma de barra 10 (como,por exemplo, o substrato mostrado na figura 1), tendo pelo menos duas áreas, BQ1 e BQ2 com seções transversais diferenciadas Q1 e Q2, sendo que a extremidade de uma das áreas possui uma seção transversal menor do que a seção transversal pelo menos de outra áreas, por exemplo, Q1 <Q2, sendo que o dispositivo retentor abrange pelo menos uma parede perfurada que possui um conjunto de aberturas, sendo usada como parede frontal 3, na qual podem ser inseridos os substratos em forma de barra, sendo que:

[00028] - em cada abertura 5 da parede frontal 3 está disposto um elemento de apoio 9 (por exemplo, um perfil U ou um perfil retangular), posicionado, a partir do plano da abertura, em sentido ascendente obliquamente, preferencialmente, com um ângulo de inclinação para com a horizontal α (como mostrado na figura 3), sendo superior a 2°, no qual o substrato pode ser posicionado pelo menos parcialmente, e

[00029] - em cada abertura 5 da parede frontal 3 está previsto pelo menos um elemento retentor 11, a fim de poder reter o substrato, em pelo menos um ponto, entre a área da seção transversal menor BQ1 e pelo menos a outra área BQ2.

[00030] No caso, o substrato será de tal forma inserido dentro do dispositivo retentor que a extremidade do substrato está posicionada na área da seção transversal menor BQ1, sob a outra extremidade do substrato. Graças a esta formação do dispositivo retentor, os substratos podem ser inseridos por elementos de apoio dentro do dispositivo retentor na direção da parede frontal, de maneira que os substratos, pela força de gravidade, podem ser prensados contra os elementos retentores, sendo de tal forma retidos pelos elementos retentores que pelo menos a extremidade do substrato, na área da seção transversal menor BQ1, se salientará pela abertura 5 da parede frontal 5 para fora do dispositivo retentor.

[00031] De acordo com uma modalidade da presente invenção, os elementos de apoio 9 possuem duas extremidades e pelo menos um elemento de apoio está de tal modo posicionado que uma extremidade do elemento de apoio está apoiado em abertura 5 da parede frontal 3 (conforme mostrado na figura 2). Preferencialmente, os elementos de apoio 9 são soldados nas aberturas 5.

[00032] Outra variante preferida do dispositivo retentor de acordo com a presente invenção, abrange pelo menos uma segunda parede perfurada, a qual serve de parede de apoio 13 para os elementos de apoio 9. Esta parede de apoio 13 possui também um conjunto de aberturas 5', através das quais os substratos podem ser inseridos dentro do dispositivo retentor. O conjunto de abertura 5' na parede de apoio 13 é igual à disposição de aberturas 5 na parede frontal 3. Desta forma, por exemplo, a extremidade do elemento de apoio 9, distante da parede frontal 3, poderá ser apoiado em uma abertura 5' da parede de apoio 13 (conforme mostrado na figura 4). Preferencialmente, a parede de apoio 13 essencialmente está disposta em paralelo para com a parede frontal 3 e a previsão de aberturas 5' na parede de apoio 13 está situada pelo menos ligeiramente acima daquela da parede frontal 3, de maneira que os elementos de apoio 9 podem ficar apoiados em um ângulo de inclinação α para com a horizontal, conforme já acima mencionado, sendo que a extremidade de um elemento de apoio 9, disposto na parede frontal 3, está situado abaixo da área do elementos de apoio 9, disposto na parede de apoio 13. Preferencialmente, as áreas dos elementos de apoio que estão dispostas nas aberturas 5' da parede de apoio 13, são soldadas nas aberturas 5'.

[00033] Em outra variante preferida de um dispositivo retentor de acordo com a presente invenção, os elementos retentores 11 são produzidos como parte de uma máscara de cobertura frontal 17 com um conjunto de aberturas 5''' (como mostrado, por exemplo, na figura 6a de maneira que a máscara de cobertura frontal pode ser presa na parede frontal, por exemplo, com a ajuda de elementos de ligação 18. Os elementos de ligação 18 podem ser, por exemplo, parafusos, que podem servir de ligações separáveis (como mostrado na figura 6b).

[00034] Baseado na configuração abertura dos dispositivos retentores, de acordo com a presente, invenção, elas viabilizam a limpeza de substratos fixados com dispositivos retentores em banhos de limpeza.

[00035] Preferencialmente, a posição da parede frontal 3 será fixada com relação à posição da parede de apoio 13 dentro do dispositivo retentor por meio de elementos de ligação 15 (como mostrado na figura 5).

[00036] Além disso, um dispositivo retentor deste tipo, com configuração aberta, de acordo coma presente invenção, também poderá ser usado para o tratamento mecânico de superfícies de partes dos substratos que se salientam para fora do dispositivo retentor pelas aberturas 5, 5'''da parede frontal 3 e da máscara de cobertura frontal 17 (Pelo menos a extremidade ou a ponta na área BQ1). No sentido de tratamentos mecânicos de superfícies compreende-se, no contexto da presente invenção, especialmente, a realização de processos de jateamento com granulados.

[00037] Em uma variante preferida de u dispositivo retentor de acordo com a presente invenção, bem adequado especialmente, para a limpeza, revestimento e demais tratamentos de superfície, como, por exemplo, jateamento com granulados (por exemplo, como pré ou pós- tratamento da superfície a ser revestida), de ferramentas de corte do tipo de facas em forma de barra, sendo que os elementos de ligação 15 podem ser paredes (como mostrado na figura 7), a fim de ser evitado que partes do corpo dos substratos também sejam revestidas pelos lados, de forma indesejada. Esta variante é denominada, no contexto da presente invenção, como cartucho com gavetas 20.

[00038] Para conseguir que somente as superfícies desejadas dos substratos, ou seja, no exemplo das facas em forma de barra, a área das pontas dos substratos (pelo menos a extremidade na área BQ1) possam ser eficazmente revestidas por separação de fase gasosa física, o dispositivo retentor de acordo com a presente invenção estará equipado com uma coberta protetora contra revestimento 40, que protege as áreas do substrato que não se salienta para fora por uma abertura 5 da parede frontal 3. Desta forma, será evitado um revestimento indesejado de partes que não devem ser revestidas do corpo do substrato (as quais poderiam ser revestidas por cima, por baixo e/ou por trás).

[00039] No cartucho com gavetas 20 as facas em forma de barras 1- (não mostradas na figura 7) poderiam ser posicionadas como um conjunto de matriz, conforme mostrado na figura 7, como um conjunto de facas em forma de barras (por exemplo, 1 conjunto com 16-22 facas). Por uma constituição simétrica do dispositivo retentor, a máscara de cobertura frontal 17 poderá ser montada em quatro posições, sendo verticalmente deslocada, de maneira que a cada posição de montagem da máscara de cobertura frontal 17, as facas em forma de barra podem ser retidas em um ponto diferente. Desta forma, uma máscara de cobertura frontal 20 pode ser usada de modo mais versátil e, portanto, a mesma máscara de cobertura frontal 17 poderá ser, simplesmente, montada em uma outra posição, para o tratamento da superfície de facas em forma de barra com outras dimensões e/ou geometria.

[00040] O ângulo de inclinação α acima mencionado dos perfis em relação à horizontal deverá ser selecionado suficientemente extenso de maneira que as facas em forma de barra não se desloquem para trás, na direção da área traseira do dispositivo retentor em virtude de quaisquer vibrações do dispositivo retentor. Todavia, o ângulo α também não deverá ser escolhido demasiado grande que as superfícies a serem revestidas dos substratos possam ser de tal modo recobertas que o revestimento destas superfícies seja prejudicado. Por exemplo, em diferentes versões de um dispositivo retentor de acordo com a presente invenção, mostrou ser especialmente conveniente um ângulo de 5° ate 20° da horizontal (conforme esboçado na figura 5).

[00041] Os perfis retangulares 9 receberam em extensão "máxima" recessos 30, como está sendo mostrado, por exemplo, na figura 6b, a fim de ser alcançado um ótimo resultado de limpeza.

[00042] Com a expressão "receberam em extensão máxima recessos 30" pretende-se dizer que os recessos 30", no caso mostrado perfis retangulares 98', estão de tal modo distribuídos que a maior área das facas em forma de barra retidas nos perfis retangulares passa a ficar liberada. Além disso, os perfis terão de receber recessos de tal forma que pelo menos durante um processo de limpeza mais do que 50% da área das facas possa ter contato direto com os produtos de limpeza. Preferencialmente, os perfis recebem recessos de tal forma que os perfis não percam estabilidade mecânica em tal extensão que sejam deformados pelo uso normal da retenção.

[00043] Outra possibilidade de construir "perfis quase retangulares" que possuem, em extensão máxima, recessos, seria o uso de perfis, cuja seção transversal, ao invés de um formato retangular, apresentassem um formato em U. Nesta hipótese, os perfis em U estariam de tal modo posicionados no dispositivo retentor de acordo com a presente invenção, que a face superior das facas em forma de barra, situadas no dispositivo retentor, permaneceria totalmente livre.

[00044] Além disso, a distância entre a máscara de cobertura frontal 17 e o cartucho com gavetas 20 foi de tal modo prevista que a fixação de partículas de um meio de jateamento entre a máscara de cobertura frontal 17 e a parte restante do cartucho com gavetas 20 é evitada. Preferencialmente, esta distância é de > 0.5 mm. Por exemplo, foi possível conseguir resultados muito bons em diferentes processos de jateamento com uma distância de 0.8 mm. Mas deve-se também levar em conta que esta distância não pode ser tão grande e, desta forma, superfícies indesejadas dos substratos também possam ser revestidas.

[00045] Desta maneira, o uso de um dispositivo retentor de acordo com a presente invenção, também é possível para a realização de processos de jateamento como, por exemplo, microjateamento para o tratamento de superfície, tanto antes como também após o revestimento. Desta maneira, resulta uma qualidade uniforme de todo o serviço de revestimento, porém sem o maior esforço de manipulação que é causado com o uso de vários dispositivos retentores (a separação dos substratos a serem tratados, montagem em um primeiro dispositivo retentor, desmontagem, transporte, nova separação, nova montagem em um segundo dispositivo retentor etc.). Também será assim reduzido o risco de danificar as facas em forma de barra durante a manipulação.

[00046] Também a construção do cartucho com gavetas 20 será de tal modo configurado que as facas em forma de barra 10 seriam dispostas conicamente em uma disposição esférica. Deste modo, as facas em forma de barra 10 estão posicionadas mais distantes reciprocamente, o que resulta em uma distribuição de camada, mas uniformizada do revestimento na superfície a ser revestida de todas as facas em forma de barra (tanto das facas em forma de barra externas como também das facas em forma de barra colocadas internamente) (ver figura 6b).Com esta disposição esférica dos perfis retangulares, na qual a distância entre as facas em forma de barra 10 na área traseira BQ2 é reduzida, a distância entre as pontas das facas em forma de barra BQ1 o que produz uma influência positiva sobre a distribuição da espessura da camada.

[00047] Para o uso de um dispositivo retentor de acordo com a presente invenção, em um processo de revestimento a vácuo, no qual pelo menos um alvo é usado como fonte de material sólido para a produção da camada, quando, por exemplo, são revestidas facas em forma de barra de seção transversal retangular ou similar, apresentando pelo menos uma face a ser coberta, as facas em forma de barra 10 nos perfis 9 devem, preferencialmente, ser posicionadas de tal maneira que a face a ser coberta gira na direção do alvo, a fim de viabilizar uma taxa de deposição mais alta sobre a face a ser coberta e as superfícies que não devem ser revestidas das facas em forma de barra BQ2 devem ser recobertas com uma proteção contra revestimento 40 (conforme mostrado na figura 7).

[00048] Preferencialmente, para a construção de um dispositivo retentor de acordo com a presente invenção será usado um material que não prejudica o uso do dispositivo retentor em todos os passos do processo, por exemplo, aço 1.4301. Este material apresenta uma suficiente resistência mecânica, sendo compatível no vácuo, e sendo amagnético e resistente contra as condições reinantes nos processos de limpeza (agentes químicos e temperaturas).

[00049] Processos de tratamento como a limpeza e o microjateamento podem, por exemplo, conforme mostrado na figura 8b, ser realizados pelo menos em um duplo pacote (A + B). Isto também reduz o esforço para a manipulação.

[00050] Para evitar o revestimento de áreas de superfícies indesejadas das facas em forma de barra, por exemplo, BQ2, o cartucho com gavetas 20, com a proteção contra revestimento 40, conforme mostrado na figura 8b, será recoberto. Também para o revestimento podem ser usadas árvores pelo menos em forma de um pacote duplo (A + B), conforme também mostrado na figura 8b.

[00051] De acordo com a invenção pode-se usar o mesmo dispositivo retentor para a realização de todos os passos de processo (por exemplo, limpeza, microjateamento ou jateamento com granulados e revestimento; eventualmente também remoção de camadas, quando se tratar, por exemplo, de um processo químico ou eletroquímico de remoção de camada), sem perder em qualidade do tratamento da superfície.

[00052] No transporte de substratos de um passo do processo para outro em um dispositivo retentor de acordo com a presente invenção, poderia, todavia, acontecer que as áreas dos substratos que se salientam fora da retenção, sejam danificadas. Por isso, estas áreas de substratos preferencialmente, durante o transporte serão cobertas. Por exemplo, pode-se, para tanto, usar uma coberta protetora contra revestimento 50, conforme mostrado na figura 9.

Claims (14)

1. Dispositivo retentor para fixação de pelo menos um corpo de substrato (10) em forma de barra, de seção transversal variável ao longo do corpo do substrato (10) e uma superfície a ser tratada, que se encontra em um a área BQ1 do corpo de substrato (10), abrangendo uma extremidade do corpo do substrato (10) e apresentando uma seção transversal menor do que a parte restante do corpo do substrato (10), sendo que o dispositivo retentor abrange pelo menos uma parede perfurada como parede frontal (3), que possui pelo menos uma abertura (5), caracterizado pelo fato de que o dispositivo retentor compreende pelo menos um elemento de apoio (9) e um elemento retentor (11), que estão dispostos em uma abertura (5), sendo que, - o elemento de apoio (9) é de tal forma construído ou preso na abertura (5), que o corpo do substrato (10) possa ser posicionado longitudinalmente em posição oblíqua com um ângulo de inclinação α para com a horizontal, pelo menos em parte, dentro do elemento de apoio (9), e - o elemento retentor (11) está de tal forma construído ou preso na abertura (5), que o elemento retentor (11) possa reter o corpo de substrato em um ponto entre a área BQ1 e a parte restante do corpo do substrato de tal modo que a área BQ1 salienta-se para fora do dispositivo retentor, sendo que a extremidade do substrato na área com seção transversal menor BQ1 está situada abaixo da outra extremidade do substrato.

2. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o ângulo de inclinação α para com a horizontal é superior a 2°.

3. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o elemento de apoio (9) é alongado e apresenta duas extremidades, sendo que uma extremidade do elemento de apoio (9) está apoiada na parede frontal (3) ou está na parede frontal (3) e a outra extremidade está posicionada distante da parede frontal (3).

4. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 3, caracterizado pelo fato de que o dispositivo retentor abrange pelo menos dois elementos de apoio (9) para fixação de pelo menos dois corpos de substrato (10) que estão dispostos no plano vertical em paralelo e/ou cortando-se no plano horizontal, sendo que a distância no plano horizontal entre os elementos de apoio (9), relativamente das áreas situadas próximas da parede frontal (3), é maior do que em relação as áreas distanciadas da parede frontal (3), de maneira que assim também a distância no plano horizontal entre os corpos de substrato (10) relativamente as áreas situadas próximas da parede frontal (3), poderá ser maior do que em relação as áreas distantes da parede frontal (3).

5. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 3 ou 4, caracterizado pelo fato de que o dispositivo retentor abrange pelo menos uma segunda parede perfurada, afastada da parede frontal (3) por uma distância, e que possui pelo menos uma abertura (5', 5''), e disposta como parede de apoio (13) para os elementos de apoio (9) no dispositivo retentor de tal modo que pelo menos uma parte de um dos elementos de apoio (9) se apoia em uma abertura (5').

6. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo fato de que o número de aberturas no conjunto de aberturas (5') da parede de apoio (13) corresponde ao número de aberturas na disposição de abertura (5) da parede frontal (3) e a parede de apoio (13) no dispositivo retentor está de tal modo posicionada que cada elemento de apoio (9) se apoia ao mesmo tempo em uma abertura (5) e em uma abertura (5').

7. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que a parede de apoio (13) está de tal modo integrada em paralelo no dispositivo retentor, relativamente à parede frontal (3), e/ou a disposição das aberturas (5') é de tal modo concebida que - no plano vertical, cada abertura do conjunto de aberturas (5') está situada acima da respectiva abertura do conjunto de aberturas (5) e/ou - no plano horizontal, a distância entre as aberturas do conjunto de aberturas (5') na parede de apoio está menor do que a distância entre as aberturas do conjunto de aberturas (5') na parede frontal (13).

8. Dispositivo retentor de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que os elementos retentores (11) são configurados como uma máscara de cobertura frontal (17) com um conjunto de aberturas (5''') e a máscara da cobertura frontal (17) estando presa na parede frontal (3) com o auxílio de elementos de ligação (18).

9. Dispositivo retentor de acordo com qualquer uma das reivindicações 5 a 8, caracterizado pelo fato de que o dispositivo retentor abrange elementos de ligação (15) com a ajuda dos quais a posição da parede frontal (3) está presa em relação à posição da parede de apoio (13).

10. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que os elementos de ligação (15) são paredes que formam com a parte restante do dispositivo retentor um cartucho com gavetas (20).

11. Dispositivo retentor de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo fato de que o dispositivo retentor está equipado pelo menos com um corpo de substrato (10) de tal forma que desta maneira a área BQ1 do corpo de substrato (10) salienta-se através de uma das aberturas (5) da parede frontal (3) fora do dispositivo retentor, e desta maneira também a superfície do substrato a ser tratado.

12. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que o dispositivo retentor abrange uma coberta como sendo uma coberta protetora contra revestimento (40) que protege essas áreas do corpo de substrato (10) que não se salientam através da abertura (5) da parede frontal (3).

13. Dispositivo retentor de acordo com a reivindicação 11 ou 12, caracterizado pelo fato de que o dispositivo retentor abrange uma coberta como sendo coberta protetora de transporte (50) que encobre as áreas do corpo do substrato (10) que se salientam pela abertura (5) da parede frontal (3).

14. Método para o tratamento da superfície de pelo menos um corpo de substrato (10), caracterizado pelo fato de que o método abrange a realização pelo menos de um processo de tratamento de superfície, no qual o corpo do substrato (10) se encontra em um dispositivo retentor, como definido em qualquer uma das reivindicações 11 a 13, sendo que o método abrange pelo menos um dos seguintes passos de processo a. até d., a. limpeza do corpo do substrato, por exemplo, em um banho de limpeza, b. tratamento prévio da superfície a ser tratada dos corpos de substrato, por exemplo, em um processo de jateamento com granulado, c. revestimento da superfície a ser tratada do corpo de substrato em um processo de revestimento, d. tratamento sequencial da superfície a ser tratada dos corpos de substrato, sendo que os corpos de substrato são inicialmente separados e carregados em um dispositivo retentor, como definido em qualquer uma das reivindicações precedentes de 1 a 12, e os corpos de substrato de encontram sempre no mesmo dispositivo retentor de maneira que não é necessária uma descarga e recarga no dispositivo retentor entre os passos do processo, os corpos de substrato são transportados no mesmo dispositivo retentor de um para o próximo passo de processo, eventualmente para a realização do processo de revestimento, as superfícies dos corpos de substrato que não devem ser tratadas, e que não se salientam através parede frontal (3) do dispositivo retentor, serão de tal modo recobertos com uma coberta protetora contra revestimento (40), como definida na reivindicação 12, que será evitado um revestimento das superfícies a serem isentadas de tratamento.

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